专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]材式溅镀装置-CN200580016686.2无效
  • 门仓贞夫;安福久直 - F·T·S·股份有限公司
  • 2005-12-13 - 2007-05-02 - C23C14/34
  • 本发明提供一种材式溅镀装置,不需使用大型材可在实质上实现大型材的功能,为可成膜于大面积的基板上,将长方体状框体71的6个侧面71a~71f中的1个71f作为开口的开口侧面;将具备有材和设置于其周围、形成垂直于材面方向的模式磁场,及平行于材面方向的磁控模式磁场的永久磁铁的磁场产生装置的一材单元100a及100b,装设于与材单元相邻接的开口侧面的两侧的侧面;将以遮蔽板72c~72e(71c、72c于正前方未图示)遮蔽其它侧面71c~71e的箱型式溅镀部70,在开口侧面安装于真空容器10上;将开口侧面的开口部面对真空容器内,于各材单元100a、100b各配置有多个多片的材110a
  • 靶材式溅镀装置
  • [发明专利]反应溅射外延Fe4N薄膜的制备方法-CN201010272048.X无效
  • 米文博;封秀平;白海力 - 天津大学
  • 2010-09-03 - 2010-12-15 - C23C14/06
  • 本发明涉及反应溅射外延Fe4N薄膜的制备方法;在镀膜机头上安装一纯度为99.99%的Fe,将基底安装在对连线的中垂线上,基片与的两个Fe连线的垂直距离为4cm;开启磁控溅射,溅射室的背底真空度为8×10-6Pa;真空室通入纯度为99.999%的溅射气体Ar和N2,开启溅射电源,在一Fe上施加0.05A的电流和1175V的直流电压,预溅射10分钟,通过调节基底温控电源与常用制备外延Fe4N薄膜的分子束外延法相比,材选择简单,采用Fe作为材来制备外延Fe4N薄膜,从工业上更为容易获得。
  • 反应溅射外延fesub薄膜制备方法
  • [实用新型]一种运动的双摇摆-CN202020604622.6有效
  • 梁国栋;邓峰 - 江门市前卫匹特搏供应有限公司
  • 2020-04-21 - 2021-02-23 - F41J1/10
  • 本实用新型公开了一种运动的双摇摆,包括固定底板,所述固定底板顶端设置有固定座,所述固定座内侧设置有固定轴,所述固定轴两侧均设置有转动杆,所述转动杆顶端设置有安装座,所述安装座顶端设置有标靶,所述转动杆底端设置有重力块本实用新型通过将连接杆固定在固定夹板上,进而将安装座的顶角与连接杆的底端卡接,进而通过对打击板进行打击,进而使得连接杆的底端与安装座断开连接,进而使得两个安装座在转动杆和重力块的作用下进行运动,使得标靶的运动更加的便捷
  • 一种运动摇摆
  • [发明专利]滴胶管内壁表面的处理方法-CN202011579364.1在审
  • 黄平尧 - 东莞新科技术研究开发有限公司
  • 2020-12-28 - 2022-07-01 - C23C14/35
  • 本发明涉及粘接工具技术领域,公开了一种滴胶管内壁表面的处理方法,包括:将滴胶管放置在磁控溅射装置的反应腔室中;反应腔室抽真空;反应腔室内通入惰性气体;通过第一电源Cr施加电力,并Cr进行溅射,以在滴胶管的内壁上形成Cr层;通过第二电源C施加电力,并同时Cr和C进行溅射,以在滴胶管的内壁的Cr层上形成CrC层;反应腔室抽真空;反应腔室内通入氮气;通过第三电源Ti施加电力,并同时Ti、Cr和C进行溅射,以在滴胶管的内壁的CrC层上形成由Cr、Ti和DLC组成的复合物层。采用本发明实施例,能够滴胶管的内壁进行镀膜处理,从而避免粘接过程中胶水在滴胶管的内壁附着。
  • 胶管内壁表面处理方法
  • [实用新型]反应腔室和镀膜设备-CN201920634071.5有效
  • 张兴;孙红霞;潘世荣;李建勇 - 领凡新能源科技(北京)有限公司
  • 2019-05-06 - 2020-04-28 - C23C14/35
  • 本实用新型涉及磁控溅射技术领域,尤其涉及一种采用磁控溅射镀膜的反应腔室和镀膜设备,用以减少阳极消失、溅射不均匀等原因引起的成膜问题。其中该反应腔室包括:腔室本体;设置于腔室本体内2+2n个,n为大于等于0的整数;中频电源,与相同的2个电连接,其中:连接同一中频电源的两个构成孪生;第一驱动装置和第二驱动装置,分别连接一孪生中的一个的转轴,孪生中的一个沿第一方旋转,孪生中的另一个沿第二方旋转,第一方和第二方相反。
  • 反应镀膜设备
  • [发明专利]坯及材组件的制造方法-CN201610679308.2有效
  • 姚力军;潘杰;相原俊夫;王学泽;陈勇军 - 宁波江丰电子材料股份有限公司
  • 2016-08-16 - 2020-06-16 - C23C14/34
  • 本发明提供一种坯及材组件的制造方法,所述坯的制造方法包括:提供AlSc合金锭;AlSc合金锭进行塑性变形加工,形成初始坯;以阶梯升温的方式,初始坯进行热处理,形成坯。本发明以阶梯升温的方式,初始坯进行热处理。由于在升温过程中,难以保证初始坯的受热均一性良好,因此通过分多个阶段来进行热处理,在每一次升温后进行保温,使已达到预设温度的部分区域初始坯进行保温,使未达到预设温度的部分区域初始坯继续进行升温直至达到预设温度,因此完成每一阶段的热处理后,均可以使初始坯受热均匀,即可以提高初始坯的受热均一性,从而使热处理后坯的晶200含量增加,且所述坯的晶均匀、晶粒细小。
  • 组件制造方法

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