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[发明专利]一种柔性材料的双面曝光方法及装置-CN201610973545.X在审
发明人：俞庆平 -专利权人：俞庆平
申请日： 2016-11-07 - 公布日： 2018-05-25 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及激光曝光技术，具体涉及一种柔性材料的双面曝光方法及装置。目前对柔性材料的曝光需要较多的辅助措施，同时无法做到连续曝光和双面同时曝光。本发明提供一种柔性材料的双面曝光方法及装置，本发明采用多对卷辊将柔性卷取后绷紧，两个卷辊之间绷紧的柔性材料可以提供一个稳定的曝光平面，在这个稳定的曝光平面的两边分别安置一个曝光装置，卷辊转动带动柔性材料前行，柔性材料的前行过程中，曝光设备工作，可以连续不断地对柔性材料的上下表面进行曝光操作。曝光设备的光学系统上安装有一个主动聚焦模块，可以保证曝光头和柔性材料的表面等距，确保曝光质量。本发明相对于现有技术，能够大幅提高柔性材料的曝光效率。
柔性材料双面曝光卷辊曝光平面曝光设备绷紧曝光前行辅助措施光学系统激光曝光聚焦模块连续不断连续曝光曝光操作曝光效率曝光装置上下表面曝光头等距卷取转动两边安置保证

[实用新型]一种柔性材料的双面曝光装置-CN201621197248.2有效
发明人：俞庆平 -专利权人：俞庆平
申请日： 2016-11-07 - 公布日： 2017-08-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型涉及激光曝光技术，具体涉及一种柔性材料的双面曝光装置。目前对柔性材料的曝光需要较多的辅助措施，同时无法做到连续曝光和双面同时曝光。本实用新型提供一种柔性材料的双面曝光方法及装置，本实用新型采用多对卷辊将柔性卷取后绷紧，两个卷辊之间绷紧的柔性材料可以提供一个稳定的曝光平面，在这个稳定的曝光平面的两边分别安置一个曝光装置，卷辊转动带动柔性材料前行，柔性材料的前行过程中，曝光设备工作，可以连续不断地对柔性材料的上下表面进行曝光操作。曝光设备的光学系统上安装有一个主动聚焦模块，可以保证曝光头和柔性材料的表面等距，确保曝光质量。本实用新型相对于现有技术，能够大幅提高柔性材料的曝光效率。
一种柔性材料双面曝光装置

[发明专利]对照相材料进行曝光的设备和方法-CN200880126266.3有效
发明人： W·J·里德尔;F·冯拉费特-科贝林斯基 -专利权人：慧眼有限公司
申请日： 2008-12-17 - 公布日： 2011-01-05 - 主分类号： G02B27/50 文献下载
摘要：本发明提供一种方法以及一种曝光设备，借助它们能以经济的方式并尤其在合理的曝光时间内对照相材料进行曝光，此照相材料具有许多单个的、待曝光区段(例如几十万这样的区段)。为此规定，规定了一种借助曝光设备用数字化获取的图像对照相材料进行曝光的方法，此照相材料具有大量优选有规律、尤其成行设置的逐个待曝光的区段，在此方法中在照相材料与曝光设备之间进行连续的运动，并在此运动过程中对各单个区段曝光
照相材料进行曝光设备方法

[发明专利]基底曝光方法和用于该方法的装置-CN03120221.7有效
发明人：尹鉉洙;千祥源 -专利权人：三星TECHWIN株式会社
申请日： 2003-03-07 - 公布日： 2003-09-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：提供了半导体器件基底的曝光方法和曝光装置。使用具有单元曝光电路图案和位置识别图案的透光罩对在其上形成感光膜的带状基底材料进行曝光。在传递经过曝光的基底材料之后，检测在基底材料上曝光的位置识别标记。此后，参照曝光的位置识别标记对准后续曝光区的位置。
基底曝光方法用于装置

