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[发明专利]可挠性发光阵列及其制造方法-CN200410003275.7无效
发明人：汪秉龙;庄峰辉 -专利权人：宏齐科技股份有限公司
申请日： 2004-02-03 - 公布日： 2005-08-10 - 主分类号： G09F9/33 文献下载
摘要：本发明涉及一种可挠性发光阵列及其制造方法。本发明的可挠性发光阵列包括有：一可挠性基板，布设有多个导电线路；及一发光二极管阵列，包含有多个横向及纵向的发光二极管，其接合于该可挠性基板的导电线路，可由一驱动电路控制该发光二极管阵列发光，产生影像信息显示功能本发明的可挠性发光阵列用来作为可弯曲、卷折的发光面板。
可挠性发光阵列及其制造方法

[实用新型]可挠性管体的制造设备-CN201120498851.5有效
发明人：刘建宏 -专利权人：刘建宏
申请日： 2011-12-05 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： B29C47/20 文献下载
摘要：本实用新型公布了一种可挠性管体的制造设备，其主要包含有一内模、一外模及一挡止装置；该外模套置于该内模的外周，该外模与该内模间具有一流道及一将该流道连通至外部的流道口，该挡止装置具有一转动件及一挡止板，该转动件设置于该外模上，可以该外模的轴心为圆心进行预定转速的转动，该挡止板与该转动件连动并位于该流道口上，该挡止板具有一挡止部，可遮蔽住部分的流道口，使该转动件带动该挡止板转动时，该挡止板的挡止部会持续地以同一方向旋转而挡住局部流道口的不同外围位置，以一体挤压成型出具有基管与螺旋状凸条的可挠性管体，以达降低制造成本、增进制造效率及提升结构强度的功效。
可挠性管体制造设备

[发明专利]可制造性改善的陶瓷前体-CN200980134873.9无效
发明人： M·E·德罗莎;T·M·多布特;M·Y·龙科;G·G·斯奎尔 -专利权人：康宁股份有限公司
申请日： 2009-07-21 - 公布日： 2011-07-27 - 主分类号： C04B38/00 文献下载
摘要：本文定义了一种批料混合物，其包含陶瓷成型成分、含石墨和淀粉的成孔剂混合物、羟丙基甲基纤维素粘合剂和液体运载体。还公开了一种生产陶瓷前体制品的方法，其增强了本文定义的挤出和干燥过程的处理量。
制造改善陶瓷

[发明专利]一种面向截面分析和RPS定位的车身可制造性分析系统-CN202011002539.2在审
发明人：吴海江;施海燕;邹文俊;霍美玲;张成虎;解超;卢磊 -专利权人：上海翼锐汽车科技有限公司
申请日： 2020-09-22 - 公布日： 2021-01-08 - 主分类号： G06F30/20 文献下载
摘要：本发明提供一种面向截面分析和RPS定位的车身可制造性分析系统，包括面向截面分析的可制造性分析工具、面向RPS分析的可制造性分析工具和辅助工具，所述面向截面分析的可制造性分析工具包括：曲面自动截面检查工具、圆角干涉检查工具、多层板过渡检查工具、车顶横梁涂胶检测工具；所述面向RPS分析的可制造性分析工具包括：RPS位置检测工具、RPS面检测工具、RPS方案检测工具；所述辅助工具包括设置及恢复工具和辅助对话框本发明利用CATIA二次开发技术研发得出，可针对车身可制造性分析中不同检查项内容的要求，对车身产品进行快速可制造性分析，提高了车身可制造性分析工作效率，能辅助工程师快速有效的完成可制造性分析工作。
一种面向截面分析 rps 定位车身制造系统

[发明专利]用于确定光刻掩模的可制造性的方法和系统-CN200910208363.3无效
发明人：井上忠宣;D·O·梅尔威尔;牟田英正;田克汉;阪本正治;A·E·罗森布卢特 -专利权人：国际商业机器公司
申请日： 2009-11-12 - 公布日： 2010-06-23 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：本发明涉及用于确定光刻掩模的可制造性的方法和系统。确定在制造半导体器件样品时所采用的光刻掩模的可制造性。从光刻掩模的掩模版图数据中选择多个目标边缘对，用于确定在形成光刻掩模时的制造惩罚。确定光刻掩模的可制造性，包括确定在形成光刻掩模时的制造惩罚。基于所选择的目标边缘对确定制造惩罚。使用在连续尺度上表征光刻掩模的可制造性的连续导数，确定光刻掩模的可制造性。输出光刻掩模的可制造性。光刻掩模的可制造性依赖于形成光刻掩模时的制造惩罚。
用于确定光刻制造方法系统

