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[发明专利]基板处理装置、工艺流体处理装置及臭氧分解方法-CN201711015273.3有效
发明人：尹遵喜;赵乘桓 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2017-10-26 - 公布日： 2021-08-24 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：公开的是一种基板处理装置和工艺流体处理装置。基板处理装置包括：工艺腔室，该工艺腔室利用包含臭氧的工艺流体处理基板；排放管道，连接至工艺腔室以排放用来处理基板的工艺流体；和工艺流体处理装置，该工艺流体处理装置与排放管道连接。工艺流体处理装置包括：具有内部空间的壳体，该内部空间具有容纳工艺流体的设定容积；和喷嘴，该喷嘴与排放管道和壳体的内部空间连接。
处理装置工艺流体臭氧分解方法

[发明专利]半导体工艺件处理装置-CN200510028563.2有效
发明人：陈爱华;户高良二 -专利权人：中微半导体设备（上海）有限公司
申请日： 2005-08-05 - 公布日： 2007-02-07 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：一种半导体工艺件处理装置，包括至少一个半导体工艺件处理腔室，处理腔室内设置有多个半导体工艺件处理平台，每一个半导体工艺件处理平台处理一片半导体工艺件，每一个半导体工艺件处理平台可以分别旋转，半导体工艺件处理装置还设有密封机构以在半导体工艺件处理平台运动时保持半导体工艺件处理腔室内部密封，并具有冷却装置保证密封元件正常工作。本发明的半导体工艺件处理装置在对多个半导体工艺件处理时，能具有独立的半导体工艺件处理环境，以保证每片半导体工艺件处理的均一性，并且能够灵活地对半导体工艺件进行处理。
半导体工艺处理装置

[实用新型]工艺气和动力锅炉烟气的处理装置-CN201320465077.7有效
发明人：雷朝红 -专利权人：神华集团有限责任公司;中国神华煤制油化工有限公司;陕西神木化学工业有限公司
申请日： 2013-07-31 - 公布日： 2014-05-07 - 主分类号： F23J15/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种工艺气和动力锅炉烟气的处理装置。该工艺气和动力锅炉烟气的处理装置包括依次连通的工艺气处理装置、动力锅炉烟气处理装置、及排烟装置。应用本实用新型的工艺气和动力锅炉烟气的处理装置，因为其包括依次连通的工艺气处理装置、动力锅炉烟气处理装置、及排烟装置，这样就将炼油、煤化工等企业内工艺气处理装置及动力锅炉烟气处理装置联系在一起，不但提高了工艺气的处理标准，减少了环境污染，而且，现有技术中的工艺气的排烟装置可以取消，减少了排烟装置的投资费用。
工艺动力锅炉烟气处理装置

[发明专利]生产系统-CN201510430268.3有效
发明人：仓田茂 -专利权人：日本电产三协株式会社
申请日： 2015-07-21 - 公布日： 2018-03-30 - 主分类号： G05B19/05 文献下载
摘要：一种生产系统，其对处理对象物实施处理，从而生产多种产品，所述生产系统能够在生产新种类的产品时等容易地实施变更操作。在生产系统(1)中，多个主工艺号存储于主机(8)，每一个处理装置(4至7)对处理对象物(2)的处理条件、即多个装置工艺与用于识别多个装置工艺的装置工艺号对应并被存储于处理装置(4至7)中的每一个当中，在中继机(9)中存储有对应表，所述对应表规定分别与多个主工艺号对应的处理装置(4至7)各自的装置工艺号。处理装置(4至7)将主工艺号发送到中继机(9)，并从中继机(9)接收与该主工艺号对应的装置工艺号，并利用与已收到的装置工艺号对应的装置工艺，对处理对象物(2)实施处理。
生产系统

[发明专利]工艺废气处理装置及工艺废气处理方法-CN201010198762.9有效
发明人：谢正益 -专利权人：旺宏电子股份有限公司
申请日： 2010-06-07 - 公布日： 2011-12-07 - 主分类号： B01D53/34 文献下载
摘要：一种工艺废气处理装置包括腔体与漏斗顶盖环。漏斗设置于腔体下方，具有至少一注入孔，设置于接近腔体之处。
工艺废气处理装置方法

