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[发明专利]倾斜扫描式光刻机在步进式曝光时的二维拼接处理方法-CN201510662680.8有效
发明人：陆敏婷 -专利权人：合肥芯碁微电子装备有限公司
申请日： 2015-09-30 - 公布日： 2017-10-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供一种倾斜扫描式光刻机在步进式曝光时的二维拼接处理方法，包括计算出待曝光图形每次拆分的单色位图大小；将待曝光图形拆分成若干个单色位图，不足部分以黑图填充；旋转单色位图并扩展至图形发生器视场大小；移动精密运动平台，逐行完成曝光。本发明解决了倾斜扫描式光刻机在步进式曝光过程中拼接处无法正常拼接的问题，在拆分曝光图形时，根据图形发生器与精密运动平台的固定夹角对曝光图形进行变换处理，通过控制精密运动平台将各个单色位图组合成一个完整的曝光图形，使最终刻蚀后的图形在所有的拼接位置均达到良好的拼接效果，从而提高了倾斜扫描式光刻机步进式曝光的质量。
倾斜扫描光刻步进曝光二维拼接处理方法

[发明专利]一种芯片制备方法-CN202111529273.1在审
发明人：赵万利;葛欢;吴沛飞 -专利权人：全球能源互联网研究院有限公司;国家电网有限公司;国网山西省电力公司检修分公司
申请日： 2021-12-14 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：本发明提供了一种芯片制备方法，该法包括：晶圆打标号、晶圆预清洗、PECVD在晶圆表面沉积致密SiO2薄膜、涂覆光刻胶、步进式光刻机曝光、曝光后显影、步进式光刻机第二次套刻曝光、步进式光刻机第三次套刻曝光、曝光后显影、坚膜、干法刻蚀、去除光刻胶和自动划片。
一种芯片制备方法

[实用新型]一种行走式PCB板自动曝光装置-CN201620295345.9有效
发明人：金建新 -专利权人：苏州市王氏电路板有限公司
申请日： 2016-04-11 - 公布日： 2016-08-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种行走式PCB板自动曝光装置，包括箱体、真空曝光框、两根相互平行布置的导杆、移动风箱、散热器、LED高能曝光灯、曝光罩、齿条、步进电机、齿轮、控制器，将PCB板放置于真空曝光框，控制器控制步进电机带动齿轮转动，从而带动移动风箱沿着导杆平移，控制器控制LED高能曝光灯工作，LED高能曝光灯产生的光线通过设置于曝光罩上的曝光孔直接照射于PCB板表面，对其进行曝光，LED高能曝光灯工作产生的热量通过散热器经散热孔排出，调节步进电机转速，即可调节曝光速度等参数，从而改变曝光效果。该装置结构简单，通过行走式扫描方式，自动连续对PCB板进行曝光，降低能源消耗，且曝光效果可调，同时，工作平稳连续，散热效果好。
一种行走 pcb 自动曝光装置

[发明专利]一种接近接触式曝光装置-CN202211503009.5在审
发明人：请求不公布姓名 -专利权人：深圳智达星空科技（集团）有限公司;智慧星空（上海）工程技术有限公司
申请日： 2022-11-28 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明属于半导体加工装置技术领域，具体涉及一种接近接触式曝光装置。本发明在传统接近接触式曝光装置的基础上，设置一个比基片待曝光区域小的曝光照明视场，同时设置支撑掩摸台和基片台或者支撑照明系统的步进或扫描运动装置，在掩模版和基片完成调焦调平和对准之后，通过驱动上述步进或扫描运动装置使照明系统相对掩摸台和基片台运动，从而完成对基片的全片曝光。本发明可以支持在曝光光源视场小于基片待曝光区域的情况下完成对基片的完整曝光，因此可以设置更精密的曝光光源，使接近接触式曝光的分辨率至3um以下；本发明可在步进或扫描曝光过程中，通过掩摸台或基片台实时微调掩摸和基片的相对位置
一种接近接触曝光装置

[发明专利]步进式曝光机的图案影像设定及倍率误差补偿方法-CN200610036082.0有效
发明人：梁茂生;梁茂忠;高启清 -专利权人：志圣科技（广州）有限公司
申请日： 2006-06-26 - 公布日： 2006-11-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种步进式曝光机的图案影像设定及倍率误差补偿方法，其中图案影像设定方法为：(A)获取图案影像的容许对准误差与相对于目标曝光区的二维方向上的倍率误差的差异值；及(B)根据该容许对准误差与该差异值来决定图案影像的宽度值，及使该图案影像长度值大于两倍的该宽度值；倍率误差补偿方法为：(A)设定与图案影像的长边平行方向的长轴方向，测量在长轴方向上目标曝光区与图案影像间的倍率误差；及(B)若该倍率误差不等于零时，对应调整步进式曝光机的投影倍率，使图案影像与目标曝光区在长轴方向上的倍率误差为零。本发明的方法可提高步进式曝光机的对准精确度及曝光效率。
步进曝光图案影像设定倍率误差补偿方法

