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[发明专利]混合焦点控制方法及装置-CN201910590160.9有效
发明人：范声芳;陈飞;王万全;陈晓森;王彦为 -专利权人：苏州博思得电气有限公司
申请日： 2019-07-02 - 公布日： 2021-08-13 - 主分类号： H04N5/228 文献下载
摘要：本发明涉及射线管技术领域，具体涉及混合焦点控制方法及装置，所述方法包括获取曝光参数以及预设管电流；当曝光参数大于对应于小焦点的最大曝光参数，且小于对应于大焦点的最大曝光参数的预设倍数时，确定采用大小焦点同时曝光；将预设管电流按照预设比例划分为对应于小焦点的第一预设管电流以及对应于大焦点的第二预设管电流；根据第一预设管电流以及第二预设管电流，调节对应于小焦点以及大焦点的灯丝电流以实现自动曝光。采用大小焦点同时曝光且在预设管电流的基础上，利用预设比例将预设管电流划分为对应于小焦点以及大焦点的第一预设管电流以及第二预设管电流，防止了由于小焦点的单方面原因所导致的射线管的提前失效的问题。
混合焦点控制方法装置

[发明专利]无掩模光刻方法和无掩模光刻设备-CN202110645560.2在审
发明人：陈晓西;徐律涵;陈松泽;叶茂 -专利权人：电子科技大学
申请日： 2021-06-09 - 公布日： 2022-12-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明属于光刻技术领域，尤其涉及一种无掩模光刻方法和无掩模光刻设备，所述方法包括以下步骤：S1：获取目标物的待曝光区域；S2：根据所述待曝光区域产生焦点控制信号，所述焦点控制信号用于控制曝光光束聚焦的焦点的移动轨迹；S3：根据所述焦点控制信号控制曝光光束聚焦的焦点在所述目标物的表面移动以使所述待曝光区域曝光。所述设备包括光源，控制器和焦点移动装置。本发明的无掩模光刻方法和设备不需要使用掩模版，因此节约了制作掩模版的时间和成本。
无掩模光刻方法设备

[发明专利]一种COF基板的曝光定位方法-CN201911080085.8有效
发明人：戚爱康;计晓东;孙彬;沈洪;李晓华 -专利权人：江苏上达电子有限公司
申请日： 2019-11-07 - 公布日： 2021-12-28 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种COF基板的曝光定位方法，针对COF基板上定位孔实现精准定位，给出了MARK图案设计，所述MARK图案为曝光MARK，包括曝光对位MARK和焦点检出MARK；所述曝光对位MARK为圆环形状；所述焦点检出MARK为至少含有2个相间隔的同心圆环，其最内侧圆环设有十字标记，且所述焦点检出MARK位于曝光对位MARK的圆环内。量产生产过程中，用MARK图案和定位孔完成对位，就可以曝光。曝光一定次数后（次数可以曝光机设定），使用焦点检出调整MARK图案。来确定焦点的位置是否合理。焦点过大过小投影的图像都会失真。
一种 cof 曝光定位方法

[发明专利]摄像装置和摄像装置的控制方法-CN201610313015.2有效
发明人：菊地哲央 -专利权人：奥林巴斯株式会社
申请日： 2016-05-12 - 公布日： 2019-06-21 - 主分类号： H04N5/232 文献下载
摘要：摄像装置具有：读出部，其从摄像像素和焦点检测像素中读出像素信号；显示部，其显示基于从摄像像素中读出的像素信号的图像；以及控制部，其进行控制，使得在与显示部的显示帧率对应的时间内进行显示部中的图像的显示和焦点检测像素的像素信号的读出动作在能够在与显示部的显示帧率对应的时间内进行摄像像素的曝光及像素信号的读出和焦点检测像素的曝光及像素信号的读出这双方时，控制部进行控制，使得交替进行摄像像素的曝光及像素信号的读出和焦点检测像素的曝光及像素信号的读出，在无法在与显示部的显示帧率对应的时间内进行摄像像素的曝光及像素信号的读出和焦点检测像素的曝光及像素信号的读出这双方时，控制部进行控制，使得同时进行摄像像素和焦点检测像素的曝光，在摄像像素和焦点检测像素的曝光结束后，读出摄像像素的像素信号和焦点检测像素的像素信号。
摄像装置控制方法