[发明专利]掩膜版及光刻材料的曝光检测方法-CN201210477183.7有效
发明人：孙亮;郭总杰;刘正;赵海廷;张治超 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请日： 2012-11-21 - 公布日： 2013-02-27 - 主分类号： G03F1/44 文献下载
摘要：本发明属于液晶显示技术领域，具体涉及一种掩膜版及光刻材料的曝光检测方法。光刻材料的曝光检测方法包括：步骤S1：利用掩膜版对光刻材料膜层进行曝光，形成与所述掩膜版上的曝光检测区对应的曝光检测单元，所述曝光检测单元上形成与所述曝光检测区中的不完全透光区对应的不完全曝光区，以及形成与所述曝光检测区中的位置标识对应的分界线标识，所述不完全曝光区包括材料完全去除区和材料残留区，所述材料完全去除区和材料残留区的交接处形成分界线；步骤S2：确定所述不完全曝光区内分界线的位置，根据所述分界线的位置与所述分界线标识的位置关系，获得所述光刻材料膜层的实际曝光信息
掩膜版光刻材料曝光检测方法

[发明专利]图象打印机-CN94104324.X无效
发明人：谷端透 -专利权人：诺日士钢机株式会社
申请日： 1994-03-12 - 公布日： 2000-07-05 - 主分类号： G03B27/72 文献下载
摘要：一种图象打印机包括投影曝光部件，图象曝光部件，以及传送装置，用以在垂直于所述行的方向使曝光装置与感光材料产生相对移动。该图象曝光部件进一步包括一个曝光控制单元以控制曝光装置与移动装置的操作。该控制单元的感光材料与曝光机构彼此相对移动的同时，实施移动曝光控制以对感光材料进行变换曝光颜色的曝光。
图象打印机

[发明专利]感光材料的显影方法与光刻装置-CN201710061654.9在审
发明人：余俊益;黄德芳;曾德宸;张嘉峰;许丽芳 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2017-01-26 - 公布日： 2017-08-04 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本揭露内容为关于动态光刻曝光方法及与其关联的装置，其可对感光材料的多个聚焦深度之上进行曝光，聚焦深度分别跨越感光材料的不同区域。藉由对感光材料的多个聚焦深度之上进行曝光，可改善对感光材料的曝光制程，导致较大的光刻处理窗口。于部分实施方式中，动态光刻曝光方法为通过在基板上形成感光材料而执行。感光材料之多个聚焦深度处为通过电磁辐射进行曝光，聚焦深度处分别跨越感光材料内的不同区域。使用电磁辐射曝光感光材料修改感光材料内的曝光区域的溶解度。接着，对感光材料进行显影，以移除可溶解区域。
感光材料显影方法光刻装置

[发明专利]双重曝光方法-CN201010619489.2无效
发明人：胡红梅 -专利权人：上海集成电路研发中心有限公司
申请日： 2010-12-31 - 公布日： 2011-06-15 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：根据本发明的双重曝光方法包括步骤：提供半导体衬底；在所述半导体衬底上涂布光刻胶材料；在所述光刻胶材料上涂布阻挡层材料；以及在涂布阻挡层材料之后执行双重曝光。根据本发明的双重曝光方法通过引入阻挡层材料，以降低现有的双重曝光技术中光刻胶在两次曝光之间的记忆，从而减少第二次曝光对第一次曝光光刻胶材料的影响；并且，根据本发明的双重曝光方法减少了双重图形技术的刻蚀等工艺步骤
双重曝光方法

[实用新型]曝光装置-CN201320719313.3有效
发明人：王相钦 -专利权人：意力（广州）电子科技有限公司
申请日： 2013-11-14 - 公布日： 2014-09-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种曝光装置，包括上台框，其特征在于，还包括吸附装置，所述吸附装置设置在所述上台框上。需要从曝光装置中取出已曝光材料时，打开上台框，由于上台框上设有吸附装置，吸附装置将已曝光材料吸附在上台框上，使得已曝光材料与底片分离开，直接从上台框上取已曝光材料，无需用手从下台板上取出已曝光材料，避免手指刮花底片，能延长底片的使用寿命，同时从上台框上取已曝光材料比从下台板上取，操作更加简单方便，能节省大量时间，提高工作效率。
曝光装置

[发明专利]曝光设备和将板状材料曝光的方法-CN201780073217.7有效
发明人： F·波伊克森 -专利权人：富林特集团德国有限公司
申请日： 2017-11-27 - 公布日： 2021-11-16 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于将板状材料(2)曝光的曝光设备(1)。板状材料(2)具有第一面(3)和与第一面(3)相对的第二面(4)。曝光设备(1)包括第一曝光单元(10)和传送器单元(30)，其中第一曝光单元(10)包括至少一个具有光源的部段，并且构造成能绕一轴线(14)旋转，并且第一曝光单元(10)和传送器单元(30)构造成使得在所述曝光单元(10)的第一位置(11)输送板状材料(2)的第一面(3)以使之曝光，并且在所述曝光单元(10)的第二位置(12)输送板状材料(2)的第二面(4)以使之曝光。本发明还涉及用于将板状材料曝光的方法和根据所述方法中的一者由板状材料生产的印刷版。
曝光设备将板状材料方法

