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[发明专利]全息数据存储方法和由该方法得到的数据存储寿命延长的制品-CN200680053344.2无效
发明人：克里斯托夫·G·厄尔本;尤金·P·博登 -专利权人：通用电气公司
申请日： 2006-12-21 - 公布日： 2009-08-05 - 主分类号： G03B31/00 文献下载
摘要：该方法包括：提供光学透明基底，该光学透明基底包含光化学活性染料和单重态氧生成剂；利用全息干涉图案照射该光学透明基底，其中该图案具有第一波长和强度，所述第一波长和强度足以在该基底的体积元素内将光化学活性染料的至少一些转化为光产物，并在被照射的体积元素内产生相应于该全息干涉图案的光产物的浓度变化，从而产生相应于该体积元素的光学可读数据；以及活化该光学透明基底，从而生成单重态氧以稳定光学可读数据。
全息数据存储方法得到寿命延长制品

[发明专利]一种用于CMP的光学测量装置和化学机械抛光设备-CN202310820151.0在审
发明人：窦华成;田芳馨;王同庆 -专利权人：华海清科股份有限公司
申请日： 2023-07-06 - 公布日： 2023-09-29 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于CMP的光学测量装置和化学机械抛光设备，所述光学测量装置包括：在线光学测量组件和参考光学测量组件，所述在线光学测量组件包括用于测量晶圆的非金属膜厚的第一光学传感器和第一窗口，所述参考光学测量组件包括用于获得校准光强的第二光学传感器
一种用于 cmp 光学测量装置化学机械抛光设备

[发明专利]检验光学镜片清洁度的装置及方法-CN200610157067.1无效
发明人：董才士 -专利权人：鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
申请日： 2006-11-24 - 公布日： 2008-06-04 - 主分类号： G01N21/94 文献下载
摘要：本发明提供一种检验光学镜片清洁度的装置，该检验光学镜片清洁度的装置包括光源和水蒸发装置，该水蒸发装置具有一蒸发口，该蒸发口蒸发出的水蒸气用于在光学镜片的表面形成水膜。本发明还提供一种检验光学镜片清洁度的方法，其包括以下步骤：将待检验光学镜片放置于一个水蒸发装置的蒸发口处，使水蒸发装置的水蒸气蒸发到光学镜片的表面，在光学镜片的表面形成水膜；打开一个光源，使光源照射至表面形成有水膜的光学镜片，检测该光学镜片表面的水膜是否均匀，如果均匀则说明光学镜片表面无化学物质，如果不均匀则说明光学镜片表面残留有化学物质。这样可以避免因光学镜片的不干净而影响到整个镜头模组的品质。
检验光学镜片清洁装置方法

[发明专利]光学元件、用于制造该元件的方法以及具有该元件的光电部件-CN200880105671.7有效
发明人： G·克劳特;T·皮聪卡 -专利权人：奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司
申请日： 2008-08-14 - 公布日： 2010-08-04 - 主分类号： G02B1/12 文献下载
摘要：提供了一种具有一定形状的光学元件，所述光学元件包括固化树脂，所述固化树脂具有经过化学改良的减少附着的表面层。
光学元件用于制造方法以及具有光电部件

[发明专利]电池枝晶生长过程原位成像的方法-CN202111150153.0在审
发明人：郝瑞;叶贤其;李国鹏;毛嘉欣;徐东伟;陈厚凯 -专利权人：南方科技大学
申请日： 2021-09-29 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： H01M10/42 文献下载
摘要：本发明提供一种电池枝晶生长过程原位成像的方法，包括以下步骤：提供可用于光学显微镜观察的电化学反应池，模拟电池电化学反应；采用光学显微镜对准电化学反应池，调入射角度，使光在枝晶生长界面发生全反射，调整发光波长、发光功率，优化图像；在设定电流密度下对电化学反应池进行充放电，在充放电时间内，使用与光学显微镜连接的相机进行连续曝光，获得时序图像；以设定时间间隔的早期图像作为背景，利用图像扣减算法进行背景扣减获取生长位点时序图像
电池生长过程原位成像方法