[发明专利]可弯曲性显示装置的制造方法以及非可弯曲性基板-CN201880090641.7有效
发明人：田中哲宪 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2018-03-08 - 公布日： 2022-03-22 - 主分类号： G09F9/00 文献下载
摘要：以在树脂层(2)的中央端部区域(12)具有阻挡膜(3)的一部分欠缺的欠缺部(31)的方式，将阻挡膜(3)形成在树脂层(2)上。
弯曲显示装置制造方法以及性基板

[发明专利]面向三维微波器件设计的可制造性约束电磁拓扑优化方法-CN202311099150.8在审
发明人：金晶;张伟;林海;冯枫;杨艺琦 -专利权人：华中师范大学
申请日： 2023-08-29 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： G06F30/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种面向三维微波器件设计的可制造性约束电磁拓扑优化方法，该方法通过结合一套系统的可制造性验证算法和遗传算法，利用遗传算法的继承特性提高优化过程中生成具有可制造性的器件结构的可能性，然后利用可制造性验证算法在计算优化生成结构电磁响应之前验证该结构的可制造性，从而在确保生成的新结构具有可制造性时才对其进行电磁响应分析与验证，实现在保证电磁拓扑优化所生成的器件结构具有可制造性的同时提高电磁拓扑优化的效率。本发明能够始终保证拓扑优化后的电磁结构具有可制造性，可以避免优化过程中对不具有可制造性的器件进行重复的电磁响应计算，从而极大地加速了基于拓扑优化的微波器件设计过程。
面向三维微波器件设计制造约束电磁拓扑优化方法

[发明专利]优化可制造性的集成电路设计-CN03827080.3无效
发明人：卡尔罗·瓜尔迪亚尼;尼可拉·达拉格恩;约翰·卡巴里安;恩里科·马拉维斯;拉蒂博尔·拉多杰西科;安杰伊·斯特罗伊瓦斯 -专利权人： PDF全解公司
申请日： 2003-09-16 - 公布日： 2006-09-27 - 主分类号： G06F17/50 文献下载
摘要：分析库设计元件(102)的可制造性，将用于设计使用特定制造工艺制造的IC芯片。获得来自库的库设计元件。对于特定制造工艺确定库设计元件的可制造性属性(104)，其中，可制造性属性包括成品率相关属性。然后，对于库设计元件生成具有可制造性属性的库视图(106)，由电子设计自动化(EDA)工具使用。
优化制造集成电路设计

[发明专利]一种机械产品可制造性智能分析方法及系统-CN202111387513.9有效
发明人：李少文;陈启峰;张全军;幸贺杰 -专利权人：广东宏远新科自动化技术开发有限公司
申请日： 2021-11-22 - 公布日： 2022-09-27 - 主分类号： G06F30/17 文献下载
摘要：本发明提出了一种机械产品可制造性智能分析方法及系统，方法包括：获取产品的图纸数据和加工样本，分析图纸数据得到产品的一种或多种加工流程，筛选出加工流程中涉及到的全部加工设备，并获取各加工设备的加工参数及限制；基于图纸数据、加工参数及限制，以预设可制造性条件分析产品的可制造性；若满足可制造性条件，则建议制造，并进行后续的加工流程排定；若不满足可制造性条件，则不建议制造，并跳转至预设的图像化DFM模块进行图像化本发明利用DFM分析模块和图像化DFM模块相结合，实现产品可制造性设计分析智能化。根据系统预设的可制造性条件分析产品的可制造性，分析速度快，且准确度高，大大降低了人工分析的错误率。
一种机械产品制造智能分析方法系统

[发明专利]用于确定光刻掩模的可制造性的方法和系统-CN200910222007.7有效
发明人：井上忠宣;D·O·梅尔维勒;牟田英正;田克汉;阪本正治;A·E·罗森布鲁斯 -专利权人：国际商业机器公司
申请日： 2009-11-13 - 公布日： 2010-06-23 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：本发明涉及用于确定光刻掩模的可制造性的方法和系统。确定在制造半导体器件的实例中使用的光刻掩模的可制造性。从光刻掩模的掩模布局数据选择目标边缘对以确定光刻掩模制造中的制造损失。减少目标边缘对的数量，以减少确定光刻掩模制造中的制造损失的计算量。基于数量减少的目标边缘对确定光刻掩模的可制造性，包括确定光刻掩模制造中的制造损失。输出光刻掩模的可制造性。光刻掩模的可制造性依赖于光刻掩模制造中的制造损失。
用于确定光刻制造方法系统