[发明专利]步进排列式干涉微影方法与系统-CN200810130790.X有效
发明人：颜家钰;张所鋐;陈正宏;陈联圣 -专利权人：财团法人工业技术研究院
申请日： 2008-07-21 - 公布日： 2010-01-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种步进排列式干涉微影方法，其主要是在干涉微影前先对干涉光束相较于移动承载偏移误差进行量测，以减低后来利用步进式曝光拼接纳米微结构图案时相邻的图案间的位移偏差。此外，本发明更提供一步进排列式干涉微影系统，于步进控制移动的过程中补偿干涉光束曝光时所造成的误差，达成在二维平面上大面积的步进式的精密对位，并且通过多次曝光将微结构精确接合，以产生出大面积的周期性结构。
步进排列干涉方法系统

[发明专利]一种双台面直写式曝光机的曝光系统和曝光方法-CN201610627143.4在审
发明人：赵永翠;陈海巍 -专利权人：无锡影速半导体科技有限公司
申请日： 2016-08-02 - 公布日： 2016-11-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明属于直写式曝光机的技术领域，具体涉及一种双台面直写式曝光机的曝光系统和曝光方法；解决的技术问题为：提供一种结构稳定、曝光效率较高的双台面直写式曝光机的曝光系统和曝光方法；采用的技术方案为：包括支撑板，支撑板通过支撑柱设置于双台面上方，支撑板上设有挖空部，挖空部的两侧分别设置有两根线性导轨，两根线性导轨上设有光路安装板，光路安装板通过驱动机构可在两条线性导轨上作步进运动，步进运动的方向垂直于双台面运动的方向，光路安装板上设有用于发射曝光光束的光路镜筒，光路镜筒的曝光方向朝向所述双台面；本发明适用于PCB板曝光领域。
一种台面直写式曝光系统方法

[发明专利]提高光刻机作业效率的方法-CN201310655037.3有效
发明人：洪雪辉;陈卢佳 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2013-12-06 - 公布日： 2017-01-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种提高光刻机作业效率的方法，包括步骤1）步进式光刻机关联工程的掩膜版与扫描式光刻机关联工程的掩膜版成90度旋转；2）关联的对准标记与套刻测量标记均以步进式光刻机的曝光尺寸为单位进行放置。本发明通过调整在步进式光刻机上的曝光方向，在最大限度利用扫描式光刻机产能的基础上，减少步进式光刻机的损失，从而最大程度提升光刻机的整体作业效率。
提高光刻作业效率方法

[发明专利]一种双台面直写式曝光机及其曝光方法-CN201811312705.1在审
发明人：不公告发明人 -专利权人：苏州源卓光电科技有限公司
申请日： 2018-11-06 - 公布日： 2019-01-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种双台面直写式曝光机，提升了设备利用率,减少了设备各系统的工作的空闲时间,从而有效提升了曝光机的产能，包括底座和通过龙门机构顺序设置在底座上的对位机构、曝光机构，在底座上设置有两个相互平行设置的步进轴运动组件，步进轴运动组件上分别安装有Z轴运动组件，步进轴运动组件能够带动Z轴运动组件前后移动经过对位机构、曝光机构，Z轴运动组件分别与基板承载台面固定连接，基板承载台面上设有吸盘，基板承载台面一上一下设置成两层，Z轴运动组件能够带动基板承载台面上下移动使得曝光焦面对准，此外，本发明还提供了一种双台面直写式曝光机的曝光方法。
台面曝光机基板承载轴运动步进直写底座对位机构曝光机构曝光设备利用率吸盘基板承载台机构顺序平行设置前后移动上下移动一上一下产能焦面两层龙门空闲对准

[发明专利]基于UV-LED光刻光源的步进式曝光方法-CN202010637120.8在审
发明人：朱煜;杨开明 -专利权人：北京华卓精科科技股份有限公司
申请日： 2020-07-03 - 公布日： 2020-10-20 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种基于UV‑LED光刻光源的步进式曝光方法，包括：利用UV‑LED光源作为光刻光源，以形成光强均匀分布的曝光场；通过掩模对准系统将掩模标记与晶圆标记对准；通过微透镜阵列对所述UV‑LED光源的出光光束进行准直，并在掩模表面形成正方形曝光光斑；通过步进式曝光将掩模图案传递到涂有光刻胶的晶圆上。本发明可实现无限大曝光区域，可以实现亚微米级掩模对准精度，为实现高精度光刻奠定基础。
基于 uv led 光刻光源步进曝光方法

