“曝光记忆”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果103471个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]一种卷对卷曝光方法-CN202011526667.7有效
发明人：朱夏彦;陈国军;吴景舟;马迪 -专利权人：江苏迪盛智能科技有限公司
申请日： 2020-12-22 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明揭示了一种卷对卷曝光方法，包括卷料上方的对位镜头沿第一方向运动，获取卷料的曝光参数，根据曝光参数调整曝光图像数据；对位结束后，卷料上方的曝光镜头沿与第一方向相反的第二方向运动，根据曝光图像数据扫描并曝光卷料本发明采用数字曝光和对位相机相结合先定位后进行曝光的方式，在提高曝光精度的同时，简化曝光流程且提高曝光产能。
一种曝光方法

[发明专利]用于制作发光二极管的光刻曝光方法-CN201510557562.0有效
发明人：徐平;苗振林;卢国军 -专利权人：湘能华磊光电股份有限公司
申请日： 2015-09-01 - 公布日： 2018-03-23 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请公开了一种用于制作发光二极管的光刻曝光方法，包括匀胶；软烤；以及依据总曝光能量确定分步曝光的曝光能量、曝光时间和曝光光强，用以进行所述分步曝光；其中，总曝光能量为E，每次曝光的所述曝光能量为E1、、En‑1、En，E＝E1+E2+…+En‑1+En，每次曝光的所述曝光时间为T1、T2、......、Tn‑1、Tn，每次曝光的所述曝光光强为Q1、Q2、......Qn‑1、Qn，n为大于或等于2的正整数。本申请提出的光刻曝光方法能解决剥离去胶胶丝残留的问题并提高LED的亮度。
用于制作发光二极管光刻曝光方法

[发明专利]投影曝光装置-CN200410003749.8无效
发明人：饭塚和央;磯端純二;田中信义 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2004-01-30 - 公布日： 2004-08-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：公开一种适合给图案重复曝光的小型且低成本的投影曝光装置。投影曝光装置具有：把光照射到具有多列掩模图案的掩模，用于给曝光图案列重复曝光的照明系统、把所述掩模来的光投射到所述被曝光部件上的投影系统、移动所述被曝光部件的曝光工作台、以及移动所述掩模的掩模载台。交替进行所述光照射和以所述曝光图案排列间距n倍的移动量移动所述被曝光部件的所述曝光工作台的步进驱动。并且，随着在对所述曝光图案重复曝光的初期和末期的所述曝光工作台的步进驱动，以所述曝光图案排列间距的n倍的移动量移动所述掩模。
投影曝光装置

[实用新型]一种曝光装置-CN201220487407.8有效
发明人：朱婉平 -专利权人：深圳市万佳原丝印器材有限公司
申请日： 2012-09-21 - 公布日： 2014-01-29 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种曝光装置，包括机台和设置在所述机台上的曝光区装置，所述曝光区装置包括壳体和设置在所述壳体内部上方的曝光器，所述曝光区装置两侧分别设置一个可水平滑入或滑出所述壳体内的曝光台，所述曝光区装置两侧的曝光台位于同一水平面上本实用新型的一种曝光装置结构简单、不需要分别对左右曝光台调节曝光时间、在保证高效曝光出产率的前提下，保证曝光的光能量对曝光材料照射的同量一致性，保证精密曝光和出产产品质量一致性。
一种曝光装置

[实用新型]曝光对位结构和具有其的曝光机-CN202321079021.8有效
发明人：朱盼盼;杨坤伦;李峰 -专利权人：合肥芯碁微电子装备股份有限公司
申请日： 2023-05-06 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种曝光对位结构和具有其的曝光机，所述曝光对位结构包括：曝光台，所述曝光台设有水平延伸的曝光平面；标定板，所述标定板铺设于所述曝光平面，所述标定板设有第一标记；光致变色膜，所述光致变色膜贴附于所述标定板；曝光头，所述曝光头设于所述曝光台的上方且用于对所述光致变色膜曝光，所述曝光头在所述光致变色膜曝光以及形成第二标记；采集相机，所述采集相机可移动地安装于所述曝光台，所述采集相机用于拍照采集所述第一标记和所述第二标记的位置根据本实用新型实施例的曝光对位结构，具有对位准确性高、对位效率高等优点。
曝光对位结构具有