[发明专利]可挠性显示装置以及可挠性显示装置的制造方法-CN201780092572.9在审
发明人：齐藤贵翁;山中雅贵;神崎庸辅;金子诚二;三轮昌彦 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2017-06-30 - 公布日： 2020-02-21 - 主分类号： H01L21/336 文献下载
摘要：柔性有机EL显示装置包括藉由电子背散射衍射法的硅的结晶方位对齐于001面的程度为3以上的多晶硅层(15)。
可挠性显示装置以及制造方法

[发明专利]可挠性显示装置及可挠性显示装置的制造方法-CN201910964704.3在审
发明人：黄昱嘉;吴湲琳;李冠锋;蔡宗翰 -专利权人：群创光电股份有限公司
申请日： 2019-10-11 - 公布日： 2021-04-13 - 主分类号： G09F9/30 文献下载
摘要：本揭露提供一种可挠性显示装置及其制造方法，所述可挠性显示装置包括第一可挠性基板、光转换结构以及触控电极。光转换结构与触控电极设置于第一可挠性基板上。
可挠性显示装置制造方法

[发明专利]可弯曲性显示装置以及可弯曲性显示装置的制造方法-CN201780095192.0有效
发明人：冈部达;斋田信介;谷山博己;郡司辽佑;市川伸治;仲田芳浩;神村浩治;井上彬 -专利权人：夏普株式会社
申请日： 2017-09-27 - 公布日： 2021-10-15 - 主分类号： G09F9/30 文献下载
摘要：在柔性有机EL显示装置(50)中，以填埋狭缝(BH)的方式形成有第一树脂层(13)，该第一树脂层具有：与第一导电构件(9A)重叠的开口(TH1)；与第二导电构件9C重叠的开口(TH4)；以及与第三导电构件(9B)重叠的开口(TH2)及开口(TH3)。
弯曲显示装置以及制造方法

[发明专利]可挠性显示装置的制造方法-CN201210284432.0在审
发明人：唐文忠;舒芳安;蔡耀州;辛哲宏;江明盛;王志诚 -专利权人：元太科技工业股份有限公司
申请日： 2012-08-08 - 公布日： 2013-03-27 - 主分类号： H01L23/00 文献下载
摘要：本发明是有关于一种可挠性显示装置的制造方法。提供一刚性基板。提供一具有至少一承载部与一围绕承载部的切除部的可挠性基板。形成一第一粘性材料在刚性基板及可挠性基板的切除部之间，以使可挠性基板借由第一粘性材料黏接于刚性基板上。第一粘性材料并未位于可挠性基板的承载部上。形成至少一显示单元在可挠性基板的承载部上。分离可挠性基板的承载部与切除部，以使刚性基板与可挠性基板分开，其中可挠性基板与其上的显示单元构成一可挠性显示装置。此可挠性显示装置的制造方法能使可挠性基板与刚性基板易于分离。
可挠性显示装置制造方法

[发明专利]可挠性电池的隔离膜制造方法-CN201510084283.7在审
发明人：何纶桀;詹益松 -专利权人：动能科技股份有限公司
申请日： 2015-02-16 - 公布日： 2016-10-05 - 主分类号： H01M2/14 文献下载
摘要：本发明提供一种可挠性电池的隔离膜的制造方法，包含以下步骤：(1)备一基膜：该基膜由选自聚乙烯与聚丙烯所组成的群组的材质所制成；(2)喷胶：在该基膜相对两面分别喷上一湿胶层，其中该湿胶层的喷涂密度为1.5将该两层湿胶层干燥使各该湿胶层的溶剂挥发一部分而成为一干胶层，其中该干胶层的相对喷涂密度为0.5毫克/平方公分至5毫克/平方公分，该干胶层的重量百分浓度为5％至20％，该干胶层的厚度为3至23微米；藉此可提供胶层极薄的隔离膜而可降低电池厚度，更可提升可挠性，并避免挠曲时的剥离，节省工序与成本。
可挠性电池隔离制造方法