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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[实用新型]一种适用于连续镀膜生产的长寿命多弧靶-CN202020783003.8有效
发明人：朱建明 -专利权人：肇庆市科润真空设备有限公司
申请日： 2020-05-12 - 公布日： 2021-02-26 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本实用新型公开一种适用于连续镀膜生产的长寿命多弧靶，包括引弧装置、阳极装置和旋转式电弧靶材装置；旋转式电弧靶材装置包括环形弧靶材和靶材旋转驱动机构，环形弧靶材设于靶材旋转驱动机构的输出端，引弧装置和阳极装置分别设于环形弧靶材相对的两面外侧本适用于连续镀膜生产的长寿命多弧靶由于采用了旋转式的电弧靶材装置可有效延长靶材的连续使用寿命，可较好地应用于连续镀膜、长时间工作的生产线上，同时，由于环形弧靶材在镀膜过程中是处于不断旋转的状态，因此溅射弧光不会固守在同一靶材的同一固定范围内，在旋转过程中对环形弧靶材进行不断冷却，可达到较好的冷却效果，较大程度减少多弧液粒的产生，从而改善镀膜效果。
一种适用于连续镀膜生产寿命多弧靶

[发明专利]拼接式磁控溅射平面靶材及其使用方法-CN202211046105.1在审
发明人：闫晓晖 -专利权人：上海积塔半导体有限公司
申请日： 2022-08-30 - 公布日： 2022-11-15 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明提供了一种拼接式磁控溅射平面靶材及其使用方法。其中，拼接式磁控溅射平面靶材包括各自独立且相互过盈连接的圆形靶材和若干个环形靶材，圆形靶材位于拼接式磁控溅射平面靶材的中心，环形靶材与圆形靶材同心设置且围绕圆形靶材的外周分布，外圈靶材的环宽根据磁控溅射的磁场强度对应设置通过将磁控溅射平面靶材分为多块同心设置且可以相互分离的独立靶材区域，在磁控溅射沉积过程中，可以方便的更换消耗完毕或接近消耗完毕的靶材结构，无需整体更换整个靶材，提高各区域靶材的利用率，提高经济效益。
拼接磁控溅射平面及其使用方法

[发明专利]非球面薄膜溅镀系统-CN202210242241.1有效
发明人：白文宾;麦宏全;林咏翔;柯泰年 -专利权人：业成科技（成都）有限公司;业成光电（深圳）有限公司;业成光电（无锡）有限公司;英特盛科技股份有限公司
申请日： 2022-03-11 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明公开一种非球面薄膜溅镀系统，其包括真空腔体、靶材与多轴式自动驱动装置。靶材与多轴式自动驱动装置位于真空腔体中。溅镀电源于真空腔体中形成电浆，并用电浆溅镀靶材，从而形成溅镀粒子。多轴式自动驱动装置上设有待溅镀物，待溅镀物具有朝向靶材的非球面。非球面具有待溅镀点，待溅镀点的切线与直线段互相垂直，直线段连接于待溅镀点与靶材之间。多轴式自动驱动装置根据待溅镀点对应的非球面方程式，在固定直线段的长度的前提下移动待溅镀物，以利用溅镀粒子于非球面上形成均匀薄膜，从而避免非球面透镜上的膜厚不均的问题。
球面薄膜系统

[发明专利]不锈钢薄板连续镀膜用的多弧靶机构及PVD镀膜装置-CN202210695352.8有效
发明人：朱建明 -专利权人：肇庆市科润真空设备有限公司
申请日： 2022-06-20 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明公开一种不锈钢薄板连续镀膜用的多弧靶机构及PVD镀膜装置，多弧靶机构为磁场旋转式的多弧靶机构，包括弧靶座、靶材、旋转式磁场组件和引弧组件，弧靶座一侧具有环形凹槽，弧靶座的另一侧为平面侧，靶材安装于弧靶座的平面侧，旋转磁场组件安装于环形凹槽的一侧，靶材的外侧安装有引弧组件；PVD镀膜装置为真空镀膜室内设有上述多弧靶机构的镀膜生产线。
不锈钢薄板连续镀膜靶机 pvd 装置

[实用新型]一种多片拼接平面绑定靶材工装-CN202220723711.1有效
发明人：张凤戈;岳万祥;李航;孙建朋;缪磊 -专利权人：苏州六九新材料科技有限公司
申请日： 2022-03-30 - 公布日： 2022-10-18 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本申请涉及靶材绑定的技术领域，特别涉及一种多片拼接平面绑定靶材工装，一种多片拼接平面绑定靶材工装应用于将多片靶材固定在背板上，包括粘接盛放多片靶材的保护板，所述保护板上设置有多个均匀分布限位件，且所述限位件处于相邻靶材之间本申请提高了对靶材的绑定效果。
一种拼接平面绑定工装