[发明专利]显示面板的光配向方法、显示面板和显示装置-CN202111056094.0在审
发明人：李凡;神户诚;张勇;彭林;王志刚;李林;吴潘强;任驹;刘聪聪 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都中电熊猫显示科技有限公司
申请日： 2021-09-09 - 公布日： 2021-12-31 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：本发明公开了一种显示面板的光配向方法、显示面板和显示装置，显示面板中的每个待配向基板包括M个曝光区，方法包括：基于M个曝光区中的N个曝光区的预设目标配向力方向，确定N个曝光区的预设目标配向力方向对应的第一分量曝光方向和第二分量曝光方向；基于第一分量曝光方向和第二分量曝光方向，分别对待配向基板中对应的曝光区的配向膜进行曝光配向。由于第一分量曝光方向和第二分量曝光方向用于合成预设目标配向力方向，这样，曝光区可以等效为按照预设目标配向力方向进行曝光配向，从而可以对曝光区按照实际需要的曝光方向，进行合成曝光配向，进而实现对垂直于基板的前进方向的曝光
显示面板方法显示装置

[发明专利]图像处理方法、装置、存储介质及电子设备-CN201810935322.3有效
发明人：孙剑波 -专利权人： OPPO广东移动通信有限公司
申请日： 2018-08-16 - 公布日： 2020-06-30 - 主分类号： H04N5/232 文献下载
摘要：其中方法包括：获取第一摄像头对拍摄对象拍摄的至少一张长曝光图像，以及第二摄像头在每张长曝光图像的曝光时间内分别对拍摄对象拍摄的至少两张短曝光图像，其中，每张长曝光图像和在其曝光时间内获取的至少两张短曝光图像为一组曝光图像；基于拍摄对象在每组曝光图像内的至少两张短曝光图像中的位置，确定对应长曝光图像的位置变化参数；根据每张长曝光图像的位置变化参数对至少一张长曝光图像进行处理，生成处理后的图像。实现同步采集长曝光图像以及各长曝光图像对应的至少两张短曝光图像，在保持长曝光图像的拍摄逻辑的基础上，提高了长曝光图像的拍摄质量。
图像处理方法装置存储介质电子设备

[发明专利]存储器的光刻曝光方法-CN202110641291.2有效
发明人：王雷 -专利权人：上海华虹宏力半导体制造有限公司
申请日： 2021-06-09 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种存储器的光刻曝光方法，在存储器制作的光刻工艺中，采用掩膜版曝光时，将存储器上的具有不同曝光尺寸要求的区域进行分拆，划分为不同的曝光分组，具有相同曝光解析力要求的区域划为一组，在曝光时对不同分组进行不同模式的能够相应满足该组解析力要求的曝光模式的曝光，在曝光时，采用不同的照明方式进行曝光：首先采用第一种曝光方式对存储阵列单元曝光分组进行曝光，然后保持晶圆在承台上不动，再采用第二种曝光方式对其他结构曝光分组进行曝光；全部曝光完成后，进行一次显影完成图形转移本发明有针对性地为每组选择更佳的曝光方式，改善了图形转移的质量，并且可以在光刻能力有限的情况下。
存储器光刻曝光方法

[实用新型]一种高精度CCD定位曝光装置-CN202022876154.0有效
发明人：江洪波;山口泰司;河野豊;夏勇军 -专利权人：广州京写电路板有限公司
申请日： 2020-12-02 - 公布日： 2021-10-01 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及曝光装置技术领域，公开了一种高精度CCD定位曝光装置，包括机架，机架上安装有曝光箱盖与曝光箱，曝光箱盖与曝光箱通过紧密贴合机构相连接；紧密贴合机构包括框型的密封条，密封条设置在曝光箱盖与曝光箱之间，且密封条固定连接在曝光箱的箱顶，曝光箱的箱壁上固定连接有一端密封设置的吸气管，吸气管的管底连通有出气管，密封条的一侧连通有进气管，进气管和出气管通过导气管相连通，吸气管的内管壁上密封滑动连接有活塞，位于吸气管下方的曝光箱箱壁上固定连接有驱动电机本实用新型曝光箱盖合在曝光箱上，密封条、曝光箱盖和曝光箱形成空间内的气压降低，曝光箱盖和曝光箱之间连接的更加紧密，提高了曝光精度。
一种高精度 ccd 定位曝光装置

[发明专利]曝光装置、曝光方法、半导体器件及其制造方法-CN201810910079.X在审
发明人：陈勇辉;张俊 -专利权人：上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请日： 2018-08-10 - 公布日： 2019-09-13 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种曝光装置、曝光方法、半导体器件及其制造方法。该曝光装置包括：进料检测单元、传输单元和曝光单元；进料检测单元用于对基底进行检测，并判定基底为合格基底或待处理基底；传输单元用于将合格基底传输至曝光单元；曝光单元用于对合格基底进行曝光。该技术方案可仅允许检测合格的基底传输至曝光单元进行曝光，减少了对检测不合格的基底传输至曝光单元进行曝光时带来的损耗，从而减少了曝光工艺的成本，同时提高了曝光产率，从而提高了产能。
基底曝光单元曝光曝光装置半导体器件传输单元进料检测传输检测曝光工艺产率产能判定制造

