专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [外观设计]图案双头笔-CN202330270952.5有效
  • 刘志杰 - 刘志杰
  • 2023-05-10 - 2023-09-26 - 19-06
  • 1.本外观设计产品的名称:色图案双头笔。2.本外观设计产品的用途:用于书写和绘画。3.本外观设计产品的设计要点:在于形状、图案与色彩的结合。4.最能表明设计要点的图片或照片:立体图。
  • 图案双头笔
  • [发明专利]修正凸光掩膜图案的方法-CN200810130467.2有效
  • 傅文勇 - 南茂科技股份有限公司
  • 2008-07-04 - 2010-01-06 - G03F1/14
  • 一种修正凸光掩膜图案的方法,包含:提供晶片,其主动面上具有多个焊垫;形成光致抗蚀剂层在晶片的主动面上;提供具有第一图案的第一光掩膜层,在此,第一光掩膜层的第一图案是用以限定出晶片上的有效区域,且有效区域是对应于晶片的全部区域;执行第一曝光工序,使得第一图案转移到光致抗蚀剂层上;以具有第二图案的第二光掩膜层取代具有第一图案的第一光掩膜层,并执行第二曝光工序,使得第二图案转移至光致抗蚀剂层上,在此,第二光掩膜层的第二图案是用以限定晶片的部份区域,且部份第二图案与部分第一图案重迭;及执行一显影及蚀刻步骤,以移除第二图案与第一图案的重迭部分,并曝露出在晶片上的有效区域上的多个焊垫以及移除在全部区域的无效区域上的部分光致抗蚀剂层。
  • 修正凸块光掩膜图案方法

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