[发明专利]一种电化学原位光谱电解池及应用-CN201810485137.9有效
发明人：刘国坤;邹义松;苏建加;张玉龙;卢江龙;郑红;田中群 -专利权人：厦门大学
申请日： 2018-05-18 - 公布日： 2020-04-03 - 主分类号： G01N27/28 文献下载
摘要：本发明公开了一种电化学原位光谱电解池及其应用，包括一电解池本体，该电解池本体包括一进液口、一出液口和一光学检测窗，该进液口和出液口设于电解池本体的相对的二侧壁，该进液口连通流动注射装置或微流控装置，该光学检测窗设于电解池本体的上部本发明的电化学原位光谱电解池具有能适应合适的光谱波长范围、较高的光学灵敏度、可适用于各类溶剂、较小的池时间常数、易填充清洗且兼具电化学法样品前处理和废水处理等特点，解决了现有电化学原位光谱检测装置的技术缺陷
一种电化学原位光谱电解池应用

[发明专利]用于检测体液中分析物的方法和系统-CN201480033077.7在审
发明人： K.A.鲍尔-埃斯平多拉;C.霍恩;M.马宽特;C.诺特迈耶;V.昂克里希 -专利权人：豪夫迈·罗氏有限公司
申请日： 2014-02-24 - 公布日： 2016-02-03 - 主分类号： G01N21/84 文献下载
摘要：该方法包括以下步骤：a）执行光学测量，其中，至少一个测试化学品（120）与体液（112）接触，其中所述测试化学品（120）是光学测试化学品（120）并适于在分析物存在的情况下执行至少一个检测反应，其中体液（112）和测试化学品（120）中至少一个的至少一个光学可检测属性由于检测反应而被改变，其中生成至少一个光学测量值；b）执行至少一个阻抗测量，其中至少两个阻抗测量电极（130）被使用，其中至少一个交变电信号经由阻抗测量电极(130)而被施加到体液（112）并且其中至少一个应答信号被记录，其中生成至少一个阻抗测量值；c）执行至少一个评估步骤，其中，在所述评估步骤中，至少一个评估算法被使用，其中，所述光学测量值和所述阻抗测量值被用于确定体液
用于检测体液分析方法系统

[发明专利]一种光学玻璃镀膜方法-CN202210764496.4在审
发明人：汪洋;黄军;周慧;李文 -专利权人：深圳市楠轩光电科技有限公司
申请日： 2022-06-30 - 公布日： 2022-10-18 - 主分类号： C03C17/245 文献下载
摘要：本发明涉及玻璃镀膜技术领域，具体涉及一种光学玻璃镀膜方法。所述方法采用激光诱导化学气相沉积法在光学玻璃的表面沉积氧化锡锑薄膜，包括以下步骤：1）光学玻璃的处理；2）采用光解激光诱导化学气相沉积法反应装置在步骤1）处理后的光学玻璃基板表面沉积氧化锡锑薄膜：光解激光诱导化学气相沉积法反应装置的激光光源采用紫外超短脉冲激光本发明的光学玻璃镀膜方法得到的镀有氧化锡锑薄膜光学玻璃光透过率高、电阻率低，光电性能好。
一种光学玻璃镀膜方法

[发明专利]多功能光学膜及其生产方法-CN201910972175.1有效
发明人：邵峥 -专利权人：宁波盈瑞聚合科技有限公司
申请日： 2019-10-14 - 公布日： 2021-08-17 - 主分类号： G02B1/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种多功能光学膜及其生产方法,多功能光学膜包括基板,以及在基板表面由内向外依次分布的减反射膜层、化学加硬膜层和物理加硬膜层；减反射膜层为多层减反射膜，包括从内至外依次分布的二氧化铈膜层、氧化铟锡膜层、氮化硅膜层和二氧化硅膜层；化学加硬膜层为以甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷为单体，与环氧树脂混合制成的耐磨膜层；物理加硬膜层为金刚石膜层。化学加硬膜层和物理加硬膜层用于提高光学膜表面的硬度，减反射膜层为四层结构，使用效果好，而且二氧化铈膜层使得光学膜具有较高的紫外吸收率以及良好的热稳定性，可以防止光学膜紫外老化，氧化铟锡膜层的设置使得减反射膜层具有导电性，从而得到功能多样的光学膜。
多功能光学及其生产方法

[发明专利]光学玻璃、光学预制件及光学元件-CN201810613385.7在审
发明人：赖德光 -专利权人：成都光明光电股份有限公司
申请日： 2018-06-14 - 公布日： 2019-12-24 - 主分类号： C03C3/247 文献下载
摘要：本发明提供一种具有优异的抗析晶性能和化学稳定性的光学玻璃，光学玻璃，组成以阳离子摩尔％计，含有：P
光学玻璃化学稳定性析晶氟磷酸盐光学玻璃光电领域阿贝数摩尔比阳离子阴离子折射率配比

