专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]气体分析装置-CN201610941635.0在审
  • 井户琢也 - 株式会社堀场制作所
  • 2016-10-25 - 2017-08-08 - G01N21/31
  • 本发明提供一种气体分析装置,利用对测量光的吸光,高精度地分析对象气体气体分析装置(100)包括多个光源(1‑1、1‑2、……1‑n)、导入部(5)、受光部(7)和分析部(94),多个光源(1‑1、1‑2、……1‑n)分别同时输出测量光(Lm1、Lm2、……Lmn)。分析部(94)基于多种测量光经过存在多种对象气体中的任意的对象气体的测量空间(S)时由受光部(7)测量的作为合计强度(Im)的测量对象强度(Id)与多种测量光经过不存在多种对象气体中的任意的对象气体的测量空间(S)时由受光部(7)测量的作为合计强度(Im)的基准强度(Id)之差,进行对象气体分析
  • 气体分析装置
  • [发明专利]气体分析装置-CN201710397564.7在审
  • 赤尾幸造;谷口裕 - 富士电机株式会社
  • 2017-05-31 - 2018-01-23 - G01N21/3504
  • 本发明减轻分析对象气体中的薄雾或灰尘的影响。本发明提供的气体分析装置具备对烟道内流通的分析对象气体照射激光的照射部;与照射部相对配置为将烟道夹持,接受通过分析对象气体后的激光的受光部;以及一体型的筒,该筒配置在照射部和受光部之间,以供激光通过内部,在烟道内,形成有面向分析对象气体的上游侧的第一孔和面向分析对象气体的下游侧的第二孔。
  • 气体分析装置
  • [发明专利]气体分析装置-CN201710140558.3在审
  • 大西敏和;辻本敏行 - 株式会社堀场制作所
  • 2012-12-27 - 2017-12-01 - G01N21/85
  • 本发明涉及具有通过光学测定系统测定在配管内流动的试样气体的浓度的气体分析用探测器的气体分析装置,其抑制热透镜效应现象的影响,提高测定精度。气体分析装置(1)包括用于将在配管内流动的试样气体导入内部中空的规定测定区域的、与配管内的试样气体的流路交叉配置的探测管(11);分别向探测管(11)的测定区域照射测定光、接收通过了测定区域内的试样气体的测定光的发光部(15)和受光部(16);为了向这些光学系统构件与测定区域之间的区域提供吹扫气体而配置于探测管(11)内的、与探测管(11)的内壁面隔开间隙地配置的吹扫气体提供管(26)。
  • 气体分析装置
  • [发明专利]气体分析装置-CN201710338344.7在审
  • 深见瞬;茂原治久;青木伸太郎 - 株式会社堀场制作所
  • 2017-05-15 - 2017-12-05 - G01N27/62
  • 本发明提供气体分析装置,其具有FID等需要点火的分析设备,为了能使装置整体小型化并使所述分析设备可靠地点火,其包括第一分析设备和第二分析设备,导入试样气体;第一气体管道,设有第一分析设备;第二气体管道,设有第二分析设备,并在第一气体管道的第一分析设备的下游侧汇合,第一分析设备和第二分析设备的至少一方在分析试样气体时在设有该分析设备的气体管道中引起压力变动,在另一方的分析设备与各气体管道的汇合部位之间设有第一逆流防止机构,防止流体从一方的分析设备经由汇合部位向另一方的分析设备逆流。
  • 气体分析装置
  • [发明专利]气体分析装置-CN202080024324.2在审
  • 高桥直树;柏拉卡斯·斯里达尔·穆尔蒂 - ATONARP株式会社
  • 2020-03-24 - 2021-11-19 - H01J49/10
  • 本发明提供一种气体分析装置(1),具有:样品腔室(11),其具备介电性的壁体构造(12),仅流入作为测定对象的样品气体(9);等离子体生成机构(13),其借由介电性的壁体构造来通过电场和/或磁场在被减压后的样品腔室内生成等离子体(18);以及分析单元(21),其借由所生成的等离子体来分析样品气体。能够提供一种即使是含有腐蚀性气体的样品气体也能够长时间、高精度地进行分析气体分析装置
  • 气体分析装置
  • [发明专利]气体分析装置-CN202111628845.1在审
  • 米谷康弘;井之上哲志;生田卓司;阪仓诚司 - 株式会社堀场制作所
  • 2021-12-28 - 2022-07-19 - G01N21/61
