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[发明专利]用于图形化宽度显著不同的线的复合光学光刻方法-CN200480036295.2无效
发明人：亚恩·博罗多夫斯基 -专利权人：英特尔公司
申请日： 2004-10-06 - 公布日： 2007-01-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：第一光刻过程在第一光致抗蚀剂上形成交替的、连续的基本等宽的线和间隙的周期性图形。第二光刻过程使用非干涉光刻技术打断所述被图形化的线的连续性，并形成预期的集成电路特征的一部分。所述第一光致抗蚀剂可以被显影。第二光致抗蚀剂在所述第一光致抗蚀剂之上形成。第三光刻过程使用非干涉光刻技术来曝光所述第二光致抗蚀剂上的图形，并形成集成电路图形的剩余预期特征。
用于图形宽度显著不同复合光学光刻方法

[发明专利]一种光射野一致性检测模体、方法、装置及设备-CN201710930472.0有效
发明人：徐晗;姜志超;张林;李明 -专利权人：东软医疗系统股份有限公司
申请日： 2017-10-09 - 公布日： 2020-04-10 - 主分类号： A61N5/10 文献下载
摘要：本发明公开一种光射野一致性检测模体、方法、装置及设备，本发明利用电子射野影像系统EPID拍摄投影图像，分别得到射野分布图和光野的顶点分布图。通过比较射野分布图和光野的顶点分布图，最终确定光野和射野之间的偏差信息。本发明能够对光射野的一致性进行自由检测，不局限于几种固定大小的射野，解决目前的光射野一致性检测中灵活性不足的问题。
一种光射野一致性检测方法装置设备

[发明专利]基于聚（丙烯酸丁酯）的具有透明性和伸缩性的电致变色元件用组合物及电致变色部件的制造方法-CN202180049458.4在审
发明人：裵津玗;吴承注 -专利权人：韩国技术教育大学校产学协力团
申请日： 2021-12-08 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： C08L33/08 文献下载
摘要：本发明涉及一种基于聚(丙烯酸丁酯)(Poly(butyl acrylate))的具有透明性和伸缩性的电致变色元件用组合物及电致变色部件的制造方法。根据本发明的实施例的电致变色元件用组合物包含光透射性高分子树脂、交联剂、引发剂、离子性液体以及电致变色物质，上述光透射性高分子树脂为聚(丙烯酸丁酯)(Poly(butyl acrylate))。
基于丙烯酸具有透明性伸缩性变色元件组合部件制造方法

[实用新型]高精度多光轴一致性测量系统-CN202020626892.7有效
发明人：张玺斌;赵建科;徐亮;刘峰;高立民;李晓辉;李朝辉;午建军;刘勇 -专利权人：中国科学院西安光学精密机械研究所
申请日： 2020-04-23 - 公布日： 2020-11-17 - 主分类号： G01M11/04 文献下载
摘要：本实用新型涉及多光轴一致性测量，具体涉及一种高精度多光轴一致性测量系统。本实用新型的目的是解决现有多光轴一致性测量系统存在无法建立高精度测量基准、难以进行兼顾激光发射光轴、激光接收光轴、可见光光轴、红外光轴的多光轴一致性测量的技术问题，提供一种高精度多光轴一致性测量系统。该系统包括平行光管组件、焦点组件、取样镜组件、长焦自准直光管组件；平行光管组件包括离轴抛物面镜和折轴镜；取样镜组件包括第一取样镜和第二取样镜，第二取样镜为半透半反镜；长焦自准直光管组件包括会聚镜头、分光镜
高精度光轴一致性测量系统

[发明专利]石墨烯改性的干膜光致抗蚀剂及其在印刷线路板中的应用-CN201810176044.8有效
发明人：钱晓春;衡京;胡春青;翁云峰 -专利权人：常州强力电子新材料股份有限公司;常州强力先端电子材料有限公司
申请日： 2018-03-02 - 公布日： 2021-10-08 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供了一种石墨烯改性的干膜光致抗蚀剂及其在印刷线路板中的应用。该石墨烯改性的干膜光致抗蚀剂包括石墨烯改性的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯、碱可溶性树脂、光聚合单体及光引发剂。上述干膜光致抗蚀剂中采用了石墨烯改性的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯，因石墨烯具有低原子层厚度、较高的拉伸断裂伸长率和抗冲击强度，利用石墨烯改性的聚氨酯(甲基)丙烯酸酯能够极大提高干膜光致抗蚀剂的柔韧性、盖孔性和抗电镀性，使得本发明提供的干膜光致抗蚀剂能更好地应用在多层印刷线路板和微型印刷线路板的制备中。
石墨改性干膜光致抗蚀剂及其印刷线路板中的应用

