专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果9807455个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]光纤微型实验结构及其制作方法和测量仪-CN201410241197.8有效
  • 靳伟;金娃;宣海锋;汪超 - 香港理工大学深圳研究院
  • 2014-05-30 - 2017-02-08 - G01M11/02
  • 本发明涉及光纤的技术领域,公开了光纤微型实验结构及其制作方法和测量仪,微型实验结构包括单模光纤以及毛细玻璃直管,毛细玻璃直管的两端分别具有端口;单模光纤的中间部位具有拉制的光纤,单模光纤穿设在毛细玻璃直管中,且与毛细玻璃直管固定连接,整个光纤置于毛细玻璃直管内,且呈悬空布置。光纤整个置于毛细玻璃直管内,且悬空布置,在毛细玻璃直管的保护下,保护光纤不会受污染,避免外界的灰尘及水蒸气等接触光纤,不会影响光纤的光学性质,其光学性能不会随着时间快速的消退,易于进行进一步加工,实现光纤的长期,稳定的实际应用,并且易于与其它光纤器件兼容。
  • 光纤微型实验结构及其制作方法测量仪
  • [发明专利]一种高深宽比复合结构制作方法-CN201210169057.5有效
  • 马志波;姜澄宇;苑伟政 - 西北工业大学
  • 2012-05-28 - 2012-10-03 - B81C1/00
  • 本发明公开了一种高深宽比复合结构制作方法,属于电子机械系统加工领域。本发明通过先制作微米结构后制作纳米结构的方法实现有序可控高深宽比复合结构制作。以金属层作为纳米结构刻蚀掩膜,工艺过程中首先将纳米结构图形转移到金属层上,再以光刻胶为掩膜制作微米结构,最后以金属层为掩膜制作纳米结构,通过刻蚀掩膜与刻蚀材料的高选择比以及先制作微米结构后制作纳米结构的顺序,实现高深宽比的复合结构制作。工艺过程简单,易于实现结构集成,将广泛应用于仿生复合结构的制作以及超疏水结构的制作中。
  • 一种高深复合结构制作方法
  • [发明专利]应用沟槽表面结构的叶栅数值模拟与湍流控制方法-CN202111486780.1在审
  • 王立悦;王聪;孙刚;王舒悦;游波 - 复旦大学
  • 2021-12-07 - 2022-03-22 - G06F30/17
  • 本发明属于发动机流动控制技术领域,具体为一种应用沟槽表面结构的叶栅数值模拟与湍流控制方法。本发明方法包括沟槽表面的叶栅数值模拟和沟槽表面对叶栅流道的湍流控制两个部分。本发明通过对表面近壁区域的大量微观模拟结果,得到由表面沟槽引起的沿周向不同雷诺数区域的速度修正;将这些速度修正单元整合为滑移等效边界条件,并将其施加在叶栅边界,即完成简化的覆盖沟槽的跨尺度数值模拟;通过对模拟所得的流场特征分析,研究表面沟槽结构的湍流控制效果。本发明可以很好地平衡精度和效率,适于工程应用;应用本发明方法进行覆盖沟槽表面结构叶栅的数值模拟,证明沟槽表面的湍流控制作用。
  • 应用沟槽表面结构数值模拟湍流控制方法
  • [实用新型]一种制备装饰薄膜模具及装饰薄膜-CN201720234838.6有效
  • 高育龙;亢红伟;洪莘;杨广舟 - 昇印光电(昆山)股份有限公司
  • 2017-03-11 - 2017-11-28 - G02B1/10
  • 本实用新型公开了一种制备装饰薄膜模具及装饰薄膜,其特征在于,包括承载体;光学元件,所述光学元件形成于所述承载体一表面,所述光学元件为凸起结构或凹陷结构结构,所述结构设于所述光学元件表面,所述结构为凸起结构或凹陷结构本实用新型提供的一种装饰薄膜在光学元件表面设有结构,这样的结构使的该装饰薄膜在观察的时候可以看到很绚丽的光影,也可以看到另一种纹理结构效果;本申请中还公开了一种制备装饰薄膜模具,可以同时制备光学元件以及结构,模具可以是完全采用压印技术来制备光学元件以及结构,也可以采用曝光和压印的方式进行制备,工艺上变的非常简单。
  • 一种制备装饰薄膜模具
  • [发明专利]一种新的硅基结构的修饰方法-CN202110769121.2在审
  • 郑德印;王玮 - 北京大学
  • 2021-07-07 - 2021-11-16 - B81C1/00
  • 本发明涉及一种硅基结构的修饰方法,包括:提供具有结构的重度掺杂硅衬底;对所述重度掺杂硅衬底进行电化学腐蚀,从而在所述结构上形成多孔层;以及用碱性溶液进行清洗,从而去除所述多孔层。本发明方法通过精确控制电化学腐蚀工艺的过程参数,可以对已经成型的硅基结构进行灵活修饰,弥补了常规加工技术无法对结构进行有效修饰的不足。本发明方法为功能表面的制备提供了新的思路,即通过对已经成型的硅基结构进行灵活修饰来制备具有更优性能或者特殊性能的功能表面。
  • 一种硅基微纳结构修饰方法
  • [发明专利]一种光栅结构的抛光装置及抛光方法-CN202310025247.8在审
  • 叶青;郑美玲 - 上海现代先进超精密制造中心有限公司
  • 2023-01-09 - 2023-05-05 - B24B29/02
  • 本发明提供了一种光栅结构的抛光装置及抛光方法,工作方法包括以下操作步骤:S1.结构设计;S2.被抛光件标记定位;S3.装夹与位置调整;S4.结构代码输入;S5.抛光。本发明利用磁性柔性流变体与各种光学被抛光件表面高度贴合,实现被抛光件表面结构抛光;同时借助磁流变抛光的去除效率与驻留时间的控制得到更深层的结构;借助磁流变抛光的特殊优势,抛光过程中不会对被抛光件表面产生任何划痕缺陷;完全抛弃传统机械刻划方式,提供一种高效率和高精度的抛光装置工作方法,实现了对任意形貌被抛光件、任意材质被抛光件、任意被抛光件区域进行光学结构抛光。
  • 一种光栅结构抛光装置方法

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top