  • 本发明提供气体分析装置,使分析装置紧凑且抑制保养作业量的增加。分析装置(100、200)包括光源(3)、第一气动检测器(53)、第二气动检测器(55)、第三气动检测器(57)和运算部(7)。第一气动检测器测定由第一成分气体(Gs1)吸收的测定光的强度。第二气动检测器测定由第二成分气体(Gs2)吸收的测定光的强度。第三气动检测器将由光吸收特性与第一成分气体和第二成分气体的光吸收特性至少部分重复的第三成分气体(Gs3)吸收的测定光的强度测定为第一通过测定光(Lm1)的强度。运算部(7)根据第一通过测定光的强度算出与第三成分气体(Gs3)相关的信息。
  • 气体分析装置
  • [发明专利]气体分析装置-CN202180086309.5在审
  • 赤松武;中山将人 - 株式会社堀场STEC
  • 2021-12-21 - 2023-09-19 - G01N21/03
  • 一种气体分析装置100,其为了减少以安装部位等为支点产生的重力方向上的力矩,尽可能地抑制光轴偏移,通过对气体照射激光,并且检测透过该气体的激光,从而对气体中所含的测定对象成分进行分析,并具备:气体单元1,其安装于供气体流动的配管H而导入该气体;以及长条状的光学单元2,其从预定的连接方向X与气体单元1连接,并收容以配置于激光的光路上的状态被压盘10支承的光学系统6而成,光学单元2相对于连接方向X而立起。
  • 气体分析装置
  • [发明专利]气体分析装置-CN201210580054.0有效
  • 大西敏和;辻本敏行 - 株式会社堀场制作所
  • 2012-12-27 - 2017-04-12 - G01N21/17
  • 本发明涉及具有通过光学测定系统测定在配管内流动的试样气体的浓度的气体分析用探测器的气体分析装置,其抑制热透镜效应现象的影响,提高测定精度。气体分析装置(1)包括用于将在配管内流动的试样气体导入内部中空的规定测定区域的、与配管内的试样气体的流路交叉配置的探测管(11);分别向探测管(11)的测定区域照射测定光、接收通过了测定区域内的试样气体的测定光的发光部(15)和受光部(16);为了向这些光学系统构件与测定区域之间的区域提供吹扫气体而配置于探测管(11)内的、与探测管(11)的内壁面隔开间隙地配置的吹扫气体提供管(26)。
  • 气体分析装置
  • [发明专利]气体分析装置-CN201580024502.0有效
  • 井户琢也;平田泰士;中川聪朗 - 株式会社堀场制作所
  • 2015-09-30 - 2020-07-17 - G01N21/61
  • 本发明提供一种气体分析装置,其利用光学测定系统测定配管内流动的气体的浓度,防止安装于配管侧壁的探测器的根部和凸缘发生腐蚀。气体分析装置(1)具备探测管(11)、凸缘(13)、光学系统部件和加热器(31)。探测管(11)包括用于向烟道(50)内流动的试样气体(S)的规定的测定区域投射测定光和/或接收来自测定区域的测定光的光路。凸缘(13)固定于探测管(11)的外周,且装配于配管侧壁(21)。光学系统部件对测定区域内的试样气体(S)投射测定光和/或接收来自测定区域的测定光。加热器(31)设置在凸缘(13)内,对探测管(11)与凸缘(13)的固定部分进行加热。
  • 气体分析装置
  • [发明专利]气体分析装置-CN201910266635.9有效
  • 小林由贵;松尾纯一;藤村直之 - 横河电机株式会社
  • 2019-04-03 - 2022-05-03 - G01N21/31
  • 本发明提供一种气体分析装置,该气体分析装置(1)包括:向包含待测气体(G)的测定区域(R1)照射测定光的发光部(21);接收通过测定区域(R1)后的测定光的第一光接收部(22);配置在发光部(21)与测定区域(R1)之间且将发光部(21)所照射的测定光的一部分分光为参照光的分光部(24);包含有与待测气体(G)中的测定对象成分相同且浓度已知的气体并具有接收通过包含有气体的区域后的参照光的第二光接收部(26)的参照部(25);以及配置在分光部(24)与包含有气体的区域之间的光学器件(28),光学器件(28)使第二光接收部(26)上参照光的光束直径大于第二光接收部(26)的光接收直径。
  • 气体分析装置

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