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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]废水的处理装置和处理方法-CN200510003443.7有效
发明人：清川智弘;田中伦明;一柳直人 -专利权人：栗田工业株式会社
申请日： 2005-12-14 - 公布日： 2006-06-28 - 主分类号： C02F3/02 文献下载
摘要：在进行亚硝酸型硝化，对含有氮化合物和无机离子的废水中的氮化合物进行处理时，含有氮化合物和无机离子的废水的处理装置防止硝化槽中的无机离子因不溶解引起的结垢析出。该处理装置具备：将含有氮化合物和无机离子的废水经曝气而将氮化合物氧化成亚硝酸性氮的硝化槽1、用于抑制无机离子结垢的结垢防止装置2，3、和用于将硝化槽1内的pH保持在中性至碱性的pH调节剂添加装置2。
废水处理装置方法

[发明专利]废水的处理装置和处理方法-CN201210254527.8有效
发明人：清川智弘;田中伦明;一柳直人 -专利权人：栗田工业株式会社
申请日： 2005-12-14 - 公布日： 2012-12-19 - 主分类号： C02F9/14 文献下载
摘要：在进行亚硝酸型硝化，对含有氮化合物和无机离子的废水中的氮化合物进行处理时，含有氮化合物和无机离子的废水的处理装置防止硝化槽中的无机离子因不溶解引起的结垢析出。该处理装置具备：将含有氮化合物和无机离子的废水经曝气而将氮化合物氧化成亚硝酸性氮的硝化槽1、用于抑制无机离子结垢的结垢防止装置2，3和用于将硝化槽1内的pH保持在中性至碱性的pH调节剂添加装置2。
废水处理装置方法

[发明专利]废水的处理装置和处理方法-CN201010623270.X无效
发明人：清川智弘;田中伦明;一柳直人 -专利权人：栗田工业株式会社
申请日： 2005-12-14 - 公布日： 2011-06-29 - 主分类号： C02F9/14 文献下载
摘要：在进行亚硝酸型硝化，对含有氮化合物和无机离子的废水中的氮化合物进行处理时，含有氮化合物和无机离子的废水的处理装置防止硝化槽中的无机离子因不溶解引起的结垢析出。该处理装置具备：将含有氮化合物和无机离子的废水经曝气而将氮化合物氧化成亚硝酸性氮的硝化槽1、用于抑制无机离子结垢的结垢防止装置2，3、和用于将硝化槽1内的pH保持在中性至碱性的pH调节剂添加装置2。
废水处理装置方法

[发明专利]防潮层压体-CN03147911.1有效
发明人：河向隆;儿玉和彦;吉村千登势 -专利权人：王子制纸株式会社
申请日： 2003-06-26 - 公布日： 2004-01-14 - 主分类号： D21H21/16 文献下载
摘要：在纸载体的至少一面上设置了含有合成树脂、膨润性无机层状化合物和含氮化合物的防潮层的防潮层压体中，膨润性无机层状化合物的阳离子交换容量A(meq/100)和含氮化合物的阳离子量B(meq/100)、膨润性无机层状化合物和含氮化合物的质量比C/D(膨润性无机层状化合物的质量/含氮化合物的质量)满足下式：10≤(A×C)/(B×D)≤1000。
防潮层压

[发明专利]一种基于层状化合物的碳基叠氮化物复合物及其制备方法-CN202111046367.3在审
发明人：杨利;闫振展;韩纪旻;佟文超 -专利权人：北京理工大学
申请日： 2021-09-03 - 公布日： 2023-03-07 - 主分类号： C06B35/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种碳基叠氮化物复合物及其制备方法，以有机‑无机层状化合物、含铅有机‑无机层状化合物、含银有机‑无机层状化合物为前驱体材料，经过碳化和原位叠氮化反应制备出一类以碳为载体的叠氮化物复合物材料。本发明制备碳叠氮化物复合物的方法，制备方法新颖、原料便宜易得、工艺简单易行。本发明得到的碳叠氮化物起爆药，与传统的改性叠氮化物相比，叠氮化物含量较高，具有较强的起爆能力。由于碳材料具有优异导电性能并限制叠氮化物颗粒的自由运动，极大地提高了其静电安全性。
一种基于层状化合物叠氮化物复合物及其制备方法