[发明专利]一种光学涂料及其应用-CN200510006013.0有效
发明人：张金山;林际兵 -专利权人：上海飞凯光电材料有限公司
申请日： 2005-01-07 - 公布日： 2005-08-17 - 主分类号： C09D133/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种含氘的光学涂料，该涂料中含有一种或多种含氘的化学组分，含氘的化学组分的含量在100PPM至10％(重量)之间优选100PPM至10％(重量)之间；其中，含氘的化学组分的含氘量至少高于该化学组分的自然含氘量本发明还涉及所述含氘的光学涂料生产的光纤及光缆。本发明提供了到目前为止最简便可行的氘处理的方式，可达长期保护光纤及光缆不受氢损耗影响的目的。
一种光学涂料及其应用

[发明专利]在非平面的表面上产生导电结构的方法及其应用-CN01815517.0无效
发明人： F·威斯特;I·艾西尔 -专利权人：埃普科斯股份有限公司
申请日： 2001-08-17 - 公布日： 2003-11-12 - 主分类号： H05K3/10 文献下载
摘要：本发明涉及在非平面的表面(1)上产生导电结构的方法，具有以下的步骤：a)在所述表面(1)上以电化学方式沉积光学抗蚀剂层(2)；b)对部分的光学抗蚀剂层(2)进行曝光；c)通过显影去除部分的光学抗蚀剂层(2)；d)在所述表面(1)从光学抗蚀剂层(2)露出的部分沉积导电材料(3)。通过在非平面的表面上电化学地沉积光学抗蚀剂层可以达到非常均匀的层厚。
平面表面上产生导电结构方法及其应用

[发明专利]化合物硫磷汞锌和硫磷汞锌红外非线性光学晶体及制备方法和应用-CN202310230594.4在审
发明人：潘世烈;李俊杰;王宏善;王霖安;楚羽 -专利权人：中国科学院新疆理化技术研究所
申请日： 2023-03-11 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C30B29/46 文献下载
摘要：本发明涉及一种化合物硫磷汞锌和硫磷汞锌红外非线性光学晶体及制备方法和应用，该化合物的化学式为Zn2HgP2S8，分子量为649.79 g/mol，采用高温固相法合成；该晶体的化学式Zn2HgP2采用高温熔体自发结晶法、化学气相传输法、助熔剂法和坩埚下降法制备所述红外非线性光学晶体。本发明获得的硫磷汞锌红外非线性光学晶体可用于制作红外非线性光学器件，为光学、激光光刻和通讯领域提供一种重要的用途。
化合物硫磷汞锌红外非线性光学晶体制备方法应用

[发明专利]湿敏表面的化学机械抛光和为此的组合物-CN200780041666.X无效
发明人：李玉卓 -专利权人：圣劳伦斯纳米科技有限公司
申请日： 2007-11-07 - 公布日： 2009-09-16 - 主分类号： H01L21/461 文献下载
摘要：本发明涉及用于化学机械抛光(CMP-也称为化学机械平坦化)的组合物，所述化学机械抛光用于加工高级光学、光子或微电子设备，其中所述组合物为微乳液。
表面化学机械抛光为此组合

[发明专利]一种用于气密性封装的膨胀系数失配型光学元件的结构及制造方法-CN201810770213.0有效
发明人：温惟善 -专利权人：惠州市鸿业新型材料有限公司
申请日： 2018-07-13 - 公布日： 2020-12-22 - 主分类号： G02B7/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种用于气密性封装的膨胀系数失配型光学元件的结构，包括光学玻璃或光学晶体元件，所述光学元件采用石英玻璃和透镜中的任意一种，所述光学元件上局部单面设有掩膜部位，所述光学元件的四周设有化学粗化部位，且化学粗化部位的表面真空溅射钛层，所述镀钛层的上面有镀金层，所述光学元件的底部表面通过共晶焊或电镀金锡与金属方框形成软钎焊层，采用了将光学元件掩膜局部粗化，极化，真空溅射金属膜，然后在金属膜上局部电镀或熔接低温钎焊料的方法形成金属过渡层，然后通过低温钎焊的方法，将一些不能经过高温过程的特殊的晶体光窗，或者膨胀系数失配的光学元件和金属或金属化陶瓷结合形成气密性封装的目的。
一种用于气密性封装膨胀系数失配光学元件结构制造方法