[发明专利]移除光致抗蚀剂的方法-CN200910207008.4无效
发明人：简金城;杨建伦;叶秋显;许哲华;李志成;徐韶华;陈正国;陈信琦;王志坚 -专利权人：联华电子股份有限公司
申请日： 2009-10-23 - 公布日： 2011-05-04 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明揭示一种移除光致抗蚀剂的方法。首先，提供基材，其包含图案化光致抗蚀剂。其次，对基材进行离子注入步骤。然后，对基材进行非氧化性前处理，其中非氧化性前处理提供包含氢气、载气与等离子体的处理条件。继续，对基材进行光致抗蚀剂剥除步骤，以完全移除光致抗蚀剂。本发明既能够顺利移除光致抗蚀剂材料层，又能够同时兼顾到基材上多晶硅线路的完整性。
光致抗蚀剂方法

[发明专利]形成包括屏蔽区的形状阵列的图形的方法-CN201010166680.6有效
发明人： C-C·陈;黄武松;李伟健;C·萨尔玛 -专利权人：国际商业机器公司;英芬能技术公司
申请日： 2010-04-27 - 公布日： 2010-11-03 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：在衬底上形成具有第二光敏性的第二光致抗蚀剂。在第二光致抗蚀剂上形成具有大于第二光敏性的第一光敏性的第一光致抗蚀剂。优选地，第一光致抗蚀剂为在曝光后变为透明的灰抗蚀剂。采用具有第一图形的第一母掩模光刻曝光第一抗蚀剂的至少一部分以形成至少一个透明的光刻曝光的抗蚀剂部分，而第二光致抗蚀剂保持完整。采用包括第二图形的第二母掩模光刻曝光第二抗蚀剂以在第二光致抗蚀剂中形成多个光刻曝光的形状。
形成包括屏蔽形状阵列图形方法

[发明专利]光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法-CN202110106359.7在审
发明人：杨立柏;张庆裕 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2021-01-26 - 公布日： 2021-08-10 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本文提供光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法。具体地，本文提供一种在光致抗蚀剂层中形成图案的方法包括在基板上形成光致抗蚀剂层；以及使光致抗蚀剂层选择性地曝露于光化辐射以形成潜在图案。通过将显影剂施加至经选择性曝露的光致抗蚀剂层以形成图案，来使潜在图案显影。光致抗蚀剂层包含光致抗蚀剂组合物，光致抗蚀剂组合物包含光活性化合物和聚合物。DDA0002917541900000011.JPG" imgContent="drawing" imgFormat="JPEG" orientation="portrait" inline="yes" />或者，光致抗蚀剂组合物包含光活性化合物
光致抗蚀剂组合形成图案方法

[发明专利]有机发光结构及其制造方法及有机发光组件-CN201310285545.7有效
发明人：曾迎祥 -专利权人：上海和辉光电有限公司
申请日： 2013-07-08 - 公布日： 2017-02-08 - 主分类号： H01L51/56 文献下载
摘要：本发明公开了一种有机发光结构及其制造方法，该方法包括在基板上形成平坦化层，所述平坦化层包括负性光致抗蚀剂材料；利用掩膜对所述负性光致抗蚀剂材料执行曝光工艺；对经过曝光工艺后的所述负性光致抗蚀剂材料执行显影工艺，从而得到光致抗蚀剂图案，其中所述光致抗蚀剂图案包括平坦部和位于平坦部四周的凸起部，所述凸起部具有平滑表面；及在所述平坦部上形成反射电极和有机发光层，其中所述反射电极还位于所述凸起部的相对侧表面上。
有机发光结构及其制造方法组件

[发明专利]一种分布式光伏电价审计方法及系统-CN202011209215.6在审
发明人：孙浩;陈明帅;胡宽;宋磊;赵明斌;陈淼;韩政道;殷明泽;许崇杰;汪润贵;马文华 -专利权人：国网山东省电力公司日照供电公司;国家电网有限公司
申请日： 2020-11-03 - 公布日： 2021-02-09 - 主分类号： G06Q30/02 文献下载
摘要：本发明提供一种分布式光伏电价审计方法及系统，均能够：定期获取各分布式光伏用户在设定期限内的发电电量及所述发电电量对应的电费结算数据；利用所述发电电量及电费结算数据，对应计算各分布式光伏用户执行的光伏电价，分别记为实际执行电价；获取所述设定期限内的光伏电价执行标准，记为基准电价；分别比较各实际执行电价与所述基准电价的一致性；判定一致性比较不通过的分布式光伏用户电价执行错误，并对一致性比较不通过的各分布式光伏用户进行电价执行错误报警本发明用于确保分布式光伏电价执行的及时性与准确性，继而有助于确保分布式光伏客户结算的准确性。
一种分布式电价审计方法系统

