专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]虎金颗粒剂提取工艺的研究方法-CN201610737903.7在审
  • 杨乐宁 - 杨乐宁
  • 2016-08-29 - 2018-03-09 - G01N33/15
  • 虎金颗粒剂提取工艺的研究方法,采用正交设计,以总大黄素、总蒽醌含量为醇提工艺指标,考察乙醇浓度、溶媒用量、提取时间等因素的最佳工艺条件;以总多糖含量为水提工艺指标,考察浸泡时间、水的用量、提取时间等因素的最佳工艺条件醇提最佳工艺245mL体积分数为70%乙醇提取2h,共2次;水提最佳工艺为80mL水,不用浸泡,提取15h,共3次。
  • 颗粒提取工艺研究方法
  • [发明专利]一种提取火龙果色素的新工艺-CN202010758317.7在审
  • 黄科瑞;朱正杰;杨郑州 - 百色学院
  • 2020-07-31 - 2020-10-30 - C09B61/00
  • 本发明涉及一种提取火龙果色素的新工艺,具体包括以下步骤:清洗切片;干燥保存;确定检测提取色素吸光度的最佳波长;选择最佳溶剂;获取最佳工艺条件最佳果肉色素提取工艺条件为:提取时间52分钟、乙醇浓度34%本发明的有益效果是:使用了一种最经济,最简便的方式进行提取,能更有效的吸收果肉中的色素,提取溶剂不但价格便宜,而且对人无害,是很实用的一种提取方式,应用响应曲面法,不但优化了红肉火龙果进行色素提取的条件,得出最佳的提取红肉火龙果的果肉色素工艺,而且大大缩减了试验次数,简化了试验方法。
  • 一种提取火龙果色素新工艺
  • [发明专利]一种纳米压印工艺的优化方法-CN201310552766.6在审
  • 王晶 - 无锡英普林纳米科技有限公司
  • 2013-11-08 - 2014-02-12 - G06F17/30
  • 本发明公开了一种纳米压印工艺的优化方法,包括如下步骤:(1)选取影响纳米压印工艺的因素,每个因素设置相应水平;(2)在设定的因素条件下进行纳米压印实验,记录实验结果;(3)利用多因素方差分析方法对实验结果进行分析;(4)根据分析结果选择最佳水平组合,确定最佳的纳米压印条件。本发明提供的纳米压印工艺的优化方法利用数理统计方法,简单易行,科学精确,能快速确定最佳的纳米压印条件,提高纳米压印的效率。
  • 一种纳米压印工艺优化方法
  • [发明专利]一种光刻工艺优化方法-CN201610703034.6有效
  • 吴维维;毛智彪;陈权;于世瑞 - 上海华力微电子有限公司
  • 2016-08-22 - 2019-11-22 - G03F1/36
  • 本发明提供了光刻工艺优化方法,包括:选取特征数据;从特征数据中选择待优化的参数,生成相应的OPC模型;分别在不同的聚焦条件、在不同的能量条件以及在聚焦条件和能量条件不变的情况下,分别采用OPC模型对所选取的特征数据进行模拟,分别得到各个光学工艺参数条件下的所选取的特征数据的模拟值,根据该模拟值分别计算所选择的待优化的参数下的工艺窗口的焦深、能量容忍度和掩膜图形误差提高因子,分析该焦深、该能量容忍度和该掩膜图形误差提高因子是否满足工艺窗口的设计要求;确定待优化的参数的最佳模拟值;确定待优化的参数的最佳模拟值;重复上述过程对其它待优化的参数进行模拟并确定相应的最佳模拟值。
  • 一种光刻工艺优化方法
  • [发明专利]光刻工艺中曝光后烘烤的最佳温度的选取方法-CN201910400738.X在审
  • 柯顺魁 - 上海华力集成电路制造有限公司
  • 2019-05-15 - 2019-09-27 - G03F7/38
  • 本发明公开了一种光刻工艺中曝光后烘烤的最佳温度的选取方法,包括步骤:步骤一、建立光刻工艺,确定光刻工艺条件。步骤二、采集原始版图数据。步骤三、采用光刻工艺中的曝光后烘烤的上限温度和下限温度范围内,逐渐改变曝光后烘烤的温度并得到和对应的光刻图形,根据光刻图形对原始版图进行OPC修正得到对应OPC修正结果;步骤四、对各OPC修正结果进行比较选取最佳的OPC修正结果,以最佳的OPC修正结果对应的曝光后烘烤的温度为理论最佳温度并进而确定最佳温度。本发明能实现光刻工艺中曝光后烘烤的最佳温度的选取,在选取的最佳温度下能使整个版图范围内的光刻工艺效果达到最佳
  • 光刻工艺烘烤曝光光刻图形原始版图光刻工艺条件采集
  • [发明专利]一种污水处理工艺的优化方法-CN201110127239.1有效
  • 俞汉青;方芳;倪丙杰;盛国平 - 中国科学技术大学
  • 2011-05-17 - 2011-11-23 - C02F3/30
  • 本发明公开了一种城市污水处理厂污水处理工艺的优化方法。该方法,包括:1)采用随机模拟的方法产生n个城市污水处理厂A2O工艺的运行条件;2)采用A2O工艺的活性污泥数学模型,模拟随机产生的n个工艺运行条件下的出水水质;3)采用支持向量机建立所述步骤1)所得运行条件和所述步骤2)所得出水水质之间的关系,得到支持向量机模型;4)采用加速遗传算法优化所述步骤3)所得支持向量机模型,获得所述污水处理工艺最佳运行条件。该方法所得最佳工艺运行条件降低了内回流比,同时缩短了缺氧池的水力停留时间,使得在满足出水水质的同时节约运行费用。
  • 一种污水处理工艺优化方法

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