专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]卤素阻燃纤维及其制造方法以及使用其的阻燃纤维制品-CN201380049056.X有效
  • 田中健 - 株式会社钟化
  • 2013-09-17 - 2018-03-23 - D01F6/48
  • 本发明提供能够将无须添加担心对环境、人体的影响的锑化合卤素纤维高度阻燃化的卤素阻燃纤维与其制造方法及使用其的阻燃纤维制品。本发明的卤素阻燃纤维包含含有17~70质量份的卤素卤素的聚合100质量份、和1.3~20质量份钼化合,所述钼化合的以中值径表示的平均粒径为10nm以上且低于600nm。本发明的阻燃纤维制品含有卤素阻燃纤维。本发明的制造方法包含将组合纺丝的工序,所述组合包含含有17~70质量份的卤素卤素的聚合100质量份、和1.3~20质量份钼化合,在所述纺丝中使用的组合中,钼化合的以中值径表示的平均粒径为
  • 卤素阻燃纤维及其制造方法以及使用纤维制品
  • [发明专利]采用硅化合进行的硅层沉积-CN200380101414.3有效
  • K·K·辛格;P·B·科米塔;L·A·斯卡德;D·K·卡尔森 - 应用材料有限公司
  • 2003-10-20 - 2005-12-07 - C23C16/24
  • 本发明的实施方式一般地提供了硅化合的组合和采用该硅化合沉积硅膜的方法。该方法利用将硅化合引入到衬底表面并沉积部分硅化合,即硅主结构而成为硅膜。配体是硅化合的其它部分,其作为原位蚀刻剂而释放出来。该原位蚀刻剂支持选择性的硅外延生长。硅化合包括SiRX6、Si2RX6、Si2RX8,其中X独立地为氢或卤素,R为碳、硅或锗。硅化合也包括含有三个硅原子,选自碳、硅或锗的第四个原子,和选自氢或卤素且至少一个为卤素的多个原子的化合,并且含有四个硅原子,选自碳、硅或锗的第五个原子,和选自氢或卤素且至少一个为卤素的多个原子的化合
  • 采用化合物进行含硅层沉积
  • [发明专利]一种用于卤素化合污水的处理剂及其制备方法-CN202010323685.9在审
  • 罗来飞 - 罗来飞
  • 2020-04-22 - 2020-08-07 - C02F1/42
  • 本发明公开了一种用于卤素化合污水的处理剂及其制备方法,所述用于卤素化合污水的处理剂包括以下重量组分:粘土5‑18份,粉煤灰16‑20份,蛭石3‑7份,蒙脱石8‑12份,碳化硅7‑13份,沸石2‑本发明通过多种原料和工艺生成高强度、低密度、多孔疏水的陶粒,作为离子交换树脂的附着基体,二者共同作用于污水中的杂质,陶粒中的硅藻土和阴离子交换树脂将卤素离子吸附,完成对卤素化合的处理,且陶粒及离子交换树脂的碱性条件使得有机化合能够脱去卤素离子,提高处理剂对卤素化合污水的处理效率,同时处理剂也能够吸附其他杂质,经过处理再生可以循环使用。
  • 一种用于卤素化合物污水处理及其制备方法

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