[发明专利]稀释剂组合物-CN201610796689.2有效
发明人：崔哲珉;宋寅珏;李京浩 -专利权人：东友精细化工有限公司
申请日： 2016-08-31 - 公布日： 2019-10-11 - 主分类号： G03F7/16 文献下载
摘要：所述稀释剂组合物具有优异的EBR、RRC和再加工性能以及改善光致抗蚀剂涂覆均匀性的效果，特别地，对具有高极性的光致抗蚀剂表现出优异的溶解性，以可应用于各种光致抗蚀剂。
稀释剂组合

[发明专利]配电网光储系统多阶段协调电压优化方法及装置-CN202210517735.6在审
发明人：王守相;程耀祥;赵倩宇;董逸超;穆昊 -专利权人：天津大学;国网天津市电力公司;国家电网有限公司
申请日： 2022-05-12 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： H02J3/16 文献下载
摘要：本发明涉及配电网光储系统多阶段协调电压优化方法，将调压策略分为三个阶段：1)利用解析法进行光伏逆变器就地无功补偿；2)基于滤波一致性选择光伏逆变器无功输出率为一致性变量，进行光伏逆变器分布式无功调节；3)基于滤波一致性选择储能系统荷电状态变化量为一致性变量，进行储能系统分布式有功调节；该方法可充分利用分布式光伏‑储能系统调压资源进行电压控制，在解决电压越限问题的同时，尽可能降低因参与电压控制而缩减的光伏系统有功出力总量，并降低储能系统的总体调压成本，同时该方法能很好地适应配电系统信息物理拓扑的常态化变化，相比传统的单一控制方式单阶段调压策略具有更好的调压效果与适应性。
配电网系统阶段协调电压优化方法装置

[发明专利]感光性有机膜用显影液组合物-CN200780007192.7有效
发明人：安江秀国;西岛佳孝;城户秀作 -专利权人：长瀬化成株式会社;NEC液晶科技株式会社
申请日： 2007-02-27 - 公布日： 2009-03-25 - 主分类号： G03F7/32 文献下载
摘要：本发明提供一种感光性有机膜(主要是光致抗蚀剂)用显影液，所述显影液不腐蚀Al的性能优异，并且显影性也良好。本发明的感光性有机膜(主要是光致抗蚀剂)用显影液组合物含有0.5重量％～5重量％氢氧化四烷基铵、10重量％～40重量％山梨糖醇和木糖醇等糖醇、3重量％～19重量％亚砜类、二醇醚类、酰胺类等水溶性有机溶剂以及余量的水，所述组合物对感光性有机膜(主要是光致抗蚀剂)的曝光部的溶解速度与对感光性有机膜(主要是光致抗蚀剂)的未曝光部的溶解速度之比为50以上。
感光性有机显影液组合

[实用新型]影像综合测试模体-CN201920708307.5有效
发明人：吴雷超 -专利权人：深圳市洪诚嘉汇科技有限公司
申请日： 2019-05-15 - 公布日： 2020-05-15 - 主分类号： A61B6/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种影像综合测试模体，包括模体基板、设于模体基板的光射野一致性检测组件、设于模体基板的影像均匀性检测组件、设于模体基板的灰阶检测组件、设于模体基板的低对比度检测组件、以及设于模体基板的高对比度检测组件；影像均匀性检测组件包括第一均匀性检测块、以及多个第二均匀性检测块。光射野一致性检测组件可对X光机的光射野一致性进行检测，影像均匀性检测组件可对X光机的影像均匀性进行检测，灰阶检测组件可对X光机的灰阶参数进行检测，低对比度检测组件可对X光机的低对比度分辨力进行检测，高对比度检测组件可对X光机的高对比度分辨力进行检测，进而实现对X光机的多项参数进行检测，提升了检测效率。
影像综合测试

[发明专利]量子密钥分发系统中门控探测器致盲漏洞检测方法及装置-CN201911056452.0有效
发明人：黄安琪;武志豪;吴俊杰;徐平;强晓刚;丁江放;邓明堂;付祥 -专利权人：中国人民解放军国防科技大学
申请日： 2019-10-31 - 公布日： 2022-04-22 - 主分类号： H04L9/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种量子密钥分发系统中门控探测器致盲漏洞检测方法及装置，包括致盲脉冲光发生模块、触发脉冲光发生模块、量子信号截取模块、经典信号截取模块、时钟同步模块。本发明通过模拟致盲攻击的一般形式——脉冲光致盲攻击首次实现了对门控探测器致盲漏洞的较为彻底的检测，对量子密钥分发系统系统的实际安全性提升提供了保障。
量子密钥分发系统门控探测器漏洞检测方法装置