专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]曝光机构、曝光装置及曝光系统-CN201711306712.6有效
  • 张迅;易伟华;刘芳;刘松林 - 江西沃格光电股份有限公司
  • 2017-12-11 - 2020-12-18 - G03F7/20
  • 本发明涉及一种曝光机构、曝光装置及曝光系统,曝光系统包括:光罩;支撑,包括第一支撑及第二支撑,所述第一支撑与所述第二支撑之间的间距可调,以适应不同尺寸的曝光平台,所述第一支撑及所述第二支撑远离所述支架的表面用于承载所述光罩的两端;曝光平台,位于所述光罩下方并位于所述第一支撑及第二支撑之间,用以放置待曝光元件;支架,位于所述曝光装置底部以用于支撑所述曝光平台及所述支撑。上述曝光机构、曝光装置及曝光系统,实现了对待曝光元件的多尺寸兼容,节省了曝光成本。
  • 曝光机构装置系统
  • [发明专利]双装载部的双面曝光机及双面曝光方法-CN201810836043.1有效
  • 汪孝军;廖平强;张胜 - 中山新诺科技股份有限公司
  • 2018-07-26 - 2020-03-31 - G03F7/20
  • 本发明涉及一种双装载部的双面曝光机及双面曝光方法。包括工作曝光机构包括均能够沿工作移动的第一曝光组件和第二曝光组件、并在工作形成曝光区;装载机构包括装载,装载设有第一装载部和第二装载部,第一装载部和第二装载部呈间距设置,装载能够沿工作移动、并使第一装载部或第二装载部移动至曝光区。通过可移动的第一曝光组件和第二曝光组件的设置,曝光时,装载移动到预设位置,使第一装载部或第二装载部位于曝光区,之后第一曝光组件和第二曝光组件移动、从而对对应的第一待曝光件或第二待曝光件进行曝光,由于同时双面曝光,避免了翻转等操作,减少了曝光流程及对位等问题,提高了曝光效率和曝光精度。
  • 装载双面曝光方法
  • [发明专利]悬臂式双台面的双面曝光机及双面曝光方法-CN201810836042.7有效
  • 汪孝军;廖平强;张胜 - 中山新诺科技股份有限公司
  • 2018-07-26 - 2020-06-05 - G03F7/20
  • 本发明涉及一种悬臂式双台面的双面曝光机及双面曝光方法,包括安装架;分别设于安装架两侧的第一曝光组件和第二曝光组件;第一装载和第二装载;及驱动机构,驱动机构包括驱动组件,第一装载和第二装载分别在第一运动状态和第二运动状态通过曝光区当曝光时,第一装载以第一循环轨迹运动、并在第一运动状态时通过曝光区、以对第一待曝光件进行曝光,而第二装载以第二循环轨迹运动、并在第二运动状态时通过曝光区、以对第二待曝光件进行曝光,第一装载和第二装载均循环运动,且第二待曝光曝光时还能进行第一曝光成品的卸载或下一个第一待曝光件的装载,曝光效率更高,相比传统采用翻转双面曝光的方式,曝光精度也更高。
  • 悬臂台面双面曝光方法
  • [发明专利]一种多工件协作直写光刻方法-CN201410539501.7在审
  • 曹旸;李阳 - 江苏影速光电技术有限公司
  • 2014-10-13 - 2015-02-25 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种多工件协作直写光刻方法,采用并行曝光控制技术,属于直写式光刻机曝光技术领域。首先对A工件进行上板、对准操作,后将A工件移动至曝光起始位置进行扫描曝光;同时对B工件进行上板、对准操作,后将B工件移动至曝光起始位置,等待扫描曝光;A工件完成扫描曝光后,退出A工件,并对A工件进行下板、上新板、对准的扫描曝光准备工作,同时开始对B工件进行扫描曝光流程。本发明大幅降低了结构的复杂性,多个工件在各自的工作区域内互不干扰,使原本按顺序串行进行的曝光流程变为并行的曝光流程,极大地缩短了曝光时间。此外本发明提高了曝光品质及生产良率,在保证光刻精度的同时,不会增加任何耗时。
  • 一种工件协作光刻方法
  • [发明专利]一种提供玻璃基板边缘曝光的多功能曝光-CN201410429450.2在审
  • 李会丽;林彬;李志丹 - 上海微电子装备有限公司
  • 2014-08-28 - 2016-03-02 - G03F7/20
  • 本发明公开一种提供玻璃基板边缘曝光的多功能曝光机,其特征在于:包括框架以及设置在所述框架上的曝光光源模块、掩膜模块、镜筒及物镜模块、基板曝光模块、预对准模块、机械手模块和边缘曝光模块;所述基板曝光模块和预对准模块并排间隔放置;所述镜筒及物镜模块位于所述基板曝光载台上方;所述掩膜模块位于所述镜筒及物镜模块的上方;所述曝光光源模块设置在所述掩膜模块上方;所述边缘曝光模块位于所述预对准模块的上方;所述边缘曝光模块包括边缘曝光光源、光学镜组及调整装置;在玻璃基板预对准的同时,边缘曝光模块对基板进行边缘曝光