[发明专利]用于多次执行曝光的图像形成装置-CN201310050040.2有效
发明人：财间畅彦;板垣智久;石原孝容;白藤靖人 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2013-02-08 - 公布日： 2013-08-14 - 主分类号： G03G15/04 文献下载
摘要：一种用于多次执行曝光的图像形成装置包括：曝光单元，被配置为基于图像数据对感光部件执行第一曝光以及对通过第一曝光被曝光的感光部件执行第二曝光；确定单元，被配置为确定要基于图像数据被形成的图像的类型；和控制单元，被配置为控制曝光单元，使得当图像的类型是字符时基于图像数据执行的第一曝光与第二曝光之间的曝光量的差值大于当图像的类型是图片时基于图像数据执行的第一曝光与第二曝光之间的曝光量的差值。
用于多次执行曝光图像形成装置

[发明专利]摄影装置及摄影方法-CN201110362224.3有效
发明人：盐原隆一 -专利权人：精工爱普生株式会社
申请日： 2011-11-15 - 公布日： 2012-05-23 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：本发明提供一种摄影装置及其方法，判定曝光时间是否比规定的阈值短，在曝光时间比阈值短的情况下，在对于机械快门使多个光电转换元件结束曝光的曝光结束定时进行追随的第1曝光开始定时，使电子快门开始多个光电转换元件的曝光，且在曝光时间为阈值以上的情况下，在第2曝光开始定时，使电子快门开始多个光电转换元件的曝光，该第2曝光开始定时对曝光结束定时的追随度比第1曝光开始定时对曝光结束定时的追随度低。
摄影装置方法

[发明专利]一种曝光系统中曝光剂量的监控方法、曝光方法及其曝光系统-CN201510962473.4有效
发明人：谢耀;王丽萍;周烽;王君;王辉;郭本银;金春水 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2015-12-21 - 公布日： 2017-05-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种曝光系统中曝光剂量的监控方法、曝光方法及其曝光系统，该控制方法、曝光方法和曝光系统中，通过使用硅片面上参与曝光的第二光线能量，对中间焦点处不参与曝光的第一光线能量进行标定，建立二者之间的关系曲线，进而通过对中间焦点处不参与曝光的光线能量值进行实时在线监测，间接实现了对于硅片面上曝光能量（曝光剂量）的监测，通过监测的结果进行光开关控制，实现了在线监控曝光剂量的目的，提高了曝光剂量的监控精度。
一种曝光系统剂量监控方法及其

[发明专利]一种曝光参数调整方法和装置-CN201610810753.8有效
发明人：李海春;王化雨 -专利权人：沈阳东软医疗系统有限公司
申请日： 2016-09-08 - 公布日： 2018-04-17 - 主分类号： H05G1/46 文献下载
摘要：本申请提供一种曝光参数调整方法和装置，其中方法包括获取预曝光图像中的感兴趣区域的灰度参数，所述预曝光图像通过对被检体进行预曝光得到；根据所述灰度参数、预曝光时的曝光参数，得到所述被检体的等效厚度；根据所述等效厚度、所述感兴趣区域的期望灰度参数，确定正式曝光时的曝光参数，所述曝光参数包括管电压kv和曝光剂量mAs，以将所述管电压kv和曝光剂量mAs用于正式曝光中。本申请提高了采用AEC控制曝光时的图像质量。
一种曝光参数调整方法装置

[实用新型]一种曝光设备-CN202220220979.3有效
发明人：刘萧松;李克强;吴志阳;卢毅 -专利权人：宁德时代新能源科技股份有限公司
申请日： 2022-01-26 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请实施例公开了一种曝光设备，包括：曝光装置，用于曝光物料；送料装置，用于沿送料方向以第一速度连续运送所述物料至所述曝光装置的曝光区域；掩盖装置，用于沿所述送料方向以所述第一速度连续运送掩盖膜至所述曝光区域，所述掩盖膜用于在所述曝光装置曝光所述物料时进行区域性遮光；所述送料装置与所述掩盖装置使得所述物料与所述掩盖膜在进入所述曝光区域时的送料路径重合。本申请实施例的曝光设备能够进行连续曝光，有效提升曝光效率以及曝光性能。
一种曝光设备