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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]反应焊接材料-CN03816212.1有效
发明人：费伊·华;卡尔·德皮斯切;克里斯塔·惠滕伯格 -专利权人：英特尔公司
申请日： 2003-04-02 - 公布日： 2005-09-07 - 主分类号： H01L23/373 文献下载
摘要：反应焊接材料。本发明的反应焊接材料可以被焊接到半导体表面，比如管芯或晶片的背面。反应焊接材料包括与活性元素材料熔合的基础焊接材料。反应焊接材料也可以被施加到热管理器件的一部分。反应焊接材料可以被用作半导体表面和热管理器件之间的导热界面。
反应焊接材料

[实用新型]薄膜材料沉积反应装置和薄膜材料沉积反应系统-CN202020670125.6有效
发明人：李哲峰;张光海 -专利权人：深圳市原速光电科技有限公司
申请日： 2020-04-27 - 公布日： 2021-01-12 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型公开一种薄膜材料沉积反应装置和薄膜材料沉积反应系统，其中，所述薄膜材料沉积反应装置包括：气体分布台，设有扩散槽，所述扩散槽的底壁设有供气孔，所述气体分布台用于对膜材表面进行原子层沉积；隔板，盖设于所述扩散槽的槽口本实用新型提出的薄膜材料沉积反应装置升膜材表面与前驱体或反应物接触反应的充分性。
薄膜材料沉积反应装置系统

[实用新型]薄膜材料沉积反应装置和薄膜材料沉积反应系统-CN202020670176.9有效
发明人：李哲峰;张光海 -专利权人：深圳市原速光电科技有限公司
申请日： 2020-04-27 - 公布日： 2021-01-12 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型公开一种薄膜材料沉积反应装置，其中，所述薄膜材料沉积反应装置包括：气体分布台，设有扩散槽，所述扩散槽的底壁设有供气孔，所述气体分布台用于对膜材表面进行原子层沉积；扩散板，设于所述扩散槽内，并与所述扩散槽的底壁围合形成扩散腔本实用新型提出的薄膜材料沉积反应装置能够提升膜材表面沉积的原子沉积膜的均匀性。
薄膜材料沉积反应装置系统

[实用新型]薄膜材料沉积反应装置和薄膜材料沉积反应系统-CN202020672792.8有效
发明人：李哲峰;张光海 -专利权人：深圳市原速光电科技有限公司
申请日： 2020-04-27 - 公布日： 2021-01-12 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型公开一种薄膜材料沉积反应装置和薄膜材料沉积反应系统，其中，所述薄膜材料沉积反应装置包括：气体分布台，设有扩散槽，所述扩散槽的底壁设有供气孔，所述气体分布台用于对膜材表面进行原子层沉积；扩散板，本实用新型提出的薄膜材料沉积反应装置能够提升膜材表面沉积的原子沉积膜的均匀性。
薄膜材料沉积反应装置系统

[实用新型]薄膜材料沉积反应装置和薄膜材料沉积反应系统-CN202020673236.2有效
发明人：李哲峰;张光海 -专利权人：深圳市原速光电科技有限公司
申请日： 2020-04-27 - 公布日： 2020-12-04 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型公开一种薄膜材料沉积反应装置，应用于薄膜材料沉积反应系统，其中，所述薄膜材料沉积反应装置包括：气体分布台，设有扩散槽，所述扩散槽的底壁设有供气孔，所述扩散槽的内壁设有限位凸台，所述气体分布台用于对膜材表面进行原子层沉积本实用新型提出的薄膜材料沉积反应装置能够提升膜材表面沉积的原子沉积膜的均匀性。
薄膜材料沉积反应装置系统

[发明专利]含能复合防护结构的设计方法及防护结构-CN202310524205.9在审
发明人：刘健峰;连志颖;秦志强;胡兆颖;姜鹏飞;闫瑢 -专利权人：中国人民解放军火箭军工程设计研究院
申请日： 2023-05-10 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： G16C60/00 文献下载
摘要：本发明提供一种含能复合防护结构的设计方法及防护结构，设计方法包括如下步骤：依据聚能射流侵彻机理确定射流侵彻速度变化率ù；依据反应材料抗侵彻性能的反应机理确定反应材料的反应灵敏度g；判断侵彻过程的速度变化率ù与反应材料的反应灵敏度g的相对大小确定反应材料的防护效率；依据反应材料的防护效率设计防护结构。防护结构包括依次设置有防护层壳体、反应材料壳体、反应材料层；反应材料层采用模块化设计。本发明的优势在于：可充分利用反应材料在强冲击作用下的剧烈化学反应释能对聚能射流的侵彻起到干扰作用，通过改进反应材料配方、添加反应材料约束壳体等手段进一步提高反应材料对聚能射流的防护效率。
复合防护结构设计方法