[发明专利]一种旋转式长寿命多弧靶及其使用方法-CN202010395629.6有效
发明人：朱建明 -专利权人：肇庆市科润真空设备有限公司
申请日： 2020-05-12 - 公布日： 2022-05-10 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明公开一种旋转式长寿命多弧靶及其使用方法，包括引弧装置、阳极装置和旋转式电弧靶材装置；旋转式电弧靶材装置包括环形弧靶材和靶材旋转驱动机构，环形弧靶材设于靶材旋转驱动机构的输出端，引弧装置和阳极装置分别设于环形弧靶材相对的两面外侧其使用方法是通过靶材旋转驱动机构驱动环形弧靶材进行连续不断的旋转运动，在旋转运动过程中位于引弧装置和阳极装置之间的区域为溅射区域，利用固定不动的引弧装置和阳极装置激发溅射区域内的环形弧靶材表面溅射出所需镀膜材料本发明可有效延长靶材的连续使用寿命，可较好地应用于连续镀膜、长时间工作的生产线上，同时改善镀膜效果。
一种旋转寿命多弧靶及其使用方法

[发明专利]旋转式多靶材磁控溅射阴极-CN202011536381.7在审
发明人：李伟 -专利权人：长沙元戎科技有限责任公司
申请日： 2020-12-23 - 公布日： 2021-03-26 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本发明涉及磁控溅射技术领域，提出了旋转式多靶材磁控溅射阴极，包括阳极及磁铁组件，所述阳极上开设有溅射孔，所述磁铁组件与所述阳极之间设置有靶材支架及一组靶材，所述溅射孔与所述靶材之间形成溅射区，所述靶材设置在所述靶材支架上，所述靶材与所述磁铁组件大小适配，任一所述靶材借助所述靶材支架旋转至所述溅射区，只有旋转到磁铁组件正上方的靶材会发生磁控溅射，其他靶材因所处位置处磁场极弱、溅射气流不足，无法起辉溅射，解决了现有技术中一个溅射阴极只能固定一个靶材及无法同一位置溅射不同材料的问题
旋转式多靶材磁控溅射阴极

[实用新型]旋转式多靶材磁控溅射阴极-CN202023140752.8有效
发明人：李伟 -专利权人：长沙元戎科技有限责任公司
申请日： 2020-12-23 - 公布日： 2021-08-31 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型涉及磁控溅射技术领域，提出了旋转式多靶材磁控溅射阴极，包括阳极及磁铁组件，所述阳极上开设有溅射孔，所述磁铁组件与所述阳极之间设置有靶材支架及一组靶材，所述溅射孔与所述靶材之间形成溅射区，所述靶材设置在所述靶材支架上，所述靶材与所述磁铁组件大小适配，任一所述靶材借助所述靶材支架旋转至所述溅射区，只有旋转到磁铁组件正上方的靶材会发生磁控溅射，其他靶材因所处位置处磁场极弱、溅射气流不足，无法起辉溅射，解决了现有技术中一个溅射阴极只能固定一个靶材及无法同一位置溅射不同材料的问题
旋转式多靶材磁控溅射阴极

[实用新型]用于偏振二次靶X射线荧光光谱仪的多靶材靶盘装置-CN201020046754.8有效
发明人：白友兆;张峰;杨李锋 -专利权人：纳优科技（北京）有限公司
申请日： 2010-01-08 - 公布日： 2010-12-08 - 主分类号： G01N23/223 文献下载
摘要：一种用于X射线荧光光谱仪的多靶材靶盘装置及一种偏振二次靶X射线荧光光谱仪，属于分析仪器领域。多靶材靶盘装置包括靶材安装体、相配靶材、靶体芯轴、靶体定位组件和驱动附件，所述靶材安装体为圆台型，圆台的侧面上均布多个与侧面相垂直的孔，所述靶材安装在该孔中；所述靶材安装体和靶体定位组件均套装固定在靶体芯轴上本实用新型中多靶材靶盘装置结构紧凑、合理，只占用一个象限的空间，将靶材面正对空间加大，这样得到的偏振二次靶X射线荧光光谱仪光程缩短，可以大幅提高了仪器的整体性能指标。
用于偏振二次射线荧光光谱仪多靶材靶盘装置

[发明专利]一种靶材溅镀设备以及靶材溅镀系统-CN201811505144.7有效
发明人：严鹏 -专利权人：苏州能讯高能半导体有限公司
申请日： 2018-12-10 - 公布日： 2022-05-17 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本发明提供了一种靶材溅镀设备以及靶材溅镀系统，涉及镀膜设备领域，该靶材溅镀设备包括溅镀工艺区，溅镀工艺区内设置有靶材固定件和载片盘，靶材固定件设置在载片盘的上方，靶材溅镀设备还包括靶材放置区，靶材放置区设置有至少一个用于承载靶材的承载块，承载块可活动地从靶材放置区移动至溅镀工艺区以便将靶材定位于靶材固定件上。相较于现有技术，本发明提供的一种靶材溅镀设备，在进行多靶材溅镀工艺时无需使用多腔室进行溅镀、占地面积小、结构简单、辅助系统部件较少，同时更换靶材方便。
一种靶材溅镀设备以及系统

