专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种复杂多体装置运动干涉检测方法-CN202010450179.6在审
  • 梁常春;张晓东;潘冬;刘鑫;王瑞;唐自新;胡成威;肖涛;李德伦 - 北京空间飞行器总体设计部
  • 2020-05-25 - 2020-11-27 - G06T17/00
  • 本发明公开了一种复杂多体装置运动干涉检测方法,对复杂多体装置的各个部件进行扫描,得到各部件表面散模型,对于每个部件,基于部件散模型构造部件初始包围盒;在此基础上,在干涉检测运算阶段,首先对各部件的初始包围盒进行两两之间的干涉检测运算,并根据运算结果判断是否需要进一步细分初始包围盒,若发生干涉就输出当前结果,否则,对初始包围盒再细分,并进行两两干涉检测运算;在整个运算过程中分别得到各部件的包围盒模型二叉树,对所有部件包围盒模型二叉树进行两两之间自顶向下逐层遍历干涉检测运算以实现复杂多体装置的干涉检测,本发明能够对复杂多体装置进行运动干涉分析以及运动控制过程中的碰撞安全检测。
  • 一种复杂装置运动干涉检测方法
  • [发明专利]考虑工艺凸台与零件体干涉的检测路径的检测方法及系统-CN201610669043.8有效
  • 汤晟 - 汤晟
  • 2016-08-15 - 2018-12-11 - G05B19/4097
  • 本发明公开了一种考虑工艺凸台与零件体干涉的检测路径的检测方法,该方法首先是读取零件体和工艺凸台,自动生成零件检测特征上所有的检测;根据检测工艺知识进行检测工步级、检测特征级和特征自身级路径规划;在工艺知识库的支撑下,完成检测工步级规划;在相邻的两个检测特征之间需要进行工艺凸台与零件体的干涉检查,若发生干涉,则执行干涉规避,确定出检测特征之间的检测路径;针对每一个检测特征,进行特征自身级规划时,在特征内相邻两个检测之间需要进行工艺凸台的干涉检查,若发生干涉,则执行干涉规避,从而确定特征内的检测路径。有效解决了大型复杂的飞机结构件在线检测时测量头与工艺凸台或者零件体本身发生干涉碰撞的问题。
  • 考虑工艺零件干涉检测路径方法系统
  • [发明专利]基于位相复用的全量程扫频OCT成像方法及系统-CN201110141036.8无效
  • 丁志华;吴彤;黄良敏;陈明惠;王川;王保勇 - 浙江大学
  • 2011-05-26 - 2011-09-21 - A61B5/00
  • 在扫频OCT系统的参考臂中设置电光调制器,实现干涉光谱的高速相位调制。通过数据采集卡与电光调制器间的触发同步,使采集到的干涉光谱相邻采样之间保持预设的相位变化,实现单次扫频周期内干涉光谱的位相复用采集,将采集到的干涉光谱数据采样点按其所对应的附加相位进行分组,然后分别映射到对应同一等间隔采样的波数空间,形成波数空间的相移干涉光谱数据子集。利用相移干涉光谱数据子集可构建复干涉光谱数据,重建全量程扫频OCT图像。基于电光调制的单次扫频周期内干涉光谱的位相调制与复用,相移速度快、精度高,镜像抑制率高,可实现感兴趣深度区域的高灵敏度成像。
  • 基于位相量程oct成像方法系统
  • [实用新型]一种基于位相复用的全量程扫频OCT成像系统-CN201120175108.6无效
  • 丁志华;吴彤;黄良敏;陈明惠;王川;王保勇 - 浙江大学
  • 2011-05-26 - 2012-01-04 - A61B5/00
  • 在扫频OCT系统的参考臂中设置电光调制器,实现干涉光谱的高速相位调制。通过数据采集卡与电光调制器间的触发同步,使采集到的干涉光谱相邻采样之间保持预设的相位变化,实现单次扫频周期内干涉光谱的位相复用采集,将采集到的干涉光谱数据采样点按其所对应的附加相位进行分组,然后分别映射到对应同一等间隔采样的波数空间,形成波数空间的相移干涉光谱数据子集。利用相移干涉光谱数据子集可构建复干涉光谱数据,重建全量程扫频OCT图像。基于电光调制的单次扫频周期内干涉光谱的位相调制与复用,相移速度快、精度高,镜像抑制率高,可实现感兴趣深度区域的高灵敏度成像。
  • 一种基于位相量程oct成像系统
  • [发明专利]一种量子材料的制作装置及制作方法-CN201110224270.7有效
  • 彭长四 - 苏州大学
  • 2011-08-05 - 2013-02-06 - H01S5/34
  • 本发明公开了一种量子材料的制作装置和制作方法,该制作装置通过在现有的外延装置中添加了可以产生干涉图像的光学装置,使得衬底在进行外延的同时,在外延层上施加一个干涉图像。通过该干涉图像,在外延层上形成一个规则分布的温度场,使得外延层在温度较高的位上开始形成原子聚集现象,而在温度相对较低的区域则没有原子聚集。如此一来,根据外延表面温度的分布情况,就能人为的控制量子产生的位置而不引入缺陷,实现一种无缺陷的长程有序的量子制作。
  • 一种量子材料制作装置制作方法
  • [发明专利]精密测长机及其光量干涉排除方法和装置-CN201310106348.4有效
  • 黄文德;张岳妍;朱厚毅 - 深圳市华星光电技术有限公司
  • 2013-03-29 - 2013-07-24 - G01B11/02
  • 本发明实施例公开了一种精密测长机及其光量干涉排除方法和装置。在量测前,光量干涉排除装置调节当前量测位的反射输入光量直至测得的反射输出光量等于目标反射输出光量值,得到补正反射输入光量值,其中所有量测位的目标反射输出光量值均相等;和/或调节当前量测位的透射输入光量直至测得的透射输出光量等于目标透射输出光量值,得到补正透射输入光量值,其中所有量测位的目标透射输出光量值均相等。然后,光量干涉排除装置将得到的当前量测位的补正反射输入光量值和/或补正透射输入光量值保存在量测参数集合中。
  • 精密长机及其干涉排除方法装置

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