[发明专利]芳烃化合物直接合成含氮杂环芳烃化合物的方法-CN201310669687.3有效
发明人：张智平;张新荣;郑亚君 -专利权人：西安石油大学
申请日： 2013-12-10 - 公布日： 2014-03-12 - 主分类号： C07D213/16 文献下载
摘要：烃化合物直接合成含氮杂环芳烃化合物的方法，在常温放电条件下，以无机氮化合物为氮源，以芳烃化合物为原料，在敞开式或密封反应釜中，通过苯与含氮化合物自由基的反应生成含氮杂环芳烃化合物，本发明在常温常压下，苯通过与无机含氮化合物的相互作用，在放电条件下可直接生成吡啶化合物；同时，利用本发明提供的反应条件，可使甲苯直接转化为3-甲基吡啶、二甲苯生成二甲基吡啶、萘生成异喹啉等；该方法具有操作简便，条件温和，原料易得，选择性高等优点。
芳烃化合物直接合成含氮杂环方法

[发明专利]树脂组合物、预浸料、覆金属箔层叠板、树脂片及印刷电路板-CN201780005157.5有效
发明人：中住宜洋;植山大辅;高野健太郎 -专利权人：三菱瓦斯化学株式会社
申请日： 2017-08-23 - 公布日： 2019-06-14 - 主分类号： C08L79/00 文献下载
摘要：本发明的树脂组成物包含：氰酸酯化合物(A)和/或马来酰亚胺化合物(B)、以及无机填充材料(C)，前述无机填充材料(C)包含：含有六方晶氮化硼一次颗粒、且该六方晶氮化硼一次颗粒的(0001)面彼此重叠而成的氮化硼颗粒聚集体
六方晶氮化硼无机填充材料一次颗粒马来酰亚胺化合物氰酸酯化合物氮化硼颗粒树脂组成物树脂组合物印刷电路层叠板金属箔聚集体树脂片预浸料

[发明专利]遮光性组合物、固化膜、滤色器、遮光膜、固体摄像元件、图像显示装置-CN201980045417.0有效
发明人：石川达郎;田口贵规;坂本裕贵 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2019-08-06 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：本发明提供一种长期经时稳定性优异的遮光性组合物。还提供一种固化膜、滤色器、遮光膜、固体摄像元件及图像显示装置。上述遮光性组合物含有遮光颜料、树脂、含有烯属不饱和基的低分子化合物即聚合性化合物及聚合引发剂，上述遮光颜料含有无机粒子、包覆上述无机粒子的无机化合物，上述无机粒子含有选自由氮化锆、氮氧化锆、氮化钒、氮氧化钒、氮化铌及氮氧化铌组成的组中的1种以上的含氮金属化合物，上述无机化合物含有硅原子，通过X射线光电子能谱分析求出的上述遮光颜料的表面上的选自由锆原子、钒原子及铌原子组成的组中的金属原子的合计含量相对于硅原子的含量的含有原子数比超过
遮光组合固化滤色器固体摄像元件图像显示装置

[发明专利]无机化合物微粒子分散组合物及无机化合物微粒子分散硬化物-CN201380038673.X有效
发明人：池直树;大本真德;高村直宏 -专利权人：第一工业制药株式会社
申请日： 2013-07-23 - 公布日： 2015-04-01 - 主分类号： C08K3/00 文献下载
摘要：本发明提供一种可使无机金属化合物微粒子的分散性及分散状态的保存稳定性变得优异，并且可使硬化成膜状后的表面平滑性也变得优异的无机化合物微粒子分散组合物及硬化物。本发明的无机化合物微粒子分散组成物含有(A)无机化合物微粒子及(B)聚合性化合物，视需要含有(C)溶剂，(A)无机化合物微粒子处于分散状态，且使用(A-1)金属氧化物的微粒子溶胶、或者(A-2)金属或半金属氮化物的微粒子溶胶作为(A)无机化合物微粒子。通过使该分散组成物硬化，而获得本发明的硬化物。
无机化合物微粒子分散组合硬化

[发明专利]表面修饰无机氮化物、组合物、导热材料及带导热层的器件-CN201880043394.5有效
发明人：人见诚一;高桥庆太;林直之;林大介 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2018-07-11 - 公布日： 2023-04-18 - 主分类号： C01B21/064 文献下载
摘要：本发明提供一种分散性优异的表面修饰无机氮化物。并且，提供一种包含上述表面修饰无机氮化物的组合物、导热材料及带导热层的器件。本发明的表面修饰无机氮化物包含无机氮化物和吸附于无机氮化物表面上的下述通式(1)所表示的化合物。
表面修饰无机氮化物组合导热材料器件