[发明专利]基板处理装置、基板处理系统以及处理基板的方法-CN201410090605.4有效
发明人：赵庸真;高镛璿;金庆燮;金光秀;金石训;吴政玟;李根泽;张原浩;田溶明 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2014-03-12 - 公布日： 2019-01-25 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本公开提供了基板处理装置、基板处理系统以及处理基板的方法。该基板处理系统可以包括构造为用超临界流体处理基板的处理装置以及构造为提供超临界流体到处理装置的供给装置。处理装置可以包括超临界工艺区和预超临界工艺区，在该超临界工艺区中基板用超临界流体处理，在预超临界工艺区中超临界流体膨胀然后被提供到超临界工艺区中以在超临界工艺区中产生超临界状态。
处理装置系统以及方法

[发明专利]基板处理装置、基板处理系统以及处理基板的方法-CN201811608953.0有效
发明人：赵庸真;高镛璿;金庆燮;金光秀;金石训;吴政玟;李根泽;张原浩;田溶明 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2014-03-12 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本公开提供了基板处理装置、基板处理系统以及处理基板的方法。该基板处理系统可以包括构造为用超临界流体处理基板的处理装置以及构造为提供超临界流体到处理装置的供给装置。处理装置可以包括超临界工艺区和预超临界工艺区，在该超临界工艺区中基板用超临界流体处理，在预超临界工艺区中超临界流体膨胀然后被提供到超临界工艺区中以在超临界工艺区中产生超临界状态。
处理装置系统以及方法

[发明专利]三元复合驱油田采油废水深度处理装置-CN201410227907.1有效
发明人：唐述山;侯鹏;路学喜;关博 -专利权人：大庆高新区百世环保科技开发有限公司
申请日： 2014-05-27 - 公布日： 2014-09-10 - 主分类号： C02F9/14 文献下载
摘要：一种三元复合驱油田采油废水深度处理装置。该装置分为气浮处理工艺段(1)、微生物处理工艺段(2)、高级氧化处理工艺段(3)、过滤处理工艺段(4)，气浮处理工艺段(1)配备有收油排油系统(5)，微生物处理工艺段（2）配备有污泥处理系统（6）。该装置每个工艺段均有独立的功能，分别达到不同的出水指标，同时上下工艺段之间既相互配合又相互支撑，经本装置处理后的出水水质可达到油田低渗透油藏回注水标准要求。
三元复合油田采油废水深度处理装置

[实用新型]三元复合驱油田采油废水深度处理装置-CN201420275519.6有效
发明人：唐述山;侯鹏;路学喜;关博 -专利权人：大庆高新区百世环保科技开发有限公司
申请日： 2014-05-27 - 公布日： 2014-09-17 - 主分类号： C02F9/14 文献下载
摘要：一种三元复合驱油田采油废水深度处理装置。该装置分为气浮处理工艺段(1)、微生物处理工艺段(2)、高级氧化处理工艺段(3)、过滤处理工艺段(4)，气浮处理工艺段(1)配备有收油排油系统(5)，微生物处理工艺段（2）配备有污泥处理系统（6）。该装置每个工艺段均有独立的功能，分别达到不同的出水指标，同时上下工艺段之间既相互配合又相互支撑，经本装置处理后的出水水质可达到油田低渗透油藏回注水标准要求。
三元复合油田采油废水深度处理装置

[发明专利]用于生产冰箱压缩机安装板的模具装置-CN202011385332.8有效
发明人：张站东;李瑞冬;耿奇;洪孝文;陈富平;吴伟;姜文勇 -专利权人：合肥华凌股份有限公司;合肥美的电冰箱有限公司;美的集团股份有限公司
申请日： 2020-12-01 - 公布日： 2022-08-26 - 主分类号： B21D37/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于生产冰箱压缩机安装板的模具装置，模具装置包括：上模座；下模座，上模座位于下模座上方；第一工艺处理模块，第一工艺处理模块用于对料板进行冲孔、切断、拉深和整形；第二工艺处理模块，第二工艺处理模块用于对第一工艺处理模块处理过的料板进行冲孔、翻边和攻牙；第三工艺处理模块，第三工艺处理模块用于对第二工艺处理模块处理过的料板进行铆接处理；第四工艺处理模块，第四工艺处理模块用于对第三工艺处理模块处理过的料板进行翻边、切舌和切断。由此，通过多个工艺处理模块配合，单个模具装置能够实现冰箱压缩机安装板的生产，可以提高冰箱压缩机安装板的生产效率，也可以节省人工成本，降低了产品报废率。
用于生产冰箱压缩机安装模具装置

