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[发明专利]提高铝合金焊接接头疲劳强度的电化学抛光系统-CN201510287813.8有效
发明人：付宁宁;朱伟;夏宁;王红波;丁洁琼;张玉娟 -专利权人：南京南车浦镇城轨车辆有限责任公司
申请日： 2015-05-29 - 公布日： 2015-08-19 - 主分类号： C25F3/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种提高铝合金焊接接头疲劳强度的电化学抛光系统，包括：可更换的抛光头、高压气体装置、陶瓷喷丸存储装置、电化学抛光液存储装置、和智能化电化学抛光控制装置；高压气体装置、陶瓷喷丸存储装置、电化学抛光液存储装置、智能化电化学抛光控制装置均与抛光头相连；智能化电化学抛光控制装置内置专家数据库，专家数据库中包含各种推荐电化学抛光工艺参数；陶瓷喷丸存储装置，内储存有粒径为50um~80um的超细陶瓷丸粒；电化学抛光液存储装置内存贮有电化学抛光液通过本系统对工件抛光，从而提高金属结构件的抗疲劳、抗腐蚀能力。
提高铝合金焊接接头疲劳强度电化学抛光系统

[实用新型]高精度CMP不锈钢抛光装置-CN201721893554.4有效
发明人：吕鸿图 -专利权人：昆山纳诺新材料科技有限公司
申请日： 2017-12-21 - 公布日： 2018-08-07 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了高精度CMP不锈钢抛光装置，包括机械抛光室和化学抛光室，机械抛光室和化学抛光室之间设置有工作传输轨道，工作传输轨道起始段设置有传输电机，机械抛光室内部设置有抛光轮，机械抛光室末端外侧设置有吸尘设备，化学抛光室上方安装有化学抛光液储存罐和蒸馏水储存罐，化学抛光液储存罐和蒸馏水储存罐下方均设置有液体喷头，化学抛光液储存罐以及蒸馏水储存罐与液体喷头之间通过管道相连接，化学抛光室底部设置有废弃抛光液存放池化学抛光液储存罐和蒸馏水储存罐均设置有调节阀门，以此来调节化学抛光液的浓度，液体喷头也设置有喷速调节器，从而改变化学抛光液的抛光时间，从双方面提升了化学抛光的精度。
化学抛光液化学抛光蒸馏水储存罐机械抛光储存罐液体喷头不锈钢抛光传输轨道本实用新型调节器传输电机外侧设置吸尘设备抛光存放池抛光轮抛光液起始段室内部阀门废弃

[发明专利]硅片加工装置及方法-CN201310432624.6在审
发明人：王坚;贾照伟;王晖 -专利权人：盛美半导体设备(上海)有限公司
申请日： 2013-09-22 - 公布日： 2015-03-25 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明揭示了一种硅片加工装置，包括机台，该机台内配置有两套或两套以上电化学抛光装置，每套电化学抛光装置包括：抛光液槽，抛光液槽储存抛光液；及抛光腔室，抛光腔室内设置有喷嘴，喷嘴与抛光液槽之间经由抛光液供应管道连接；各套电化学抛光装置的抛光液槽内储存相同或不同的抛光液。本发明还揭示了一种硅片加工方法，包括使硅片依次在机台的各电化学抛光装置内进行电化学抛光处理，其中各电化学抛光装置内配置相同或不同的抛光液。本发明根据加工需求，在机台内配置数套电化学抛光装置，提高了机台加工效率。
硅片加工装置方法

[发明专利]一种支架的电化学抛光装置和抛光方法-CN201510821195.0在审
发明人：程兴宝;向勇刚;包红峰;张林飞;罗永春 -专利权人：常州乐奥医疗科技有限公司
申请日： 2015-11-24 - 公布日： 2016-03-09 - 主分类号： C25F3/16 文献下载
摘要：本发明提供了一种支架的电化学抛光装置和抛光方法，主要适用于医用金属支架的电化学抛光。该支架电化学抛光装置的特征：该装置包含金属阳极、圆筒状结构金属阴极及电化学抛光槽等，进行电化学抛光时，可使电流均匀分配到支架的各个部位。该装置适用于金属支架的电化学抛光，例如镍钛合金支架、钴铬合金支架、不锈钢合金支架及钛合金支架等。用于改善支架内表面在电化学抛光时出现的凹坑、凸起及不光亮现象，提高支架内表面电化学抛光效果，使支架的内表面与外表面都能达到良好的镜面效果。本发明亦能改善支架头端去除量大的问题，提高支架抛光的均匀性，使支架获得光滑光亮的金属表面。
一种支架电化学抛光装置方法