[发明专利]通过预反应样品的留存进行放热反应分析-CN201680068323.1在审
发明人：达伦·R·伯吉斯;迈克尔·雷蒙德·格林沃尔德;布伦特·W·巴比 -专利权人：友邦控股有限公司;达伦·R·伯吉斯;迈克尔·雷蒙德·格林沃尔德;布伦特·W·巴比
申请日： 2016-12-22 - 公布日： 2018-08-28 - 主分类号： C01B3/16 文献下载
摘要：在放热反应反应堆内发生的反应过程通过将反应中至少一种材料的变化与未反应的材料样品进行比较来研究。在反应之前，将材料的样品或“试样”移除并保留。材料的试样从反应堆中截留。将材料置于反应堆中并且触发并维持至少一个放热反应。放热反应后，将材料从反应堆中移除。然后分析材料和试样，以确定样品未发生的材料变化。这些变化表明反应堆中发生的过程。
反应堆放热反应移除材料变化材料样品分析材料预反应触发截留保留分析研究

[发明专利]一种常山酮氢溴酸盐及其类似物的合成方法-CN202310879272.2在审
发明人：谭应文 -专利权人：南京惠牧生物科技有限公司
申请日： 2023-07-18 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： C07D401/06 文献下载
摘要：本发明属于化工合成技术领域，尤其是一种常山酮氢溴酸盐及其类似物的合成方法，针对现有的生产要求高，影响生产成本的问题，现提出如下方案，其常山酮氢溴酸盐的制备材料包括第一反应材料、第二反应材料、第三反应材料、第四反应材料、第五反应材料、第六反应材料、第七反应材料和第八反应材料；第一反应材料包括盐酸盐、碱材、碱金属的卤化、烯丙基溴和反应溶剂；第二反应材料包括碱材、惰性有机溶剂和冯布劳恩反应材料；第三反应材料包括溶解溶剂和还原剂
一种常山氢溴酸及其类似物合成方法

[发明专利]用于便携式电子装置供电的改质器-CN200680017014.8无效
发明人：山本忠夫;宫本直知;盐谷雅治 -专利权人：卡西欧计算机株式会社
申请日： 2006-09-07 - 公布日： 2008-05-07 - 主分类号： B01J19/00 文献下载
摘要：一种反应器包括高温反应单元，其引起第一反应材料反应，以产生第二反应材料和制品，以及低温反应单元，其在低于高温反应单元中温度的温度下引起第二反应材料反应。连接管置于高温反应单元和低温反应单元之间，并且将第一反应材料和由反应材料产生的制品传输于高温反应单元和低温反应单元之间。外部流动管在其在一端结合至低温反应单元。外部流动管具有多个流动路径，其中包括用于经过低温反应单元将第一反应材料供应至高温反应单元的流动路径以及用于经过低温反应单元从高温反应单元排放制品的流动路径。
用于便携式电子装置供电改质器

[发明专利]封装的反应性材料及其制造方法-CN201110147359.8有效
发明人： S.W.乔根森;M.P.萨利克 -专利权人：通用汽车环球科技运作有限责任公司
申请日： 2011-06-02 - 公布日： 2012-02-15 - 主分类号： C01B3/06 文献下载
摘要：本发明涉及封装的反应性材料及其制备方法，所述封装的反应性材料包括反应性材料和包围着该反应性材料表面的惰性涂覆材料，该反应性材料被配置来在曝露于预定气体时增大尺寸。该惰性涂覆材料被配置来允许该预定气体扩散通过到该反应性材料，并且具有这样的伸长率，该伸长率将不容纳处于该预定气体完全饱和状态时的该反应性材料的膨胀。
封装反应材料及其制造方法