[实用新型]矩形平面多弧靶及真空镀膜装置-CN201320025570.7有效
发明人：王叔晖;刘竹杨 -专利权人：上海法德机械设备有限公司
申请日： 2013-01-17 - 公布日： 2013-07-31 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种矩形平面多弧靶及真空镀膜装置。该矩形平面多弧靶包括一靶座、一外圈陶瓷压条和一中心陶瓷压条，该外圈陶瓷压条围设于该靶座的顶端面的边缘，并形成用于容纳固定该靶材的一靶材区域，该中心陶瓷压条设于该靶材区域的中间并用于固定该靶材。本实用新型的矩形平面多弧靶及真空镀膜装置通过设置绝缘的陶瓷件在固定靶材的同时起到灭弧作用，提高了溅射镀膜的稳定性和效率。
矩形平面多弧靶真空镀膜装置

[实用新型]一种平面靶材-CN201920409388.9有效
发明人：沈登涛;曾一鑫 -专利权人：信元光电有限公司
申请日： 2019-03-28 - 公布日： 2019-12-06 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种平面靶材，包括背板、设于所述背板上的靶材组和设于所述靶材组上的压条，所述靶材组通过所述压条可拆卸固定于所述背板上；所述靶材组包括多个成多列多行布置的子靶材，所述子靶材的行数为二的倍数且使得靶材组对应于所述背板中线形成上下对称的布置本实用新型提供的平面靶材通过设置由成多列多行布置且能替换位置的子靶材组成的靶材组，且靶材组可拆卸固定于所述背板上，子靶材的行数为二的倍数且使得靶材组对应于所述背板中线形成上下对称的布置，从而因磁场强度原因造成不同位置上的子靶材消耗不同时，可以将子靶材位置进行替换，从而有效提高了利用率，降低了生产成本。
靶材背板压条本实用新型可拆卸固定多列多行平面靶材上下对称行数靶材位置靶材组成强度原因替换位置磁场生产成本替换消耗

[发明专利]轴向多阴极真空镀膜设备及复合梯度镀膜的方法-CN202310863652.7在审
发明人：魏耕;向兀;柳成荫;李健 -专利权人：武汉大学
申请日： 2023-07-14 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明公开了轴向多阴极真空镀膜设备及复合梯度镀膜的方法，在多阴极靶头上设有一个中心电极和若干个侧边电极，中心电极位于多阴极靶头的中心处，侧边电极围绕着中心电极设置；中心电极连接着中心靶材丝，侧边电极连接着侧边靶材丝，中心靶材丝沿着管道中心线设置，侧边靶材围绕着中心靶材螺旋设置；中心靶材和侧边靶材由若干带孔的陶瓷组件连接；中心电极与第一溅射电源连接，侧边电极与第二溅射电源连接。不仅解决了部分合金靶材丝无法加工而使用的问题，同时也能在镀膜的过程中保证薄膜的成分、膜厚和结构的横向、轴向均匀性，且调节薄膜的组分比例。
轴向阴极真空镀膜设备复合梯度镀膜方法

[发明专利]多弧离子镀的复合结构靶及其制造方法-CN201910799307.5有效
发明人：宋家瓯 -专利权人：苏州希镝瑞新材料科技有限公司
申请日： 2019-08-28 - 公布日： 2021-03-19 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种多弧离子镀的复合结构靶及其制造方法，包括靶材主体和连接部分，所述靶材主体通过紧固件与连接部分固定连接。本发明提供了一种复合结构的多弧靶的设计和制造方法，将传统的一体化加工的靶材分为三个部分：靶材主体、连接部分以及紧固件。主体部分的靶材蒸发平面边缘仍采用与传统靶材采用挡边的结构，但平面内部采用坡度或阶梯的方法减少切削加工量，大大提高了靶材的利用率，对于直径100毫米、厚度为20毫米的靶材，采用这种结构可以使得靶材利用率提高10％以上；采用将靶材主体通过紧固件固定在连接部分的连接方法，可以提高靶材的装配效率，方便更换靶材主体，进一步提高靶材的利用率，同时方便废旧靶材的回收。
离子镀复合结构及其制造方法

[发明专利]对向靶材式溅镀装置-CN200580016686.2无效
发明人：门仓贞夫;安福久直 -专利权人： F·T·S·股份有限公司
申请日： 2005-12-13 - 公布日： 2007-05-02 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明提供一种对向靶材式溅镀装置，不需使用大型靶材可在实质上实现大型靶材的功能，为可成膜于大面积的基板上，将长方体状框体71的6个侧面71a～71f中的1个71f作为开口的开口侧面；将具备有靶材和设置于其周围、形成垂直于靶材面方向的对向模式磁场，及平行于靶材面方向的磁控模式磁场的永久磁铁的磁场产生装置的一对靶材单元100a及100b，装设于与靶材单元相邻接的开口侧面的两侧对向的侧面；将以遮蔽板72c～72e(71c、72c于正前方未图示)遮蔽其它侧面71c～71e的箱型对向式溅镀部70，在开口侧面安装于真空容器10上；将开口侧面的开口部面对真空容器内，于各靶材单元100a、100b各配置有多个多片的靶材110a
靶材式溅镀装置

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