专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [其他]薄膜晶体管-CN201090001016.X有效
  • 中谷喜纪;守口正生;神崎庸辅;高西雄大 - 夏普株式会社
  • 2010-04-21 - 2013-03-27 - H01L29/786
  • 在TFT(100)中,在玻璃基板(101)上形成源极电极(110)和漏极电极(112),在它们的上表面分别形成有包括的n型层(120、121)。在n型层(120、121)上形成区域(135、136),在玻璃基板(101)上形成有非晶区域(130)。以覆盖它们的方式形成有层(145)。因此,导通电流从漏极电极(112)按顺序通过区域(135)、层(145)、区域(136),向源极电极(110)流动。另外,截止电流被非晶区域(130)限制。
  • 薄膜晶体管
  • [发明专利]多晶锭及其制备方法和多晶硅片-CN201310033073.6有效
  • 胡动力;雷琦;陈红荣;万跃鹏 - 江西赛维LDK太阳能高科技有限公司
  • 2013-01-29 - 2013-05-01 - C30B11/00
  • 本发明提供了多晶锭的制备方法,该制备方法包括:(1)在坩埚底部铺设晶形核层,晶形核层为、无定形晶硅化物材料和无定形硅化物材料中的一种或几种;晶形核层的厚度为第一高度值;(2)在晶形核层上方填装料,加热使料熔化,待料完全熔化后形成的固液界面刚好处在或深入微晶形核层时,调节热场形成过冷状态,使熔体在晶形核层基础上开始长晶;(3)待全部结晶完后,经退火冷却得到多晶锭。该制备方法能够得到位错密度低、高质量的多晶锭,并且所使用的晶形核层尺寸、形状不限,便于操作,适于大规模生产。本发明同时提供了通过该制备方法获得的多晶锭,以及利用所述多晶锭制备获得的多晶硅片。
  • 多晶及其制备方法硅片
  • [发明专利]具有加强环的通道板基体加工方法-CN201210590676.1无效
  • 王蓟;王国政;端木庆铎;杨继凯 - 长春理工大学
  • 2012-12-29 - 2013-05-01 - H01J9/12
  • 具有加强环的通道板基体加工方法属于光电成像器件制造技术领域。现有技术背面减薄工序效率低,会破坏通道,抛光工序存在通道堵塞现象,所制作的通道板基体没有加强环。本发明之方法由通过电化学腐蚀制作通道阵列、通过硅片背面减薄使通道通透、切圆形成通道板基体加强环以及通道板基体正面、背面抛光各工序组成。采用本发明获得的具有加强环的通道板基体制作的通道板,通道通透,通道内部清洁无污染,表面平整光滑,通道长达320μm,通道截面形状近似正方形,边长仅8μm,长径比达40,边缘实体加强环有效强化硅通道板的机械强度
  • 具有加强通道基体加工方法
  • [发明专利]低温多晶薄膜晶体管制造方法-CN201210004411.9有效
  • 许民庆;吴钊鹏;庄涂城;余鸿志;吴宏哲 - 深超光电(深圳)有限公司
  • 2012-01-09 - 2012-08-08 - H01L21/331
  • 本发明为一种低温多晶薄膜晶体管制造方法,该方法为在一基板上形成一非晶层,接着对该非晶层进行去氢处理,此时即使非晶层成为一晶粒状,其后在该晶粒状的非晶层上再形成一层未晶粒化的非晶层,再接着对该非晶层上进行去氢处理使非晶层也成为一晶粒状,然后继续重复形成该非晶层并进行去氢处理,以形成多层晶粒状的非晶层,最后再进行一准分子激光退火工艺,使该多层晶粒状的非晶层结晶成为一多晶层,其中该多晶层因为经过预处理成为多层晶粒状的非晶层后再进行准分子激光退火工艺,使多晶层之晶粒变得更大,因此载子迁移率也变大。
  • 低温多晶薄膜晶体管制造方法
  • [发明专利]一种基于铝基空心珠材料的板材及其生产工艺-CN202010772835.4在审
  • 吴光辉 - 吴光辉
  • 2020-08-04 - 2020-11-10 - C08L33/08
  • 本发明公开了一种基于铝基空心珠材料的板材及其生产工艺,该板材由如下重量份的原料加工制备而成:改性铝基空心珠8‑14份、改性无机填料36‑44份、改性纤维材料7‑9.5份与粘接乳液12‑15份;本发明通过硅烷偶联剂对铝基空心珠的表面进行处理,然后使部分还原的氧化石墨烯包覆在铝基空心珠的表面,通过焙烧处理、氢碘酸蒸汽环境下加热处理,对包覆在铝基空心珠表面的石墨烯进行还原,得到改性铝基空心珠,通过石墨烯包覆能够对铝基空心珠上开孔进行封闭,避免加工过程中大量液态材料进入铝基空心珠的孔道结构中,提升了铝基空心珠的保温效果,降低了成品板材的密度。
  • 一种基于硅铝基空心材料板材及其生产工艺
  • [发明专利]改善单室沉积本征薄膜的制备方法-CN200710150230.6有效
  • 张晓丹;赵颖;熊绍珍;耿新华 - 南开大学
  • 2007-11-19 - 2008-04-09 - H01L31/18
  • 本发明公开了一种改善单室沉积本征薄膜的制备方法,其是将玻璃衬底放在真空室内;采用等离子增强化学气相沉积或者热丝技术在衬底上沉积P层薄膜;采用和沉积P层薄膜相同的沉积方法沉积I层本征薄膜,根据P层薄膜沉积后对的腔室环境,对随后生长的I层本征薄膜进行硼补偿,达到对随后生长的I层本征薄膜中硼浓度的有效控制,并控制I层本征薄膜内硼的浓度在1016这样利用单室沉积和原位的补偿实现本征薄膜质量的改善,既不增加新的设备改造投资,又避免了交叉污染的难点,同时还有效提高电池效率。
  • 改善沉积征微晶硅薄膜制备方法
  • [发明专利]一种环光电探测器-CN202211485089.6在审
  • 叶楠;胡志涛;陈昌;王兆璁;赵金杨;王柱天;欧阳越华;程强 - 上海大学
  • 2022-11-24 - 2023-04-07 - H01L31/0232
  • 本发明公开了一种基光电探测器,包括波导层(012),波导层(012)上表面有脊型的母线波导(001)和环(006),环(006)靠近母线波导(001)的一段为耦合区(020),除耦合区(020)外环(006)的上表面有锗吸收层(004)。本发明利用半导体材料的双光子吸收效应,并利用基平台以及环谐振腔结构,实现了低成本、高集成度的2μm波段光电探测器,并对光电探测器的结构做出了优化,将单层环改为Ge‑on‑Si双层环,并对耦合区的锗环进行了部分刻蚀的处理,处理后的环探测器在保留了与成熟的互补金属氧化物半导体技术兼容的特点的同时,在数值仿真中取得了良好的探测效果。
  • 一种硅基微环光电探测器

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