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[发明专利]对准误差测量方法-CN201911212303.9有效
发明人：齐月静;杨光华;王宇;李璟;卢增雄;齐威;孟璐璐 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2019-11-29 - 公布日： 2021-08-13 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：一种对准误差测量方法，用于测量非对称的第一对准标记引入的对准误差，方法包括：根据非对称位置确定至少四种类型的非对称对准标记，每一非对称对准标记包括一种所述非对称位置，所述第一对准标记包括至少一种非对称位置；测量每一非对称对准标记引入的对准误差分量，以及测量第一对准标记对应的第一测量信号；利用电磁仿真模型分别获取对称对准标记、每一非对称对准标记对应的理论测量信号；根据第一测量信号、对称对准标记对应的理论测量信号、每一非对称对准标记对应的理论测量信号和对准误差分量计算每一非对称对准标记对应的权重因子；根据每一非对称对准标记对应的权重因子和对准误差分量计算第一对准标记引入的对准误差。
对准误差测量方法

[发明专利]光学测量组件、对准测量装置及对准测量方法-CN202110736696.4在审
发明人：陈跃飞;徐兵 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2021-06-30 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种光学测量组件、对准测量装置及对准测量方法，包括：工件台，用于承载待测基板；焦面测量模块，包括第一光源、投影光栅及第一摄像机，所述第一光源发出的光束透过所述投影光栅分散成至少三个子光束，所述子光束入射至一待测基板上，至少部分的所述子光束被所述待测基板反射后形成第一检测光，所述第一检测光入射至所述第一摄像机中；对准测量模块，包括第二光源、第一分束棱镜及第二摄像机，所述第二光源发出的光束入射至所述第一分束棱镜，被所述第一分束棱镜反射至所述对准标记上，并被所述对准标记反射后形成第二检测光；工件台驱动模块，调节所述工件台的垂向位置。本发明提高了测量工艺适应性及测量稳定性。
光学测量组件对准装置测量方法

[发明专利]对准测量系统-CN201880037959.9在审
发明人： S·M·维特;A·安东琴赛奇;张浩;S·爱德华;P·C·M·普兰肯;塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩;S·R·胡伊斯曼;I·D·塞蒂贾;D·F·弗莱斯 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-05-15 - 公布日： 2020-01-24 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：然后，利用测量辐射束照射物体的表面。接收从所述表面散射的所述测量辐射束的至少一部分，以及根据在测量时间段内从所述表面散射的所述测量辐射束的至少一部分确定所述物体中所述特征的特性。所述脉冲泵浦辐射束的时间强度分布被选择成使得所述测量时间段中信背比大于使用所述脉冲泵浦辐射束的单个脉冲实现的信背比。
辐射束测量声波脉冲泵反射表面处时间段散射照射背景信号单个脉冲强度分布

[发明专利]对准测量方法-CN201410410237.7有效
发明人：包巧霞;邓贵红;余志贤 -专利权人：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2014-08-20 - 公布日： 2018-07-20 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：本发明提供一种对准测量方法，至少包括以下步骤：将待测量工件引入对准量测机台，在所述对准量测机台内设置用于对准测量的硅片对准标记测量点位置；采集设置于最小曝光单元中的多个硅片对准标记测量点的坐标；根据所述硅片对准标记测量点的坐标计算硅片对准标记测量点位置位移；将对准量测机台计算所得硅片对准标记测量点位置位移与光罩上定义的对准标记点位置位移作比较，若偏差在允许范围内，则结束；若偏差超出允许范围，则返回重新设置所述硅片对准标记测量点位置，直至偏差在允许范围内为止本发明大大提高了光刻对准量测程序设置的正确性，保证了后续自动补偿的准确性，进而提高硅片套准精度的准确性，保证了硅片的良品率。
对准测量方法

[发明专利]对准标记图像制作方法、对准标记测量方法及测量装置-CN201911380080.7有效
发明人：陈跃飞;徐兵 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2019-12-27 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： G01B11/24 文献下载
摘要：本发明提供了一种对准标记图像制作方法、对准标记测量方法及测量装置，其中，对准标记图像制作方法中首先获取包含目标对准标记的图像，然后截取包含目标对准标记的目标区域，生成子图，并计算目标对准标记的尺寸，最后绘制对准标记图像对准标记测量方法中首先采用如上所述的对准标记图像制作方法，基于金属掩模上的一目标对准标记制作对准标记图像，并获取金属掩模的图像，然后将金属掩模的图像与对准标记图像进行比对，筛选出所有与目标对准标记相匹配的对准标记，最后计算各个对准标记的位置。本发明中的对准标记测量方法通过在线制作对准标记图像，提高了测量结果的可信度，缩短了测量时间，而且扩大了测量装置的适用范围。
对准标记图像制作方法测量方法测量装置