[实用新型]一种双台面直写式曝光机的曝光系统-CN201620831924.0有效
发明人： -专利权人：
申请日： 2016-08-02 - 公布日： 2017-01-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型属于直写式曝光机的技术领域，具体涉及一种双台面直写式曝光机的曝光系统和曝光方法；解决的技术问题为：提供一种结构稳定、曝光效率较高的双台面直写式曝光机的曝光系统；采用的技术方案为：包括支撑板，支撑板通过支撑柱设置于双台面上方，支撑板上设有挖空部，挖空部的两侧分别设置有两根线性导轨，两根线性导轨上设有光路安装板，光路安装板通过驱动机构可在两条线性导轨上作步进运动，步进运动的方向垂直于双台面运动的方向，光路安装板上设有用于发射曝光光束的光路镜筒，光路镜筒的曝光方向朝向所述双台面；本实用新型适用于PCB板曝光领域。
一种台面直写式曝光系统

[实用新型]一种双台面激光直写式曝光机-CN201822049628.7有效
发明人：张雷;李伟成 -专利权人：苏州源卓光电科技有限公司
申请日： 2018-12-07 - 公布日： 2019-06-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种双台面激光直写式曝光机，提升了设备利用率,减少了设备各系统的工作的空闲时间,从而有效提升了曝光机的产能，包括底座和通过龙门机构顺序设置在底座上的对位机构、曝光机构，在底座上设置有两个步进轴运动组件，两个步进轴运动组件一上一下相互错开设置成两层，步进轴运动组件连接有基板承载台面用于承载基板，步进轴运动组件能够带动基板承载台面前后移动经过对位机构、曝光机构进行对位和曝光；对位机构包括安装在龙门机构上的对位轴运动组件、第一Z轴运动组件、对位系统，曝光机构包括安装在龙门机构上的扫描轴运动组件、第二Z轴运动组件、曝光系统。
轴运动台面步进对位机构曝光机构曝光机龙门底座基板承载激光直写对位设备利用率本实用新型承载基板错开设置对位系统机构顺序曝光系统前后移动一上一下运动组件组件连接扫描轴产能两层空闲曝光

[实用新型]一种直写式曝光机-CN201920726893.6有效
发明人：钱志斌;李伟成;张雷 -专利权人：苏州源卓光电科技有限公司
申请日： 2019-05-21 - 公布日： 2020-01-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种直写式曝光机，其包括底座、置于所述底座上平行排列的第一龙门机构、第二龙门机构、步进轴运动组件、置于所述步进轴运动组件上的基板平台组件、置于第一龙门机构的对位机构、置于第二龙门机构曝光机构，所述第一龙门机构和第二龙门机构将所述底座分为上板区、对位区、曝光区和下板区，所述上板区位于所述第一龙门机构前，所述对位区位于所述第一龙门机构下方，所述曝光区位于所述第二龙门机构下方，所述下板区与所述曝光区重合或部分重合或位于所述第二龙门机构后方，所述步进轴运动组件带动所述基板平台组件依次穿过上述区域。所述直写式曝光机更加有利于应用于全自动化的方式。
龙门曝光区轴运动步进底座基板平台曝光机重合对位上板下板直写本实用新型对位机构曝光机构全自动化组件带动穿过应用

[实用新型]一种旋转式三维曝光装置-CN201320715430.2有效
发明人：陈勇;石剑;唐亚东;张正涛;曹一平 -专利权人：武汉介观生物科技有限责任公司;江汉大学
申请日： 2013-11-14 - 公布日： 2014-09-10 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种旋转式三维曝光装置，包括一个旋转样品台和驱动旋转样品台的第一步进马达，所述旋转样品台和第一步进马达垂直固定在一个旋转可控的中轴上，所述中轴通过轴承固定在机箱上并由第二步进马达驱动，所述的旋转样品台上方设有LED平行紫外光源，机箱上设有控制面板，控制面板上设有显示屏，显示屏下方依次设有倾斜角旋钮、步进角度旋钮、间隔时间旋钮、启动曝光按钮和停止曝光按钮；本实用新型的有益效果是：1.曝光平面方向任意可调；2.样品在曝光平面的旋转任意可调；3.适用于各类斜向曝光，包括连续旋转曝光、分步多角度曝光；4.可以对样品进行正向或背向曝光；5.系统制作简单，操作灵活，结构紧凑，成本低，可批量生产。
一种旋转三维曝光装置

[发明专利]一种曝光设备-CN202010843168.4在审
发明人：吴景舟;陈国军;马骏;马迪 -专利权人：江苏迪盛智能科技有限公司
申请日： 2020-08-20 - 公布日： 2020-12-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种曝光设备，包括用于放置被曝光物体的曝光平台和可相对曝光平台运动的曝光器，曝光器相对曝光平台的运动方向包括曝光方向和步进方向；曝光器沿曝光方向运动时，对被曝光物体进行曝光，曝光器沿步进方向运动时，改变被曝光物体上的曝光区域；曝光器包括至少一组曝光头组，曝光头组包括至少两个沿步进方向同中心布置的曝光头，曝光头包括用于发射光线的光源和用于聚焦光线的镜头。区别于现有技术，在沿曝光器的步进方向上布置至少两个曝光头，使得曝光器在沿曝光方向运动时可以有至少两个曝光头同时进行曝光，提高了曝光的效率。
一种曝光设备

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