[发明专利]定点显示设备-CN201380042497.7有效
发明人：白成颢;元智渊 -专利权人：东友精细化工有限公司
申请日： 2013-08-22 - 公布日： 2017-12-29 - 主分类号： G06F3/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种包括紫外反应单元和紫外光源的定点显示设备。紫外反应单元包括紫外反应材料层，紫外反应材料层含有紫外反应材料，紫外反应材料通过紫外线引起颜色变化；以及基板部分，基板部分具有作为涂层的紫外反应材料层。紫外光源能够发射紫外激光。
定点显示设备

[发明专利]用于反应冶金连接的反应材料预置-CN201510396567.X有效
发明人： J.G.施罗思;T.A.佩里 -专利权人：通用汽车环球科技运作有限责任公司
申请日： 2015-07-08 - 公布日： 2018-12-11 - 主分类号： B23K9/23 文献下载
摘要：本发明涉及用于反应冶金连接的反应材料预置。一种将反应材料预置到金属工件基体的表面上的方法，其涉及使用振荡丝电弧焊接。所述方法涉及沉积且粘附来自于可消耗电焊条的反应材料。通过这样做，能够在所述金属工件基体已经准备好通过反应冶金连接来连接之前的任意时间来沉积反应材料，并且能够更容易控制反应材料沉积物的尺寸和形状。
用于反应冶金连接材料预置

[发明专利]负极材料制备装置及负极材料制备方法-CN202211071024.7在审
发明人：李光俊 -专利权人：深圳市美格真空科技有限公司
申请日： 2022-09-02 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： H01M4/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种负极材料制备装置及负极材料制备方法，负极材料制备装置包括反应罐、冷却罐与输送机构，反应罐包括第一罐体、反应坩埚与发热件，反应坩埚的内部设有反应腔，冷却罐包括第二罐体，第二罐体的内部具有冷却腔，输送机构将在反应腔内降温至预设温度的负极材料输送至冷却腔内再次降温；负极材料制备方法上述制备装置执行。通过组合使用反应罐与冷却罐，负极材料在反应腔内反应完成后，首先在反应腔进行降温，由于负极材料的初始温度较高，降温快，在负极材料降温至预设的温度后，负极材料输送至冷却腔内再次降温，使负极材料脱离反应腔内的高温环境，在冷却腔内的降温速度更快，能够提高负极材料的制备效率。
负极材料制备装置方法

[发明专利]反应腔室的清洗方法及半导体工艺方法-CN202210309917.4在审
发明人：郭宇峰 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2022-03-28 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本申请实施例涉及一种反应腔室的清洗方法及半导体工艺方法。该清洗方法用于对反应腔室进行清洗，反应腔室的内壁形成有碳材料层，碳材料层的表面附着有介质材料层，所述清洗方法包括：于反应腔室内通入清洗气体，清洗气体、碳材料层及介质材料层反应形成挥发性产物，以去除介质材料层通过在反应腔室的内壁形成有碳材料层，以及向反应腔室内通入可与碳材料层、介质材料层形成挥发性产物的清洗气体，使得吸附在碳材料层表面的介质材料层被去除掉，从而达到消除反应腔室内壁上的介质材料层掉落到反应腔室内形成颗粒沾污的目的
反应清洗方法半导体工艺

[发明专利]一种组合材料芯片及芯片支架-CN201810099711.7有效
发明人：向勇;张晓晴;史家远;张晓琨 -专利权人：电子科技大学
申请日： 2018-02-01 - 公布日： 2020-08-28 - 主分类号： B01L3/00 文献下载
摘要：本发明属于材料基因组合材料芯片设计及气固两相催化反应领域，具体涉及一种组合材料芯片及芯片支架，适用于气固两相催化反应及其所对应的活性评价体系反应器。本发明通过对组合材料芯片的结构进行打孔设计，在反应气体与活性材料更加充分接触的基础上，减小了反应器的内部气阻，提升了反应体系的安全系数，使其更加适用于气固两相反应过程。并针对固定床反应器的反应腔体设计了组合材料芯片支架，实现对组合材料芯片位置的固定，该支架能够保证材料芯片在反应器中处于垂直状态；让反应气体正面与芯片上的活性组分充分接触的同时，及时排出反应产物降低逆反应发生概率，从而提高催化材料活性的高通量评价精度。
一种组合材料芯片支架

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