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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]采用压印材料的衬底平坦化及方法-CN201080003741.5无效
发明人： S·伯恩斯;C·布罗德斯基;R·伯恩斯 -专利权人：国际商业机器公司
申请日： 2010-01-05 - 公布日： 2011-11-30 - 主分类号： G03F7/00 文献下载
摘要：本发明涉及光刻中用于衬底平坦化的平坦化材料以及使用所述平坦化材料的方法。在衬底(200)上形成平坦化组成物的平坦化层(202)。所述平坦化组成物包含至少一种芳香族单体和至少一种非芳香族单体。使基本上平坦表面(205)与平坦化层(202)接触。通过暴露到第一辐射(206)或烘烤而使平坦化层(202)固化。然后，去除基本上平坦表面(205)。接着，在平坦化层(202)上形成光致抗蚀剂层(208)。之后，将所述光致抗蚀剂层(208)暴露到第二辐射(210)，并随后显影所述光致抗蚀剂层(208)，以在所述光致抗蚀剂层(208)中形成凸纹影像(218)。
采用压印材料衬底平坦方法

[发明专利]表面平坦化-CN201280015328.X有效
发明人： A·弗莱斯纳;S·马里克;C·贝克;L·斯卡利恩;J·波罗格斯 -专利权人：剑桥显示技术有限公司
申请日： 2012-03-21 - 公布日： 2013-12-11 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明一般地涉及基板的表面的平坦化。在平坦化基板的表面区域的实施例中，该基板具有在所述表面区域的一部分上的主体，该方法包括：通过提供表面使更改层（例如，在其上的自组装单层）来使所述主体的表面相对液体平坦化剂合成物的润湿性更改；并且然后将所述液体平坦化剂合成物沉积于所述基板和所述主体上，使得平坦化剂合成物润湿所述表面区域，其中所述表面更改层确定所述液体平坦化剂合成物与所述主体的所述表面的接触角，使得沉积的液体平坦化剂合成物被所述主体的所述表面排斥。
表面平坦

[发明专利]调色剂、调色剂用外部添加剂、和细颗粒-CN202111203408.5在审
发明人：吉田沙罗;小崎祐辅;桂大侍;文田英和;山胁健太郎;近藤格 -专利权人：佳能株式会社
申请日： 2021-10-15 - 公布日： 2022-04-22 - 主分类号： G03G9/08 文献下载
摘要：本发明涉及调色剂、调色剂用外部添加剂、和细颗粒。一种调色剂，其包括：包含粘结剂树脂和着色剂的调色剂颗粒；以及在调色剂颗粒的表面上的细颗粒，其中所述细颗粒为实心且大致半球状，并且具有大致平坦的表面和曲面，并且其中大致平坦的表面的最长径“w”的个数平均值为一种调色剂用外部添加剂，其为实心且大致半球状，并且具有大致平坦的表面和曲面，其中所述大致平坦的表面的最长径“w”的个数平均值为10至400nm。一种细颗粒，其为实心且大致半球状，并且具有大致平坦的表面和曲面，其中所述大致平坦的表面的最长径“w”的个数平均值为10至400nm。
调色外部添加剂颗粒

[发明专利]平坦层用组合物、其制备方法、平坦层材料及显示装置-CN201710762111.X有效
发明人：牟广营 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
申请日： 2017-08-30 - 公布日： 2021-03-09 - 主分类号： C08L33/12 文献下载
摘要：本发明涉及显示领域，特别涉及平坦层组合物、其制备方法、平坦层材料、包括所述平坦层材料的显示基板及显示装置。所述平坦层组合物包括如下组分:10～30wt％的苯乙烯；10～30wt％的环氧树脂；1～3wt％的交联剂；0.1～0.5wt％的光引发剂和/或热引发剂；1～3wt％的表面活性剂；40～77wt％的溶剂。所述平坦层组合物以苯乙烯为主要单体成分，经引发剂引发可发生固化，得到平坦层材料。该种组成的平坦层材料具有更优的介电性能、更低的密度和更低的吸湿率、高电学稳定性等物理特性，保证了显示基板的各方面性能。
平坦组合制备方法材料显示装置