[发明专利]一种投影曝光装置及曝光方法-CN201611073752.6有效
发明人：陈跃飞;陈飞彪;于大维;潘炼东 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2016-11-29 - 公布日： 2019-09-17 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种投影曝光装置及曝光方法，包括沿光路方向依次设置的照明光源、掩模版、掩模台、投影物镜阵列、对准测量系统阵列和工件台，所述工件台上设有玻璃基板，所述对准测量系统阵列中的对准测量系统与所述投影物镜阵列中的投影物镜一一对应，所述玻璃基板上设有两行对准标记阵列，所述对准标记阵列中相邻两个对准标记的间距与所述对准测量系统阵列中相邻两个对准测量系统的间距相同。本发明提高了对准标记和对准测量系统的空间布局灵活性；减少了对准标记和对准检测系统的数量，对准检测系统的数目和投影物镜的数目相同，减少了对准过程的时间消耗，提高了检测效率。
对准测量投影物镜对准标记系统阵列对准标记阵列对准检测系统投影曝光装置玻璃基板空间布局时间消耗依次设置照明光源曝光工件台掩模版掩模台光路对准检测

[发明专利]对准装置和方法、成膜装置和方法及电子器件的制造方法-CN202111324015.X在审
发明人：小林康信 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2018-08-31 - 公布日： 2022-02-11 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供对准装置和方法、成膜装置和方法及电子器件的制造方法，对准装置包括：对准测量位置信息存储部，存储与基板的对准测量位置相关的信息；以及测量部，根据基于与上述对准测量位置相关的信息获得的基板和掩模的对准标记的图像，测量基板与掩模的相对的偏移，与上述对准测量位置相关的信息包括在基板的至少一部分与掩模接触的状态下进行的对准工序中的与基板的位置相关的信息。
对准装置方法电子器件制造

[发明专利]对准装置和方法、成膜装置和方法及电子器件的制造方法-CN201811006627.2有效
发明人：小林康信 -专利权人：佳能特机株式会社
申请日： 2018-08-31 - 公布日： 2021-11-09 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明提供对准装置和方法、成膜装置和方法及电子器件的制造方法，对准装置包括：对准测量位置信息存储部，存储与基板的对准测量位置相关的信息；以及测量部，根据基于与上述对准测量位置相关的信息获得的基板和掩模的对准标记的图像，测量基板与掩模的相对的偏移，与上述对准测量位置相关的信息包括在基板的至少一部分与掩模接触的状态下进行的对准工序中的与基板的位置相关的信息。
对准装置方法电子器件制造

[发明专利]一种环境补偿对准系统-CN201010250448.0有效
发明人：李运锋 -专利权人：上海微电子装备有限公司
申请日： 2010-08-11 - 公布日： 2012-03-14 - 主分类号： G03F9/00 文献下载
摘要：一种用于光刻设备的对准系统，该对准系统包括光源与照明模块、对准标记、成像模块、参考光栅、信号采集处理模块、工件台、运动台、位置采集与运动控制模块、环境测量模块、对准操作与管理模块。利用环境测量模块实时测量对准光束传播环境的参数，利用该参数补偿对准时由于环境波动导致的对准误差，提高了对准精度和测量稳定性。
一种环境补偿对准系统

[发明专利]采样信号同步控制系统-CN202111329854.0在审
发明人：李璟;马会娟;丁敏侠;齐月静;朱世懂;张清洋 -专利权人：中国科学院微电子研究所
申请日： 2021-11-10 - 公布日： 2022-02-11 - 主分类号： G05B19/042 文献下载
摘要：本发明提供一种采样信号同步控制系统，包括硅片对准测量模块、以及工件台位置测量模块；其中，所述硅片对准测量模块包括通过外同步总线、内同步总线、以及管理和数据总线连接的对准测量CPU板卡、对准测量同步控制板卡、对准测量数据交换板卡、对准测量并行计算板卡、对准光电解调采集板卡；所述工件台位置测量模块包括通过自定义总线、以及管理总线连接的位置测量CPU板卡、位置测量同步控制板卡、位置测量计数板卡。
采样信号同步控制系统

