[发明专利]一种微纳光栅结构的抛光装置及抛光方法在审
| 申请号： | 202310025247.8 | 申请日： | 2023-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN116061070A | 公开（公告）日： | 2023-05-05 |
| 发明（设计）人： | 叶青;郑美玲 | 申请（专利权）人： | 上海现代先进超精密制造中心有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;B24B1/00;B24B47/22;B24B57/02;B24B41/00;B24B47/00 |
| 代理公司： | 上海申浩律师事务所 31280 | 代理人： | 李敏 |
| 地址： | 201292 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种微纳光栅结构的抛光装置及抛光方法，工作方法包括以下操作步骤：S1.微纳结构设计；S2.被抛光件标记定位；S3.装夹与位置调整；S4.微纳结构代码输入；S5.抛光。本发明利用磁性柔性流变体与各种微纳光学被抛光件表面高度贴合，实现被抛光件表面微纳结构抛光；同时借助磁流变抛光的去除效率与驻留时间的控制得到更深层的微纳结构；借助磁流变抛光的特殊优势，抛光过程中不会对被抛光件表面产生任何划痕缺陷；完全抛弃传统机械刻划方式，提供一种高效率和高精度的抛光装置工作方法，实现了对任意形貌被抛光件、任意材质被抛光件、任意被抛光件区域进行微纳光学结构抛光。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光栅 结构 抛光 装置 方法 | ||
【主权项】：
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