[发明专利]制造半导体元件的方法-CN202010788008.4在审
发明人：陈彦豪;赖韦翰;张庆裕;林进祥 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2020-08-07 - 公布日： 2021-05-28 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：方法包括在基板的经图案化表面上形成第一平坦化材料的第一层，在第一平坦化层上形成第二平坦化材料的第二层，交联第一平坦化材料的一部分及第二平坦化材料的一部分，并移除第二平坦化材料中未经交联的一部分。在一实施例中，方法进一步包括在移除第二平坦化材料中未经交联的部分之后，在第二平坦化材料上形成第三平坦化材料的第三层。第三平坦化材料可包括底部抗反射涂膜或旋涂碳，及酸或酸产生剂。第一平坦化材料可包括旋涂碳及酸、热酸产生剂或光酸产生剂。
制造半导体元件方法

[发明专利]有机膜形成用平坦化剂、有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、及图案形成方法-CN202310160844.1在审
发明人：山本靖之;石绵健汰;矢野俊治;荻原勤 -专利权人：信越化学工业株式会社
申请日： 2023-02-24 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及有机膜形成用平坦化剂、有机膜形成用组成物、有机膜形成方法、及图案形成方法。本发明关于提供具有高程度平坦化特性的有机膜形成用组成物的有机膜形成用平坦化剂、含有此平坦化剂的有机膜形成用组成物、使用此组成物的有机膜形成方法、及图案形成方法。一种有机膜形成用平坦化剂，由以分子式表示的分子量为200～500的含芳香族的化合物构成，其特征为通过将该有机膜形成用平坦化剂掺合在复数粘度(complex viscosity)于175℃以上的温度范围为
有机形成平坦组成方法图案

[发明专利]指纹感测模块的制造方法-CN202111411691.0在审
发明人：黄振明 -专利权人：力晶积成电子制造股份有限公司
申请日： 2021-11-25 - 公布日： 2023-05-12 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本发明公开一种指纹感测模块的制造方法，该制造方法包括：在基底上依序形成平坦层和光致抗蚀剂材料层，其中基底包括包含感光阵列的像素区以及围绕像素区的周边区；移除光致抗蚀剂材料层于像素区上的部分，以形成暴露出平坦层的光致抗蚀剂图案；移除平坦层于像素区上的部分，以形成暴露出基底的图案化平坦层；在光致抗蚀剂图案上和基底的像素区上形成红外线截止层；移除光致抗蚀剂图案及光致抗蚀剂图案上的红外线截止层，以在基底的像素区上形成红外线截止图案；在红外线截止图案上以及图案化平坦层上形成遮光层；以及图案化遮光层，以在红外线截止图案上形成包括针孔阵列的准直结构层，并在图案化平坦层上形成标记图案。
指纹模块制造方法

[发明专利]形成具有不同类型的场效应晶体管的集成电路器件的方法-CN200510067049.X有效
发明人：安永峻;朴东健;李忠浩;姜熙秀 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2005-04-27 - 公布日： 2005-11-23 - 主分类号： H01L21/8232 文献下载
摘要：一种形成集成电路器件的方法包括，在半导体衬底的单元阵列部分中形成非平坦的场效应晶体管以及在半导体衬底的外围电路部分中形成平坦的场效应晶体管。非平坦的场效应晶体管可以选自FinFET和凹陷的栅极FET的组。掺杂剂可以被注入非平坦的场效应晶体管的沟道区，然后可以在非平坦的场效应晶体管上形成单元保护层。然后，可以使用单元保护层作为掩模，将掺杂剂有选择地注入平坦的场效应晶体管的沟道区，以阻挡掺杂剂注入到非平坦的场效应晶体管的沟道区中。
形成具有不同类型场效应晶体管集成电路器件方法

[发明专利]能用于形成低K双镶嵌集成电路的有机抗反射底涂层刻蚀工艺-CN200780018397.5无效
发明人：詹斯·卡斯特恩·施奈德;肖莹;格拉多·戴戈迪诺 -专利权人：应用材料公司
申请日： 2007-03-20 - 公布日： 2009-06-03 - 主分类号： H01L21/302 文献下载
摘要：在一些实施方式中，提供了一种在等离子体反应器中刻蚀抗蚀剂结构的有机平坦化层的方法，所述抗蚀剂结构包含处于掩蔽所述有机平坦化层的硬掩模上方的光刻胶掩模结构。该方法包括将包含N₂、H₂和O₂的刻蚀剂气体化学剂引入所述等离子体反应器中并利用由所述刻蚀剂气体化学剂形成的等离子体刻蚀被掩蔽的所述有机平坦化层该方法可以包括利用单个刻蚀步骤刻穿所述平坦化层，以形成沟槽。
用于形成镶嵌集成电路有机反射涂层刻蚀工艺