[发明专利]曝光方法和设备-CN200680022818.7无效
发明人：尾崎多可雄;北川智也 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2006-06-22 - 公布日： 2008-07-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：通过使用由曝光头(166)发出的曝光光线照射光敏材料，将涂覆有光致抗蚀剂(150a))的光敏材料(例如，玻璃基板(150)以预定的图案曝光，所述曝光头(166)发出通过空间光调制装置调制的光。对于每一种光敏材料，所述曝光头(166)和所述光敏材料在副扫描方向上移动至少两次。在每一次副扫描移动中控制所述空间光调制装置的操作以在所述光敏材料中形成其曝光量至少处于两种不同水平的曝光区。
曝光方法设备

[发明专利]针对透明基底材料的曝光方法与装置-CN201710743128.0在审
发明人：田毅强;曹昌智 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2017-08-25 - 公布日： 2019-03-05 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种针对透明基底材料的曝光方法及装置，该方法包括如下步骤：S1：利用正面曝光机构对所述透明基底材料的正面进行曝光；S2：将所述透明基底材料移动至背面曝光机构的相应位置；S3：利用背面曝光机构对所述透明基底材料的背面进行曝光
透明基底材料背面曝光曝光曝光方法及装置曝光机构显影背面移动

[发明专利]曝光装置-CN201180044697.7有效
发明人：水村通伸 -专利权人：株式会社V技术
申请日： 2011-08-16 - 公布日： 2013-07-17 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：曝光装置(1)通过将液晶显示装置的各像元或者像素在宽度方向分割为2个部分并从不同的方向曝光，使取向材料膜进行光取向。曝光装置使从2个光源(第1光源(11)和第2光源(12))射出的2个曝光光(11a、12a)，透射掩模(13)的预定的图案的分别不同的光透射区域，照射到与在曝光对象部件(2)上形成的取向材料膜的各像元或者像素的各分割区域对应的区域曝光装置使2个曝光光在第1和第2光源与取向材料膜之间的光路上互相交叉。由此，在取向分割方式的曝光装置中，即使在需要减小曝光光相对于曝光对象面倾斜的角度的情况下，也能以预定的图案将取向材料膜正常曝光，能够使曝光装置小型化。
曝光装置

[发明专利]混合多材料三维打印方法及系统-CN202211208996.6在审
发明人：侯锋;戴湘岳;姜新 -专利权人：上海普利生机电科技有限公司
申请日： 2022-09-30 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： B29C64/209 文献下载
摘要：本发明提供了一种混合多材料三维打印方法和系统。打印方法包括如下步骤：步骤S1：确定待打印多材料层中每种打印浆料的打印区域以及打印区域之外的盈余区域；步骤S2：在曝光平台上布置一种打印浆料；步骤S3：在曝光平台上曝光打印浆料的盈余区域；步骤S4：移除经曝光盈余区域、并在曝光平台上遗留待曝光打印区域；步骤S5：在曝光平台上曝光打印区域；以及步骤S6：转移经曝光打印区域；对于每种打印浆料执行步骤S2～S6，使得每种打印浆料对应的经曝光打印区域通过拼接形成已打印多材料层本发明的混合多材料三维打印方法和系统可以在实现高效多材料打印的同时，显著降低废液污染，提高生产效率。
混合材料三维打印方法系统

[发明专利]影象印相机-CN94104148.4无效
发明人：谷端透 -专利权人：诺日士钢机株式会社
申请日： 1994-03-18 - 公布日： 2001-09-26 - 主分类号： G03B27/73 文献下载
摘要：一种影象印相机，包括一个将底片上形成的影象投影到感光材料上的投影曝光单元；一个根据由每个都包括同一些颜色相关的颜色数据的若干影象区域组成的影象信息对感光材料进行曝光的影象曝光单元；以及，沿一个传送通道将感光材料传送到投影曝光单元和影象曝光单元的传送装置所述影象曝光单元包括影象检测器；多个曝光装置；移动装置；移动曝光控制装置。$＃!
影象相机

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