[实用新型]一种MBR、MCR、CMF水处理工艺模拟试验装置-CN202120515981.9有效
发明人：洪建春;黄德昌 -专利权人：联合环境技术（厦门）有限公司
申请日： 2021-03-10 - 公布日： 2021-10-29 - 主分类号： C02F3/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种MBR、MCR、CMF水处理工艺模拟试验装置，该MBR、MCR、CMF水处理工艺模拟试验装置通过触摸屏能够显示MBR水处理工艺、MCR水处理工艺、CMF水处理工艺以及产水量的操作界面，当用户选择需要模拟的水处理工艺和产水量时，控制器能够接收用户对操作界面的触摸操作，并模拟用户选定的水处理工艺和产水量在实际工作过程中对应的过程参数，并将过程参数发送给触摸屏，以使触摸屏动画显示过程参数当用户需要分别模拟MBR水处理工艺、MCR水处理工艺、CMF水处理工艺时，只需选择对应的水处理工艺和产水量即可，无需购买相应的水处理工艺MBR、MCR、CMF水处理工艺模拟试验装置，使得本申请的MBR、MCR、CMF水处理工艺模拟试验装置成本低、占用空间小。
一种 mbr mcr cmf 水处理工艺模拟试验装置

[实用新型]一种用于处理SOI结构的真空处理系统-CN201020184060.0有效
发明人：杜志游;刘鹏;许颂临;陶珩;朱班 -专利权人：中微半导体设备(上海)有限公司
申请日： 2010-04-29 - 公布日： 2011-07-27 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本实用新型提供一种用于处理于绝缘体衬底上具有半导体材料的工艺片表面的真空处理系统，其中，包括：一个传输室，其中设置有至少一个工艺片传送装置；一个真空锁；至少一个处理室；一个工艺片预处理室，其中，所述工艺片预处理室还包括：一个或多个工艺片支撑装置；一个或多个预处理装置，其用于对所述工艺片支撑装置上的工艺片加热；控制装置，其用于检测所述工艺片的表面温度，当所述工艺片的表面温度达到一个预定阈值，则发送一个停止信号以指示所述预处理装置停止对所述工艺片进行加热其中，还可以将真空锁和所述预处理装置整合为一体。本实用新型能够有效地在SOI工艺片夹持之前进行平坦化处理。
一种用于处理 soi 结构真空系统

[发明专利]基板处理装置及基板处理装置的工艺管理方法-CN202211275175.4在审
发明人：梁映轘 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-10-18 - 公布日： 2023-05-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了基板处理装置及基板处理装置的工艺管理方法，涉及掌握设置在基板处理设备的多个工艺腔室的每一个的工艺现况，将处理预定基板投入到各个工艺腔室，并保管在设于传输腔室的储存室中，根据相应工艺腔室的工艺进行情况，将保管在所述储存室中的基板移送到相应工艺腔室的基板处理设备的工艺管理技术。基板处理装置包括：多个工艺腔室，执行针对基板的工艺工序；传输腔室，具备储存室和移送机器人，所述储存室配置在所述多个工艺腔室之间并临时保管处理预定基板，所述移送机器人将基板移送到所述储存室；以及控制模组。基板处理装置的工艺管理方法包括工艺现况监视步骤、休息预定判断步骤、基板保管步骤、基板供应安排步骤、基板移送步骤。
处理装置工艺管理方法

[发明专利]基板处理装置及方法-CN202211610083.7在审
发明人：崔旼贞;柳潘硕;张右硕;卓起德 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-12-12 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：本发明提供在对基板执行蚀刻工艺时能够改善图案粗糙度的基板处理装置及方法。所述基板处理方法包括：向基板处理装置内搬入基板的步骤；向基板处理装置内投入第一工艺气体，并利用第一工艺气体对基板进行第一等离子体处理的步骤；以及向基板处理装置内投入第二工艺气体，并利用第二工艺气体对基板进行第二等离子体处理的步骤，其中，第二工艺气体的至少一部分成分与第一工艺气体不同。
处理装置方法

[发明专利]一种喷漆室废气净化循环再利用系统-CN201610514657.9有效
发明人：吉达林;徐海磊;任志明;季松林 -专利权人：常州市骠马工业机器人系统工程有限公司
申请日： 2016-06-30 - 公布日： 2019-01-29 - 主分类号： B01D50/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种喷漆室废气净化循环再利用系统，包括工艺气体处理装置Ⅰ、工艺气体处理装置Ⅱ和废气处理系统，通过工艺气体处理装置Ⅱ，能够有效减少有机废气处理的风量，增加废气处理的浓度；减少新风引入风量，降低工艺气体处理装置
一种喷漆废气净化循环再利用系统

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