[发明专利]介电层平坦化的方法-CN02118037.7有效
发明人：黄启东 -专利权人：旺宏电子股份有限公司
申请日： 2002-04-18 - 公布日： 2003-10-29 - 主分类号： H01L21/3105 文献下载
摘要：一种介电层平坦化的方法。此方法使用一高选择比研磨剂，用以平坦化介电层，其中高选择比研磨剂包括含铈土研磨粒的研磨液，其氧化铈研磨粒浓度在5±25wt％之间，以及浓度在1～10wt％的具有平坦性选择性添加剂。
介电层平坦方法

[发明专利]阵列基板及显示面板-CN202210834397.9在审
发明人：王昕童 -专利权人：广州华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2022-07-14 - 公布日： 2022-10-25 - 主分类号： H01L27/12 文献下载
摘要：本申请公开一种阵列基板及显示面板，阵列基板包括：基板；平坦化层，设置于基板上，平坦化层包括聚硅氧烷和附着力添加剂，附着力添加剂含氧元素；以及无机绝缘层，设置于基板上，且与平坦化层接触。
阵列显示面板

[发明专利]形成半导体器件的精细图案的方法-CN201110036452.1无效
发明人：张钟光;吴怜默;南瑞祐;全祐撤;李周范;李命柱 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2011-02-10 - 公布日： 2011-08-31 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种形成半导体器件的精细图案的方法，所述方法包括以下步骤：提供可图案化层；在可图案化层上形成多个第一光致抗蚀剂层图案；在可图案化层和多个第一光致抗蚀层图案上形成界面层；在界面层上形成平坦化层；在平坦化层上形成多个第二光致抗蚀剂层图案；利用多个第二光致抗蚀剂层图案形成多个平坦化层图案；利用多个平坦化层图案和多个第一光致抗蚀剂层图案形成多个层图案。
形成半导体器件精细图案方法

[发明专利]驱动装置和记录/重放装置-CN200680055722.0无效
发明人：藤本健二郎;森俊太郎;石杜昌弘;前田孝则 -专利权人：日本先锋公司
申请日： 2006-09-01 - 公布日： 2009-08-12 - 主分类号： G11B9/14 文献下载
摘要：一种驱动装置(1)包括：固定部件(11)，该固定部件(11)具有平坦表面(12)；以及被驱动部件(13)，该被驱动部件(13)具有平坦表面(14)并且在与固定部件的平坦表面基本上平行的方向上被驱动，该平坦表面(14)与固定部件的平坦表面相对。液体润滑剂(30)插入在固定部件的平坦表面(12)与被驱动部件的平坦表面(14)之间。平坦表面(14)以基本上相互平行的状态与平坦表面(12)相对。
驱动装置记录重放

[发明专利]废气净化用催化剂结构体-CN201380058267.X有效
发明人：甲斐启一郎;加藤泰良 -专利权人：三菱日立电力系统株式会社
申请日： 2013-11-12 - 公布日： 2015-07-15 - 主分类号： B01J35/02 文献下载
摘要：本发明提供一种废气净化用催化剂结构体。本发明的废气净化用催化剂结构体通过将平板状催化剂元件以沿着分隔部的长边方向能够确保气体流路的方式重叠而成，所述平板状催化剂元件由作为主构成部的平坦部和线状的分隔部构成，所述线状的分隔部由凸条及凹条构成，其中，所述平坦部具有至少一个由支座板和顶板构成的挡板部，所述支座板立设于平坦部且其高度低于以平坦部为基准的分隔部的高度，所述顶板从该支座板的上边以与平坦部大致平行的方式设置，并且，利用所述挡板部能够使流过所述气体流路的气体紊乱
废气净化催化剂结构

[发明专利]涂敷处理方法、涂敷处理装置和计算机能够读取的存储介质-CN200880008386.3有效
发明人：吉原孝介;井关智弘;高柳康治 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2008-02-28 - 公布日： 2010-02-10 - 主分类号： H01L21/027 文献下载
摘要：在涂敷工序中，使基板高速旋转，在此状态下从第一喷嘴向基板的中心部喷出抗蚀剂液，在基板上涂敷抗蚀剂液。接着，在平坦化工序中，使基板的旋转减速，使基板以低速旋转，使基板上的抗蚀剂液平坦化。此时，涂敷工序中的第一喷嘴进行的抗蚀剂液的喷出持续进行至平坦化工序的中途，在该平坦化工序中在使抗蚀剂液的喷出结束时，使第一喷嘴移动，使抗蚀剂液的喷出位置从基板的中心部移动。采用本发明，能够在基板面内均匀地涂敷抗蚀剂液。
处理方法装置计算机能够读取存储介质

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