专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]异质结太阳能电池-CN201610659357.X有效
  • 陈玉鸿;刘俊岑;刘永宗;林宸澄 - 财团法人工业技术研究院
  • 2013-12-06 - 2017-12-08 - H01L31/0216
  • 本发明公开了一种异质结太阳能电池,包含p硅层,具有受光面及相对于该受光面的背光面;第一纳米银线层,形成在该p硅层的受光面上;第一n氧化层,形成在该纳米银线层上;i硅薄膜层,形成在该p硅层的背光面上;第二n氧化层,形成在该i硅薄膜层上;以及第二纳米银线层,形成在该第二n氧化层上。由于第一、第二n氧化层及第一、第二纳米银线层的透光度、导电度及反射率较现有技术为佳,从而可使得本发明在光电转换与单位成本得到非常大的竞争优势。
  • 异质结太阳能电池
  • [发明专利]光电转换装置-CN201680028567.7有效
  • 原田真臣;东贤一;神川刚;酒井敏彦;国吉督章;辻埜和也;邹柳民 - 夏普株式会社
  • 2016-02-24 - 2020-02-28 - H01L31/0216
  • 光电转换装置(1)具备以与半导体基板(101)的一个面相接的方式形成的i质半导体层(102i)、分隔而配置于i质半导体层(102i)上的p质半导体层(102p)与分隔而配置于i质半导体层(102i)上,且于半导体基板(101)的面内方向邻接于p质半导体层(102p)而形成的n质半导体层(102n)。进而,光电转换装置(1)具备电极(103)作为保护层,所述保护层是以在邻接的p质半导体层(102p)之间及邻接的n质半导体层(102n)之间与i质半导体层(102i)相接的方式形成。
  • 光电转换装置
  • [发明专利]沟槽MOS器件及其制造方法-CN202010096649.3有效
  • 余健;刘金磊 - 绍兴中芯集成电路制造股份有限公司
  • 2020-02-17 - 2022-08-09 - H01L29/78
  • 本发明提供了一种沟槽MOS器件及其制造方法,在采用常规工艺制作出沟槽MOS器件圆正面上所需的结构后,先对沟槽MOS器件圆的背面进行初次减薄至常规减薄厚度,然后在沟槽MOS器件圆正面上形成上表面平坦的阻挡层以保护沟槽MOS器件圆正面上的器件结构,并提供平坦的键合表面,接着,使用承载圆键合到阻挡层上,该承载圆可以承载初次减薄后的沟槽MOS器件圆,并在进一步对沟槽MOS器件圆的背面进行再次减薄的过程中抵消其中的应力,从而可以在不损坏沟槽MOS器件圆的正面结构的前提下,最终减薄沟槽MOS器件圆的背面至极限的所需厚度,能达到优化衬底电阻90%,以提高整个器件15%以上的性能的效果。
  • 沟槽mos器件及其制造方法

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