[发明专利]曝光焦点的监控方法-CN200910033793.6无效
发明人：杨要华;刘志成;张辰明;胡骏 -专利权人：无锡华润上华半导体有限公司;无锡华润上华科技有限公司
申请日： 2009-06-04 - 公布日： 2010-12-08 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种曝光焦点的监控方法，包括：在预定离焦距离的范围内，以任选的离焦距离形成至少两个曝光图形；分别测量各曝光图形的顶部宽度与底部宽度；计算各曝光图形的顶部宽度与底部宽度的差值；根据差值与对应的离焦距离计算预定的系数根据该曝光焦点的监控方法，可以在最少仅需两组数据的情况下即确定最终所得曝光图形的尺寸与曝光焦点的关系。
曝光焦点监控方法

[发明专利]曝光机聚焦点的检测方法-CN201910908695.6有效
发明人：杨要华 -专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
申请日： 2019-09-25 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本申请公开了一种曝光机聚焦点的检测方法，包括：提供一衬底；在衬底上涂布光刻胶；通过包含辅助图形和掩模图形的掩模板，使用曝光机对光刻胶进行曝光后，对光刻胶进行显影，形成目标图形；对目标图形进行测量，确定曝光机的聚焦点位置本申请通过在半导体器件的制造过程中，在形成半导体器件的目标图形的光刻步骤中，通过包含辅助图形的掩模板进行光刻，通过对目标图形进行测量，确定光刻步骤中曝光机的聚焦点位置，由于不需要通过复杂的FEM分析的方式对聚焦点位置进行确定，耗时较短，且实现了对曝光机聚焦点的实时监控。
曝光聚焦检测方法

[发明专利]一种基于数字摄像机的焦点跟踪方法-CN202210572345.9有效
发明人：乔善勋;卢宁 -专利权人：河南工业贸易职业学院
申请日： 2022-05-24 - 公布日： 2023-05-05 - 主分类号： H04N23/67 文献下载
摘要：本发明涉及了一种基于数字摄像机的焦点跟踪方法，涉及焦点跟踪技术领域，解决了采用设备对焦点进行跟踪时，效果不佳，不利于操作人员进行操作处理的技术问题；对正在移动过程中的图像进行曝光处理，对区域亮度和曝光距离进行获取，根据获取数据对图像进行不同阶段的曝光处理，将曝光后的图像进行实时更新；根据处理得到的参数数值，对跟踪摄像头进行方向角度调整，完成图像的焦点跟踪，预先进行轮廓以及焦点进行确认捆绑，通过捆绑数据包，处理中心再对数据进行处理，直接对角度进行改变，采用此种方式进行焦点追踪，便可快速有效找到对应焦点，提升了跟踪效果。
一种基于数字摄像机焦点跟踪方法

[发明专利]记录图像和从图像获得3D信息的方法、相机系统-CN201280007480.3有效
发明人： D.N.滋纳门斯基;H.A.W.嗣梅茨 -专利权人：皇家飞利浦电子股份有限公司
申请日： 2012-01-27 - 公布日： 2017-04-12 - 主分类号： H04N13/02 文献下载
摘要：拍摄两个或更多图像，其中，在图像拍摄期间执行焦点扫描。在焦点扫描期间调制曝光强度并且针对这些图像进行不同地调制。该调制提供图像中深度信息的水印。在扫描期间曝光方面的差异在这些图像中对深度信息进行不同地水印标记。通过比较这些图像，可以5计算这些图像的深度图。一种相机系统具有透镜和传感器以及用于执行焦点扫描的装置和用于在焦点扫描期间调制曝光强度的装置。调制曝光强度可以通过调制光源或焦点扫描或者调制光路中透明介质的透明度来进行。
记录图像获得信息方法相机系统

[发明专利]用于半导体微影制程的系统与方法-CN200610149997.2有效
发明人：陈桂顺;林进祥;高蔡胜;陈俊光;陆晓慈;梁辅杰 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2006-10-25 - 公布日： 2007-05-02 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明是有关于一种用于半导体制程的光微影方法，包含提供一基材当作一晶圆，以及提供一光罩来曝光此晶圆。此晶圆是使用一种组合高角度照明方法及焦点漂移曝光方式来进行曝光。利用这种整合高角度照明方法和焦点漂移曝光方法的光微影制程，可以降低邻近效应，并增加焦点深度。
用于半导体微影制程系统方法