[其他]复合滚筒抛光加工方法及其装置-CN86106247无效
发明人：小林久峰 -专利权人：狄普敦股份有限公司
申请日： 1986-08-01 - 公布日： 1988-02-10 - 主分类号： B24B29/00 文献下载
摘要：本发明是复合滚筒抛光加工的方法和装置，该加工方法是用电解液或化学抛光液对工件进行化学抛光加工；接着对该工件进行滚筒抛光加工其装置由化学抛光加工装置滚筒抛光加工装置及上述各装置间的操作与输送装置构成。
复合滚筒抛光加工方法及其装置

[发明专利]用于GaAs晶片的化学抛光溶液和化学抛光方法-CN200910001587.7无效
发明人：谭开燮;古燕;王元立 -专利权人： AXT公司
申请日： 2009-01-15 - 公布日： 2010-07-21 - 主分类号： C09G1/18 文献下载
摘要：本发明涉及用于GaAs晶片的化学抛光溶液和化学抛光方法。本发明的用于GaAs晶片化学抛光的化学抛光溶液，除水以外，其组成是二氯代异氰尿酸盐、磺酸盐、酸式焦磷酸盐、碳酸氢盐和碳酸盐。本发明的化学抛光方法，包括在化学抛光设备中，在所述抛光溶液存在下对晶片实施化学抛光。采用本发明的溶液和方法可以提高晶片质量、降低成本并能够降低对环境的污染。
用于 gaas 晶片化学抛光溶液方法

[发明专利]一种电极箔及其金相的电化学抛光装置及方法-CN202010660875.X在审
发明人：陈健;李英;黄耀;何桂丽 -专利权人：四川中雅科技有限公司;南通海星电子股份有限公司;南通海一电子有限公司
申请日： 2020-07-10 - 公布日： 2020-10-09 - 主分类号： C25F7/00 文献下载
摘要：本发明提供一种电极箔及其金相的电化学抛光装置，包括：压力容器、阳电极、阴电极，压力容器的顶部安装有可开合的密封端盖，压力容器内部安装有电极箔固定装置，电极箔固定装置与阳电极相连并进行悬挂固定，还包括：电化学抛光液循环装置、清洗装置、干燥装置，电化学抛光液循环装置与压力容器相连，电化学抛光液循环装置能够将电化学抛光液注入压力容器内并进行回收，清洗装置能够在电化学抛光后对压力容器的内壁、电极箔及其金相进行清洗，所述干燥装置通过加热盘管及排气系统将电极箔或其金相进行干燥，利用该装置对电极箔及其金相进行电化学抛光后的样品可直接用扫描电镜或金相显微镜观测，简化制样流程。
一种电极及其金相电化学抛光装置方法

[发明专利]一种教学用电化学抛光装置-CN201910020365.3在审
发明人：杨皓然 -专利权人：杨皓然
申请日： 2019-01-09 - 公布日： 2019-04-09 - 主分类号： C25F7/00 文献下载
摘要：本发明属于金属表面处理技术领域，涉及到一种教学用电化学抛光装置。目前各种电化学抛光装置大多结构复杂，安全防护要求高，需要专业人员进行操作。本发明的一种教学电化学抛光装置克服了这些缺点，该装置包含直流电化学抛光电源、恒温水浴锅、电解液抛光槽、抛光零件挂架。该电化学直流电源可以把220V单相交流电转换成电化学抛光直流电输出，根据被抛光材料的面积调整输出电压，电解液抛光槽放置于恒温水浴锅内，在抛光槽横截面短轴方向安装抛光零件挂架。本发明的一种教学电化学抛光装置，针对面积小于45mmX45mm、薄片状单体零件，结构简单、使用方便、造价低廉，安全性高且抛光时间短，抛光零件表面粗糙度低。
电化学抛光装置抛光零件化学抛光装置电解液抛光恒温水浴锅教学用电挂架金属表面处理技术直流电被抛光材料表面粗糙度单相交流电电化学抛光横截面短轴直流电化学电化学安全防护单体零件面积调整抛光电源输出电压直流电源抛光薄片状抛光槽教学输出转换

