专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]铁电晶体管三态存储的操作方法及装置-CN202310128233.9在审
  • 任天令;王震泽;鄢诏译;刘厚方;杨轶 - 清华大学
  • 2023-02-07 - 2023-06-09 - G11C11/22
  • 本申请涉及铁电存储技术领域,特别涉及一种铁电晶体管三态存储的操作方法及装置,其中,方法包括:判断铁电晶体管是否满足实施三态存储的条件;若铁电晶体管满足实施三态存储的条件,则确定单铁电晶体管的三态操作手续种类和目标状态;基于目标三态操作手续对铁电晶体管进行操作,使得铁电晶体管进入目标状态,以在目标状态完成存储动作。由此,解决了相关技术中对于单个铁电的利用均局限于上下两个态的问题,拓展了传统操作模式只涵盖铁电的上下两态的技术限制,使铁电晶体管能够实现三态存储,提高了数据存储密度,提高存算一体电路集成度。
  • 单畴铁电晶体管三态存储操作方法装置
  • [发明专利]一种声表面波器件用的芯片-CN202111247142.4在审
  • 夏钰坤;夏宗仁;夏文英;张婷 - 江西匀晶光电技术有限公司
  • 2021-10-26 - 2022-01-18 - H03H9/64
  • 本发明属于半导体技术领域,具体涉及一种声表面波器件用的芯片,包括晶体基片,晶体基片的上表面为抛光面,晶体基片的上表面的下方为薄膜层,薄膜层的下方为多厚膜层。本发明通过重构芯片内和电导率分布,将常规芯片的单一结构变成单薄膜和多厚膜的复合结构。上表面光刻出叉指线条(IDT),薄膜仍保持正常的压电性能,用于传输SAW信号;多厚膜层,理论上不具有压电性、热释电性、热膨胀性等,因此,会抑制声波、热静电、温漂等现象,因而提高SAW器件高频段性能
  • 一种表面波器件芯片
  • [实用新型]一种永磁真空重合器-CN201220236060.X有效
  • 孙启健;卫军;赵宝青;潘东东 - 扬州科宇电力有限公司
  • 2012-05-23 - 2013-01-23 - H01H33/666
  • 本实用新型涉及一种永磁真空重合器,包括真空灭弧室、分闸弹簧、触头弹簧、稳态永磁机构,所述稳态永磁机构包括:上磁、下磁、圆磁、传动杆,所述上磁与所述圆磁的上端面连接固定、所述下磁与所述圆磁的下端面连接固定中间形成一个内部空间,所述内部空间里设有线圈、永磁体、铁芯,所述线圈和所述永磁体套接在所述传动杆上,所述传动杆一端与所述铁芯连接,另一端与所述触头弹簧连接,所述传动杆还与所述分闸弹簧相连,所述永磁体、圆磁、上磁、铁芯形成一个单向封闭的磁场回路。
  • 一种永磁真空重合
  • [发明专利]一种多场调控铁电泡状结构的方法-CN202310220133.9在审
  • 田国;高兴森;陈洪英;张兴晨;宋志庆 - 华南师范大学
  • 2023-03-08 - 2023-07-04 - H10B53/30
  • 本发明涉及一种多场调控铁电泡状结构的方法,其包括以下步骤:S1:通过脉冲激光沉积将外延PTO薄膜沉积在(001)取向的SrRuO3/SrTiO3衬底上,制得STO/SRO/PTO多层膜,其初始结构是向上的;S2:通过原子力显微镜尖端对薄膜样品施加压缩应力诱导出纳米级泡状结构,其中心发散,且面外具有反结构;S3:采用以下三种方式的任一种或任意两种的组合或三种的组合消除薄膜样品的泡状结构使其结构回到初始状态,即为向上的结构:方式一:采用紫外线照射样品有泡状的区;方式二:采用红外线照射样品有泡状的区这种应力、光和热的多场调控方式为将拓扑结构应用于光敏传感器或热传感器提供了可能性。
  • 一种调控铁电泡状畴结构方法