[发明专利]异相氧化制备氧代异佛尔酮的方法-CN200710164488.1无效
发明人：李浩然;陈志荣;毛建拥;胡兴邦;王从敏;胡柏剡 -专利权人：浙江大学;浙江新和成股份有限公司
申请日： 2007-12-05 - 公布日： 2008-05-21 - 主分类号： C07C49/603 文献下载
摘要：本发明涉及一种异相氧化制备氧代异佛尔酮的方法，其特征是：原料β－异佛尔酮在有机碱以及助溶剂存在下，以含氮化合物改性的活性多孔无机载体支载的过渡金属盐为催化剂，使用分子氧或富氧气体为氧化剂，氧化生成氧代异佛尔酮原料β－异佛尔酮与催化剂的摩尔比在1000∶1到10∶1之间，原料β－异佛尔酮与有机碱的比例在50∶1到1∶50之间，反应温度在－30℃～150℃间，反应15～30小时，所述催化剂基本结构为：金属盐－含氮化合物/无机载体，其中过渡金属阳离子与含氮化合物的摩尔比在0.001～1之间，含氮化合物与无机载体摩尔比为0.1～2之间。
氧化制备氧代异佛尔酮方法

[发明专利]聚氨基甲酸酯树脂组合物-CN201480012560.7在审
发明人：藤本泰范;野田俊树;繁中望 -专利权人：第一工业制药株式会社
申请日： 2014-05-22 - 公布日： 2015-11-04 - 主分类号： C08G18/69 文献下载
摘要：本发明提供一种冷热循环下的热耐久性优异的聚氨基甲酸酯树脂组合物。本发明涉及一种聚氨基甲酸酯树脂组合物，其包括：含羟基的化合物、含异氰酸酯基的化合物及无机填充材(D)，所述含羟基的化合物含有聚丁二烯多元醇(A)，所述含异氰酸酯基的化合物含有聚异氰酸酯化合物的异氰脲酸酯改性体(B)及聚异氰酸酯化合物的脲基甲酸酯改性体(C)，所述无机填充材(D)为选自由氧化铝、氢氧化铝、氮化铝、氮化硼、氢氧化镁及氧化镁所组成的群组中的一种以上，相对于聚氨基甲酸酯树脂组合物，无机填充材(D)的调配量为
氨基甲酸酯树脂组合

[发明专利]用于氮化硅层的蚀刻组合物和使用其蚀刻氮化硅层的方法-CN202211018998.9在审
发明人：文炯朗;崔正敏;李圭原;张俊英;尹志贤;李智惠;李在珉;赵娟振;韩美莲;金贤贞 -专利权人：三星SDI株式会社
申请日： 2022-08-24 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： C09K13/06 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于氮化硅层的蚀刻组合物和使用其蚀刻氮化硅层的方法。该蚀刻组合物包含：无机酸或其盐；以及硅烷化合物，其中，该硅烷化合物包括含反应性基团的第一硅烷化合物和含可溶性基团的第二硅烷化合物的混合物的聚合物、聚合物的反应产物、其盐、或它们的组合。
用于氮化蚀刻组合使用方法

[发明专利]阻气性膜-CN201810245065.0有效
发明人：森健太郎;上林浩行 -专利权人：东丽株式会社
申请日： 2013-12-25 - 公布日： 2021-04-30 - 主分类号： C08J7/048 文献下载
摘要：本发明的阻气膜，其特征在于，是在高分子基材的至少一侧，从上述高分子基材侧起依次具有无机层[A]和硅化合物层[B]的阻气性膜，无机层[A]包含锌化合物和硅氧化物，硅化合物层[B]包含硅氧氮化物，并且无机层[A]与硅化合物层[B]接触。
气性

[发明专利]阻气性膜-CN201380069794.0在审
发明人：森健太郎;上林浩行 -专利权人：东丽株式会社
申请日： 2013-12-25 - 公布日： 2015-09-09 - 主分类号： B32B9/00 文献下载
摘要：本发明的阻气膜，其特征在于，是在高分子基材的至少一侧，从上述高分子基材侧起依次具有无机层[A]和硅化合物层[B]的阻气性膜，无机层[A]包含锌化合物和硅氧化物，硅化合物层[B]包含硅氧氮化物，并且无机层[A]与硅化合物层[B]接触。
气性

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