[发明专利]一种电化学抛光冷却循环装置及其应用-CN201810114075.0在审
发明人：夏金成;陆玲;邓辉;周国山;陈慧娟;蔡渊 -专利权人：苏州新材料研究所有限公司
申请日： 2018-02-05 - 公布日： 2018-07-17 - 主分类号： C25F7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种电化学抛光冷却循环装置，其特征在于，包括循环机、回流管路，所述回流管路一端与循环机相连，另一端可置于抛光液中，所述循环机通过回流管路控制抛光液温度。并进一步公开了该电化学抛光冷却循环装置在制备高温超导带材基带的电化学抛光工艺的应用。该工艺能维持电化学抛光过程中抛光液温度的稳定性，进而维持电压和各项参数的稳定性，提高电化学抛光生产工艺的稳定性。
电化学抛光冷却循环装置回流管路抛光液循环机电化学抛光工艺高温超导带材维持电压基带生产工艺制备应用

[发明专利]化学抛光试剂及其制备方法和应用-CN202211564427.5在审
发明人：彭晓林;汪陈;丁雄风;王世军 -专利权人：维达力科技股份有限公司
申请日： 2022-12-07 - 公布日： 2023-07-04 - 主分类号： C03C15/02 文献下载
摘要：本申请涉及一种化学抛光试剂及其制备方法和应用。该化学抛光试剂包括如下质量份数的各组份：0.8份～15份的碱性试剂、0.05份～0.5份的表面活性剂以及83.5份～99.05份的多元醇溶剂。上述化学抛光试剂中使用多元醇类有机溶剂，使用该化学抛光试剂对玻璃进行消除微裂纹加工时，可使化学抛光的反应体系温度更高，增强化学抛光试剂对产品的抛光能力，在升温过程中，多元醇与碱性试剂发生反应，生成有机碱有机碱能够提升化学抛光试剂对玻璃的腐蚀性，从而对玻璃实现较好的化学抛光效果，消除微裂纹以增强玻璃的强度。
化学抛光试剂及其制备方法应用

[发明专利]一种锑化铟晶片化学抛光方法-CN201510014588.0有效
发明人：赵超;程鹏 -专利权人：中国电子科技集团公司第十一研究所
申请日： 2015-01-12 - 公布日： 2017-08-08 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本发明提出了一种锑化铟晶片化学抛光方法。其中，机械化学抛光完成后，将粘结有锑化铟晶片的抛光盘倒置于盛有0.005％～10％的溴甲醇化学抛光液的抛光槽内，使得所述锑化铟晶片的表面朝向所述抛光槽的底部并且所述锑化铟晶片浸没于所述溴甲醇化学抛光液中，以进行化学抛光。采用这种化学抛光方法可以明显降低锑化铟晶片表面的粗糙度，去除表面的损伤，提高晶片表面的平滑度。
一种锑化铟晶片化学抛光方法