[发明专利]曝光装置及离焦倾斜误差补偿方法-CN201410508363.6有效
发明人：陈飞彪;周畅;陈跃飞;程琦;刁雷;齐景超 -专利权人：上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请日： 2014-09-28 - 公布日： 2018-09-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明提供了一种曝光装置及离焦倾斜误差补偿方法中，通过在每个对准测量传感器都设置有一个与其对应的调焦测量传感器，并且每个对准测量传感器与其所对应的调焦测量传感器在第一方向上的坐标相同，使得对准测量传感器与调焦测量传感器两者位于同一条直线上，此时调焦测量信息与对准测量信息可共同表征对准标记，以便对对准测量信息存在误差时进行修正，完成离焦倾斜误差的补偿，极大的提高了对准精度，提高产品良率。
曝光装置倾斜误差补偿方法

[实用新型]一种可测量垂直水平度的测绘装置-CN202220603670.2有效
发明人：郑海洋;孙甜甜;徐林蒙 -专利权人：山东麦讯地理信息咨询有限公司
申请日： 2022-03-20 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： G01C15/10 文献下载
摘要：本实用新型涉及测绘设备技术领域，具体为一种可测量垂直水平度的测绘装置，包括垂直对准板和活动设于垂直对准板上的水平对准板，所述水平对准板和垂直对准板之间安装有可测量垂直水平度的测量组件，所述测量组件由两个悬挂于水平对准板上的吊绳、安装于吊绳底端的铅锤以及固定安装于水平对准板上的角度尺构成。本实用新型通过设置可以自由展开或收拢的垂直对准板和水平对准板，并在垂直对准板和水平对准板之间设置测量组件，使用时，通过将垂直对准板或水平对准板贴合待测量物体，观察吊绳所指向的刻度，即可非常直观的判断该物体是否垂直
一种可测量垂直水平测绘装置

[发明专利]背面套刻误差测量方法-CN201911226915.3在审
发明人：车一卓;王永胜;苏翼;唐琼;盛洁;刘韧 -专利权人：北京自动化控制设备研究所
申请日： 2019-12-04 - 公布日： 2020-04-10 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：本发明涉及误差测量技术领域，公开了一种背面套刻误差测量方法。其中，该方法包括：通过光刻图形化得到正面对准标记和背面对准标记；对正面对准标记和背面对准标记进行图像采集，得到正面对准标记图像和背面对准标记图像；对正面对准标记图像和背面对准标记图像进行图像处理，得到正面对准标记突出显示的第一图像和背面对准标记突出显示的第二图像；对第一图像和第二图像进行合并处理，得到正面对准标记和背面对准标记合并的新图像；基于新图像中的正面水平测量游标和背面水平测量游标确定背面套刻的水平误差，基于新图像中的正面竖直测量游标和背面竖直测量游标确定背面套刻的竖直误差由此无需使用额外标尺就可准确测量出背面套刻的实际误差。
背面误差测量方法

[实用新型]一种电机间隙片的测量机构-CN202121680339.2有效
发明人：於艳鹏 -专利权人：苏州莱盟自动化设备有限公司
申请日： 2021-07-23 - 公布日： 2021-12-07 - 主分类号： G01B5/14 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种电机间隙片的测量机构，包括外测量板和照明灯，所述外测量板上端印刷有第一刻度线，且第一刻度线一侧设置有第一刻度数，所述外测量板内侧设置有内测量板，且内测量板上端印刷有第二刻度线，所述第二刻度线一侧设置有第二刻度数，且内测量板一侧粘接固定有悬挂扣，所述内测量板前段一侧粘接固定有固定对准板，且内测量板内侧开设有滑槽。该电机间隙片的测量机构，持活动对准板，将活动对准板左右推动，活动对准板下端的卡合滑块沿着内测量板内侧的滑槽左右滑动，通过此结构可移动活动对准板位置，活动对准板对准电机间隙片一侧，读取固定对准板和活动对准板之间的长度读数，可提高测量精度。
一种电机间隙测量机构

[发明专利]用于测量电梯井的方法-CN201410211152.6在审
发明人：哈里.朱沃南;里斯托.莱恩 -专利权人：通力股份公司
申请日： 2010-04-06 - 公布日： 2014-09-24 - 主分类号： G01C15/10 文献下载
摘要：本发明提供一种用于测量电梯井的方法，其中，大致与所述电梯井的布局对应的模板布置在电梯井空间的底部上，该模板包括多个对准标记，根据该模板上的这些对准标记，多个激光对准器布置在所述模板上或所述电梯井的底部上以向上发射激光束，并且，位于手柄的端部处的测量元件依次对准在由所有所述激光对准器发射的激光束之上以使得所述测量元件的对准标记位于所述激光束的点上；如果在此情况下，在电梯井的壁和所述测量元件之间保留有空间，那么所述电梯井被证实在测量点足够大；如果所述测量元件的对准标记不能配合到所述激光束的点上，那么带有激光对准器的上述模板移动直到所述测量元件的对准标记能够对准在所述激光束上。
用于测量电梯方法

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