专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种透射圆极化SPP波束分离器-CN202210220930.2有效
  • 王登攀;王光明;蔡通;汤世伟;王赞扬 - 中国人民解放军空军工程大学
  • 2022-03-08 - 2023-05-26 - H01Q15/00
  • 一种透射圆极化SPP波束分离器,包括:表面,表面由多个第一、第二阵列组成,第一、第二阵列沿宽度方向交替布置,第一、第二阵列分别包括多个第一、第二子阵,第一子阵由多个第一半波片组成,第二子阵由多个第二半波片组成第二半波片均包括四层第一金属贴片,相邻的第一金属贴片间由第一介质板隔开,第一、第二子阵列中在长度方向上相邻的第一金属贴片的大小相同、旋转角不同,在宽度方向上相邻的第一金属贴片的大小不同、旋转角相同;设置于表面下方的本板,本板和表面的几何中心重合,表面和本板等宽,本板的长度大于表面的长度。
  • 一种透射极化spp波束分离器
  • [发明专利]一种基于表面的近场表面波面内波前调控器件-CN202310020872.3在审
  • 孙树林;潘威康;王卓;何琼;周磊 - 复旦大学
  • 2023-01-06 - 2023-06-27 - H01Q15/00
  • 本发明属于电磁表面技术领域,具体为一种基于表面的近场表面波面内波前调控器件。本发明调控器件由几何相位表面和表面波本区域拼接组成。表面区域由具有二重旋转对称人工单元组成,通过设计其几何尺寸和旋转方位角度,实现理论设计的辐射相位分布;本区域是由介质薄膜和金属薄膜组成的双层结构;该器件中心工作频率为12GHz,具有宽频工作特性当表面波从本区域传输至表面区域时,不同位置处的人工微结构作为次波源在近场面内重新构建出具有任意复杂波前分布的表面波,解决了传统器件在近场面内传输调控中存在的大体积、非亚波长、多模式、效率低等难题。
  • 一种基于表面近场表面波面内波前调控器件
  • [发明专利]一种具有低损耗的零折射率材料及设计方法-CN201910724822.7有效
  • 梁久久;李杨 - 清华大学
  • 2019-08-07 - 2020-07-31 - G02B1/00
  • 本发明提出了一种具有低损耗的零折射率材料及设计方法。所述零折射率材料包括多个呈周期性排列的二维晶体单元,各晶体单元中第一介质柱的高度满足光子束缚态条件,使所述零折射率材料布里渊区中心的磁偶极子品质因数最高,此时所述零折射率材料的损耗最低。本设计方法包括:建立用于模拟所述材料的光子晶体模型;保持所有晶体单元的高度不变,调节其周期和沿x、y方向的结构参数,得到满足零折射率的光子晶体模型;建立晶体单元中第一介质柱高度和光子晶体模型的本模式品质因数之间的关系本发明使得零折射率材料的大规模商用成为可能。
  • 一种具有损耗折射率材料设计方法
  • [发明专利]一种成像模组-CN202011155716.0在审
  • 胡跃强;王旭东;欧香念;张建;姜玉婷;李苓;段辉高;宋强;马国斌;徐晓波 - 湖南大学;深圳珑璟光电科技有限公司;湖南大学深圳研究院
  • 2020-10-26 - 2021-01-05 - H04N5/225
  • 本发明实施例涉及表面之中的透镜技术领域,特别是涉及一种成像模组,包括衬底、透镜、感光芯片和光学胶。透镜包括四种透镜单元,其电介质基底设置于衬底,包括第一透镜单元、第二透镜单元、第三透镜单元和第四透镜单元,第一透镜单元与第二透镜单元的电介质纳米柱的面内角度的差值为九十度,第三透镜单元,与第一透镜单元和第二透镜单元的电介质纳米柱的面内角度的差值为四十五度,第四透镜单元可供左圆或者右圆偏振光通过。感光芯片设置于透镜。光学胶设置于透镜与感光芯片之间。成像模组的四种透镜单元分别对四种偏振光敏感,成像模组可同时进行四种偏振成像。
  • 一种成像模组
  • [实用新型]一种成像模组-CN202022410002.1有效
  • 胡跃强;王旭东;欧香念;张建;姜玉婷;李苓;段辉高;宋强;马国斌;徐晓波 - 湖南大学;深圳珑璟光电科技有限公司;湖南大学深圳研究院
  • 2020-10-26 - 2021-05-11 - H04N5/225
  • 本实用新型实施例涉及表面之中的透镜技术领域,特别是涉及一种成像模组,包括衬底、透镜、感光芯片和光学胶。透镜包括四种透镜单元,其电介质基底设置于衬底,包括第一透镜单元、第二透镜单元、第三透镜单元和第四透镜单元,第一透镜单元与第二透镜单元的电介质纳米柱的面内角度的差值为九十度,第三透镜单元,与第一透镜单元和第二透镜单元的电介质纳米柱的面内角度的差值为四十五度,第四透镜单元可供左圆或者右圆偏振光通过。感光芯片设置于透镜。光学胶设置于透镜与感光芯片之间。成像模组的四种透镜单元分别对四种偏振光敏感,成像模组可同时进行四种偏振成像。
  • 一种成像模组

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