专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种高分子材料管制备定型装置-CN202022803031.4有效
  • 赵志兴;吴才芳;李世建 - 云南海午科技有限公司
  • 2020-11-28 - 2021-08-06 - B29C48/09
  • 本实用新型公开了一种高分子材料管制备定型装置,包括搅拌桶,所述搅拌桶的顶部设置有进料斗,所述搅拌桶的内部设置有搅拌器,所述搅拌器的底部设置有搅拌电机,所述搅拌器的正上方设置有过滤网,所述搅拌桶的右侧设置有输送,所述输送内部设置有螺旋杆,所述输送的右端设置有挤压机,所述挤压机的右侧设置有成型装置,所述成型装置的顶部设置有盖板。本实用新型的一种高分子材料管制备定型装置,加热管在搅拌原料过程中,通过水热方式对原料进行加热保温,保持原料的流动性,排气口可以将原料内部混入的空气排放到外部,减少原料内部的气泡,提高成品管材的耐用性,冷凝翅片可迅速将高分子材料管冷却定型
  • 一种高分子材料制备定型装置
  • [实用新型]一种循环冷却水管路-CN202123275821.0有效
  • 马涛 - 钰珵科技发展(营口)有限公司
  • 2021-12-23 - 2022-09-30 - F25D17/02
  • 本实用新型提供一种循环冷却水管路,涉及一种冷却设备技术领域。该实用新型包括水箱、冷却水箱和用水设备,其中,还包括循环冷却箱,循环冷却箱包括第一循环冷却箱和第二循环冷却箱,冷却水箱包括第一冷却水箱、第二冷却水箱和第三冷却水箱,水箱的右端设置有输送输送包括第一输送、第二输送和第三输送,水箱分别通过第一输送、第二输送、第三输送与储水箱连通,储水箱通过水管路依次与第一循环冷却箱、第二循环冷却箱连通。本实用新型设置有三组并列结构的输送,并且针对每组输送均设置有相应的冷却水箱,使得水箱能够同时通过三组管路对水流进行冷却,进而保证了水箱对用水设备的冷却水供应。
  • 一种循环冷却水管路
  • [实用新型]一种液体用多工位计量供料装置-CN202221738815.6有效
  • 李登攀;赵钦帅 - 思念食品有限公司
  • 2022-07-07 - 2022-12-23 - F17D1/08
  • 本实用新型公开了一种液体用多工位计量供料装置,包括定量供料机,所述定量供料机设置在定量供料机支架的上方,原料斗设置在所述定量供料机支架的前方并与所述定量供料机连通,供料阀门及支架与输送连通,所述输送安装在输送支架上并同时与所述定量供料机连通,所述输送支架和供料阀门及支架均通过膨胀螺栓固定在地面上。本实用新型通过单台供料机可实现对多工位计量进行供料,而且还可以生产工况的需求选择供料工位数量,既可以单工位计量供料又可以双工位或者多工位计量供料,而且采用PLC控制系统控制供料量,操作简单,可随时调节,使用灵活,供料管路简单
  • 一种液体用多工位计量供料装置
  • [实用新型]一种循环工业水管路除垢装置-CN201720158600.X有效
  • 邓顺勇;王巍;杜中平;雷会斌;韦西云;白小强;郭军波 - 大唐韩城第二发电有限责任公司
  • 2017-02-22 - 2017-11-03 - B08B3/12
  • 本实用新型提供了一种循环工业水管路除垢装置,包括输送,用于输送循环水;超声装置,安装在所述输送上,包括插入所述输送内的换能器,和焊接在所述输送上的超声振子,以及分别与所述换能器和超声振子连接的电源装置本实用新型将换能器插入输送内而利用水流进行做功以产生电流,然后通过线路传输给电源装置,电源装置将自身的电力及换能器产生的电力传递给超声振子,超声振子再对输送内部发送超声波,超声波利用强声场处理输送内的流体,使原来沉积在输送内的垢内部产生大量的空洞,垢的结构从致密变得疏松直至脱落、并逐渐消失。
  • 一种循环工业水管除垢装置
  • [发明专利]曝光设备及具有该设备的光刻系统-CN201811221429.8在审
  • 不公告发明人 - 长鑫存储技术有限公司
  • 2018-10-19 - 2020-04-28 - G03F7/20
  • 曝光设备包括多个曝光机、多个XCDA气体纯化器、多根主输送、支援输送、多个控制阀组以及控制机构。多个XCDA气体纯化器与多个曝光机一一对应。多根主输送分别连通于各对曝光机和XCDA气体纯化器之间。支援输送分别连通于多根主输送,支援输送具有多根分支管路,并通过多根分支管路分别连通于多根主输送。多个控制阀组分别设于多根主输送,控制阀组被配置为可调节地连通主输送与分支管路
  • 曝光设备具有光刻系统

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