  • 一种提供玻璃边缘曝光多功能
  • [实用新型]一种印刷电路板曝光-CN201120340641.3有效
  • 林锐群;孙名伟;冯锰;林秀娜 - 汕头市锐科电子有限公司
  • 2011-09-13 - 2012-05-23 - G03F7/20
  • 本实用新型公开了一种印刷电路板曝光机,其特征在于:包括放板曝光室、输送轨道、曝光平台和曝光灯;上述放板设在曝光室上,上述放板的台面与曝光室的入口相对应;上述输送轨道可来回输送地设在放板曝光室上,上述输送轨道分别位于放板的台面上和曝光室的室内;上述曝光平台包括曝光平台座和透明盖,上述曝光平台座固定安装在输送轨道上,上述透明盖可转动打开或合上地安装在曝光平台座上;上述曝光灯设在曝光室内,上述曝光灯位于进入曝光室内的曝光平台的上方所以,本印刷电路板曝光机的结构简单、曝光效果好。
  • 一种印刷电路板曝光
  • [发明专利]双面扩印装置-CN200810040820.8有效
  • 侯锋 - 侯锋
  • 2008-07-22 - 2010-01-27 - G03B27/32
  • 本发明涉及一种双面扩印装置,包括相纸输入机构、曝光曝光器、相纸传送机构、翻面机构和选择机构。相纸输入机构输入曝光用相纸。曝光设于相纸输入机构之后以容纳曝光用相纸。相纸传送机构具有绕经曝光的传送带,以传送相纸至曝光曝光器投射光束以对曝光台上的相纸的迎光面曝光。翻面机构对进入其中的相纸进行翻面后回送至曝光,使相纸未被曝光的一面成为迎光面。选择机构设置于曝光与翻面机构之间,用以选择相纸进入翻面机构或是直接输出。本双面扩印装置只需要1个曝光器,并且可充分利用原有单面扩印设备。
  • 双面扩印装置
  • [实用新型]双面扩印装置-CN200820058753.8无效
  • 侯锋 - 侯锋
  • 2008-05-22 - 2009-06-03 - G03B27/32
  • 本实用新型涉及一种双面扩印装置,包括相纸输入机构、曝光曝光器、相纸传送机构、翻面机构和选择机构。相纸输入机构输入曝光用相纸。曝光设于相纸输入机构之后以容纳曝光用相纸。相纸传送机构具有绕经曝光的传送带,以传送相纸至曝光曝光器投射光束以对曝光台上的相纸的迎光面曝光。翻面机构对进入其中的相纸进行翻面后回送至曝光,使相纸未被曝光的一面成为迎光面。选择机构设置于曝光与翻面机构之间,用以选择相纸进入翻面机构或是直接输出。本双面扩印装置只需要1个曝光器,并且可充分利用原有单面扩印设备。
  • 双面扩印装置
  • [发明专利]一种晶圆曝光管理方法、装置、电子设备和系统-CN202211726592.6在审
  • 姜坤 - 上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
  • 2022-12-30 - 2023-04-25 - G03F7/20
  • 本申请涉及半导体领域,公开了一种晶圆曝光管理方法,包括以目标光刻机作为晶圆的当前曝光曝光时所用的光刻机;目标光刻机为参考层曝光时所用的光刻机;确定所述目标光刻机中的目标工件和其他工件;目标工件为参考层曝光时所用的工件;根据目标光刻机中其他工件与目标工件的套刻误差差异值,确定目标光刻机中其他工件与当前曝光层对应的当前套刻误差下货值;发送当前套刻误差下货值至目标光刻机,以便目标光刻机中其他工件对当前曝光层进行曝光本申请固定当前曝光曝光所用的光刻机,但不固定工件,可使目标光刻机中所有工件均参与曝光,提升光刻机产能。
  • 一种曝光管理方法装置电子设备系统
  • [发明专利]一种自动化双面曝光机及其曝光方法-CN202010581542.8在审
  • 钱志斌;胥涛棚;张雷;李伟成 - 苏州源卓光电科技有限公司
  • 2020-06-23 - 2021-12-24 - G03F7/20
  • 一种自动化双面曝光机及其曝光方法,其包括上料装置、第一面、第二面和下料装置,其还包括转移搬运组件和翻转搬运组件,位于所述第一面和第二面之间的曝光系统,所述第一面和所述第二面放置待曝光基件的初始位置位于所述曝光系统的两侧,依次移动至所述曝光系统进行曝光,所述翻转搬运组件翻转移动所述基件,所述转移搬运组件移动所述基件。本发明的第一面和第二面共用一个曝光系统,所述曝光装置呈直线形设置,配合转移搬运组件和翻转搬运组件,对第一面和第二面分别进行对位曝光,两个台面可以分别对基件的第一曝光面和第二曝光面进行对位曝光,互不干扰,曝光效率高,通过一个曝光系统一次流转完成基件的双面曝光
  • 一种自动化双面曝光及其方法

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