[发明专利]半导体装置的制造方法-CN201010124748.4有效
发明人：村田通博 -专利权人：精工电子有限公司
申请日： 2010-02-05 - 公布日： 2010-09-08 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：对晶片上进行分割曝光的方法，其中，在晶片外周部的镜头的场合，使镜头移动到能够对全部焦点进行焦点校正处理的位置后进行焦点校正处理，利用标线片遮掩对与相邻的曝光区域重叠的部分进行遮光，仅对标线片遮掩开口区域进行曝光
半导体装置制造方法

[发明专利]显微镜装置-CN200910000755.0无效
发明人：刘刚 -专利权人：奥林巴斯株式会社
申请日： 2009-01-09 - 公布日： 2009-07-15 - 主分类号： G02B21/36 文献下载
摘要：本发明提供一种显微镜装置，能够获得画质良好的焦点深度扩大图像。将焦点深度扩大区域分割成多个取入区域，设定曝光时间和光源的出射光量(图2，S14)。接着，按照所设定的曝光时间、出射光量来取得各取入区域的长时间曝光图像(S15)。将各取入区域的长时间曝光图像相加(S16)，对相加图像实施滤波处理，生成焦点深度扩大图像(S17)。
显微镜装置

[发明专利]工艺余量的评价方法、测定条件的设定方法和程序-CN03134790.8无效
发明人：三本木省次 -专利权人：株式会社东芝
申请日： 2003-09-29 - 公布日： 2004-05-19 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：对在被曝光衬底上形成图形的工艺，设定多个曝光量的设定值和多个焦点位置的设定值。对每一个曝光量的设定值和焦点位置的设定值的组合，计算图形的多个模拟测定尺寸。计算在相当于被曝光衬底的最大的高低差的焦点深度处的多个余量曲线的曝光量的余量的分散。
工艺余量评价方法测定条件设定程序

[发明专利]摄像设备及其控制方法-CN201510344870.5在审
发明人：矢野慎一郎 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2015-06-19 - 公布日： 2016-12-07 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：该摄像设备包括：摄像元件，用于拍摄被摄体图像；以及焦点检测专用传感器，用于接收从被摄体反射的光以输出焦点检测用的信号。该摄像设备执行顺次对摄像元件进行曝光的连拍。该摄像设备获取在确定应用于连拍期间的各个曝光之间的间隔的焦点调节模式时所使用的模式相关信息，并且基于所获取到的模式相关信息，来将用于基于摄像元件所输出的信号计算散焦量的第一焦点调节模式或用于基于焦点检测专用传感器所输出的焦点检测用的信号计算散焦量的第二焦点调节模式确定为应用于各个曝光之间的间隔的焦点调节模式
摄像设备及其控制方法

[发明专利]一种曝光系统中曝光剂量的监控方法、曝光方法及其曝光系统-CN201510962473.4有效
发明人：谢耀;王丽萍;周烽;王君;王辉;郭本银;金春水 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2015-12-21 - 公布日： 2017-05-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种曝光系统中曝光剂量的监控方法、曝光方法及其曝光系统，该控制方法、曝光方法和曝光系统中，通过使用硅片面上参与曝光的第二光线能量，对中间焦点处不参与曝光的第一光线能量进行标定，建立二者之间的关系曲线，进而通过对中间焦点处不参与曝光的光线能量值进行实时在线监测，间接实现了对于硅片面上曝光能量（曝光剂量）的监测，通过监测的结果进行光开关控制，实现了在线监控曝光剂量的目的，提高了曝光剂量的监控精度。
一种曝光系统剂量监控方法及其

[发明专利]动态调整曝光焦点的方法-CN201910824352.1在审
发明人：周军;黄广照;王兴海 -专利权人：移康智能科技（上海）股份有限公司
申请日： 2019-09-02 - 公布日： 2019-11-08 - 主分类号： H04N5/235 文献下载
摘要：本发明公开了动态调整曝光焦点的方法，包括以下步骤：步骤(1)：设置焦点调节策略；步骤(2)：读取预设的调节策略；步骤(3)：将焦点调节到对应位置，本发明能解决广角镜头无法很好收集到敏感区域的信息，导致重要信息丢失；可以更好的解决在多种光线场景下，曝光点无法统一设置的问题，以及在某些场景下(例如楼道)，可以通过规律性的改变曝光点来提高图像效果。
动态调整焦点调节曝光焦点曝光点广角镜头读取场景敏感区域图像效果重要信息预设楼道规律性统一

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