  • [发明专利]一种超薄型熔融织构高温超导块材的制备方法-CN201711399340.6有效
  • 焦玉磊;郑明辉 - 有研工程技术研究院有限公司
  • 2017-12-21 - 2020-03-10 - H01B12/00
  • 一种超薄型熔融织构高温超导块材的制备方法,包括:I.制备厚度为10~13mm的超导块材前驱物坯料;II.制备厚度为4~5mm的替代层;替代粉体为原始组成成分与前驱物相同,但在熔融织构制备超导块材的生长工艺后未能形成单晶结构的废弃材料,或由于不适合制备熔融织构超导块材的弃用的前驱物粉体;III.制备隔离层;IV.在氧化铝垫片上依次放置MgO单晶片、隔离层、替代层和超导块材前驱物坯料,随后采用结合顶部籽晶技术的熔融织构生长工艺制备REBaCuO超导块材;V.将得到的块材去除MgO单晶片、隔离层和替代层,获得厚度小于等于10mm的超薄型熔融织构高温超导块材。
  • 一种超薄型熔融高温超导制备方法
  • [发明专利]TCM稳态永磁机构-CN201210086866.X无效
  • 邹迅;赵爱峰 - 江苏天驰电气有限公司
  • 2012-03-29 - 2012-07-25 - H01H33/666
  • TCM稳态永磁机构,涉及中压真空断路器生产技术领域。在圆磁的两端分别连接上磁和下磁,在上磁上穿置合闸螺杆,在下磁上穿置分闸螺杆,于圆磁内设置铁芯,合闸螺杆和分闸螺杆的内端分别与铁芯连接,铁芯上部与圆磁之间设置线圈,铁芯下部与圆磁之间设置内环本发明综合体现了稳态永磁机构操动机构与真空灭弧室出力特性的良好配合,具有优异的机械特性及电气特性,能给出适当的合闸速度和分闸速度。
  • tcm稳态永磁机构
  • [发明专利]易除液相源残留的钆钡铜氧超导块材的制备方法-CN201610693560.9有效
  • 杨万民;杨芃焘 - 陕西师范大学
  • 2016-08-19 - 2018-09-28 - C30B29/22
  • 本发明属于高温铜氧化物超导材料技术领域,具体涉及一种易除液相源残留的钆钡铜氧超导块材的制备方法。本发明的方法包括配制固相源粉、配制液相源粉、压制固相先驱块、压制含有圆孔的液相源先驱块、压制Y2O3圆柱形支柱、压制Yb2O3支撑块、制备钕钡铜氧籽晶、装配先驱块、熔渗生长钆钡铜氧块材、渗氧处理步骤本发明了提供了一种装配先驱块的新技术,既能实现液相源先驱块中液相的熔渗,又能保证钆钡铜氧超导块材的生长,同时又能极易实现已生长钆钡铜氧超导块材与液相源残留块的分离;不仅大大简化了对液相源残留块的后续切除加工过程,也避免了已生长钆钡铜氧超导块材在分离过程中被破坏的可能性。
  • 液相源残留单畴钆钡铜氧超导及其制备方法
  • [发明专利]易除液相源残留的钇钡铜氧超导块材制备方法-CN201610693174.X有效
  • 杨万民;杨芃焘;王孝江 - 陕西师范大学
  • 2016-08-19 - 2019-06-07 - C04B35/45
  • 本发明属于高温铜氧化物超导材料技术领域,具体涉及一种易除液相源残留的钇钡铜氧超导块材制备方法。本发明的方法包括配制固相源粉、配制液相源粉、压制固相先驱块和液相源先驱块、压制第一固液隔离层和第二固液隔离层、压制Yb2O3支撑块、装配先驱块、熔渗生长钇钡铜氧块材本发明提供了一种装配先驱块的新技术,既能实现液相源先驱块中液相的熔渗,又能保证钇钡铜氧超导块材的生长,同时又能极易实现已生长钇钡铜氧超导块材与液相源残留块的分离;不仅大大简化了对液相源残留块的后续切除加工过程,也避免了已生长钇钡铜氧超导块材在分离过程中被破坏的可能性。
  • 液相源残留单畴钇钡铜氧超导及其制备方法

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