[发明专利]一种金属及其合金电化学抛光的装置及方法-CN201710717016.8有效
发明人：陈艳文;黄健;陈小真;周正荣;明芳望;曾达;林志雄 -专利权人：大博医疗科技股份有限公司
申请日： 2017-08-21 - 公布日： 2019-11-12 - 主分类号： C25F7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种金属及其合金电化学抛光的装置及方法，该装置包括载液槽体、电参数加载系统、流体输送系统和循环冷却系统，所述载液槽体，用于容纳电化学抛光液和待抛光的金属及其合金；所述电参数加载系统，用于为电化学抛光提供阴极、阳极和电源，所述阳极通过导体连接所述待抛光的金属及其合金；所述流体输送系统，用于将电化学抛光液输送到所述载液槽体内；所述循环冷却系统，用于控制所述载液槽体内的电化学抛光液的温度；本发明的抛光方法为通过上述装置对金属及其合金进行电化学抛光处理本发明能有效解决现有的抛光设备抛光效果差、抛光效率低、不同批次产品的一致性及重复性较差、不能实现大型及批量性生产的问题。
抛光电化学抛光液金属合金流体输送系统循环冷却系统电化学抛光合金电化学阳极加载系统电参数液槽体内阴极导体连接抛光设备抛光效果抛光效率批次产品有效解决批量性液槽体槽体载液电源容纳生产

[实用新型]一种旋转滚动电化学抛光装置-CN202321674803.6有效
发明人：蔡蒙;蒋飞;欧志龙 -专利权人：常州英诺激光科技有限公司
申请日： 2023-06-28 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： C25F7/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及微创介入医用金属支架领域，具体涉及一种旋转滚动电化学抛光装置，本装置包括：电化学抛光槽，放置在磁力搅拌器上；阴极管，呈圆筒状且设置在电化学抛光槽内，其与一直流电源的负极相连；升降机构，可拆卸安装在电化学抛光槽的上方；旋转机构，滑动设置在升降机构上，其朝向电化学抛光槽的一端固定有待抛光支架；阳极组件，设置在旋转机构上，与所述直流电源的正极相连，且与待抛光支架导通。本旋转滚动电化学抛光装置可以加快位于阳极的待抛光支架表面已附着的粘膜、生成的氧化膜的溶解和扩散，使待抛光支架能完全暴露于抛光液中，有效改善待抛光支架的表面质量。
一种旋转滚动电化学抛光装置

[发明专利]化学抛光装置及其方法-CN202110760223.8有效
发明人：潘峰;赵玉国;赵永进;王文丽;陈威;薛书亮;张博 -专利权人：北京半导体专用设备研究所（中国电子科技集团公司第四十五研究所）
申请日： 2021-07-06 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：一种化学抛光装置及其方法，涉及半导体材料制造加工领域。该化学抛光装置包括抛光垫、抛光支撑件、抛光驱动器、抛光适应器和抛光压力器；抛光垫的第一面固定连接在抛光支撑件的一面，抛光垫的第二面与抛光适应器抵接或者间隔设置；抛光驱动器能够驱使抛光支撑件转动；抛光适应器内设置有一个或者多个用于固定基材的抛光压力器，抛光压力器被配置为令基材紧贴抛光垫的第二面；抛光适应器内设置有用于输送抛光液至抛光垫的抛光液通道结构。所述化学抛光方法适用于化学抛光装置。本发明的目的在于提供一种化学抛光装置及其方法，以在一定程度上解决现有技术中存在的半导体基材表面精加工时间长、速度慢的技术问题。
化学抛光装置及其方法

[发明专利]一种化学抛光液及化学抛光工艺-CN201810137423.6有效
发明人：徐艳春;唐明松 -专利权人：深圳市祥盛兴科技有限公司
申请日： 2018-02-10 - 公布日： 2019-03-22 - 主分类号： C23F3/06 文献下载
摘要：本发明属于铜材抛光技术领域，具体涉及一种化学抛光液及化学抛光工艺。本发明提供的化学抛光液，包括以下组分及其质量浓度：密度为1.84g/cm³的硫酸30～45mL·L^‑1，双氧水200～350mL·L^‑1本发明提供的化学抛光液不含硝酸、磷酸，无毒、无污染。使用本发明的化学抛光液对金属表面进行化学抛光得到的化学抛光面光亮度高、表面平整，可达到镜面抛光效果。另外，本发明提供的化学抛光工艺的工艺流程简单，操作方便。
化学抛光液化学抛光工艺化学抛光双氧水抛光技术领域双氧水稳定剂表面活性剂表面平整金属表面镜面抛光工艺流程络合剂硝酸磷酸铁盐铜材硫酸无毒

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