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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

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B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[实用新型]匀气板-CN201120270200.0有效
发明人：郭锋 -专利权人：上海曙海太阳能有限公司
申请日： 2011-07-28 - 公布日： 2012-02-29 - 主分类号： H01L31/18 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种匀气板，包括相对的进气面和出气面，所述匀气板上设有气孔阵列，所述气孔阵列中的各个气孔均设于进气面与出气面之间，其中气孔一端连接进气面，另一端连接出气面，所述气孔包括相连的第一分部和第二分部，所述第一分部连接进气面，第一分部为等截面直孔，所述第二分部连接出气面，第二分部为锥孔，锥孔截面朝出气面方向增大。本实用新型涉及的匀气板的气孔经特殊锥孔设计，气体在经过气孔第二分部时得到发散，有助于进入电极盒内腔，能够使并联多个电极复合式设计的电极盒，取得良好的电极内和电极间膜厚均匀性。
匀气板

[实用新型]一种蚀刻系统多层进气喷淋头装置-CN202222176165.7有效
发明人：孙俊;冼健威 -专利权人：东莞市晟鼎精密仪器有限公司
申请日： 2022-08-16 - 公布日： 2023-01-06 - 主分类号： B05B1/14 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种蚀刻系统多层进气喷淋头装置，用于真空等离子蚀刻系统，包括进气板、第一匀气板、第二匀气板与工艺腔体，进气板安装在工艺腔体上，第二匀气板安装在进气板的中部，第一匀气板安装在第二匀气板内，进气板的中部分布有六个进气口，第一匀气板上等距分布有若干第一匀气孔，第二匀气板上等距分布有若干第二匀气孔，若干第一匀气孔与若干第二匀气孔错位分布，进气速度快，分流速度快，且安装灵活，拆卸方便。
一种蚀刻系统多层喷淋装置

[实用新型]一种设有匀气板装置的管式低频PECVD装置-CN201521028415.6有效
发明人：陈文浩;刘仁中;张斌 -专利权人：奥特斯维能源（太仓）有限公司
申请日： 2015-12-11 - 公布日： 2016-10-19 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种设有匀气板装置的管式低频PECVD装置，包括炉管、进气口、匀气板、炉门、控制匀气板与炉门同时开启和关闭的中控单元，所述的匀气板上设有匀气孔，所述中控单元与匀气板和炉门分别连接，所述匀气板设置在炉管的进气端通过在炉管的进气端设置匀气板，使得进入炉管的反应气体在到达反应区域之前被匀气板打散并混合均匀，从而改善了等离子体分布，可有效提高镀膜均匀性，同时装置简单，改造成本不高。
一种设有匀气板装置低频 pecvd

[实用新型]匀气装置-CN201822005976.4有效
发明人：云洋 -专利权人：深圳奥拦科技有限责任公司
申请日： 2018-11-30 - 公布日： 2019-10-11 - 主分类号： B05C5/00 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种匀气装置，安装于镀膜系统上，包括：具有内腔的壳体，壳体上设有进气管和出气管，内腔用于放置被涂装物；以及匀气板，至少设有两个，若干匀气板间隔设置，匀气板上设有通气孔，若干匀气板上的通气孔相互错开，若干匀气板上的通气孔沿着通气孔轴线方向的投影不重叠；气体从进气管进入内腔依次经过若干匀气板后与被涂装物接触，最后由出气管排出。采用该匀气装置进行镀膜具有镀膜效果好，镀膜层厚度均匀的优点。
匀气板通气孔匀气装置内腔被涂装物出气管进气管壳体本实用新型镀膜系统镀膜效果厚度均匀间隔设置轴线方向不重叠镀膜层错开镀膜排出投影

[发明专利]一种匀气板及镀膜装置-CN202210946690.4在审
发明人：吴国发;周铁;罗骞;刘自然;何嵩;王慧勇 -专利权人：季华恒一（佛山）半导体科技有限公司
申请日： 2022-08-09 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本申请涉及半导体制造领域，具体而言，涉及一种匀气板及镀膜装置，本申请提出的匀气板，用于导出均匀的气体以进行等离子体镀膜，匀气板具有多个扩散孔，扩散孔排气端均匀分布在匀气板的下端面，扩散孔通过束流孔与导流孔连通，导流孔的进气端分布在匀气板的上端面，且匀气板上端面的中心区域的导流孔比外周区域的导流孔密集，本申请通过上述设计，使从匀气板底部各处排出的气体流量平均，从而提高镀膜的均匀性。
一种匀气板镀膜装置

[实用新型]一种用于等离子体增强化学气相沉积的进气电极板-CN200820011459.1无效
发明人：吴向方;赵俊华;梁玉生 -专利权人：辽宁聚智科技发展有限公司
申请日： 2008-03-06 - 公布日： 2008-12-03 - 主分类号： C23C16/50 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种等离子体电极板，尤其涉及对薄膜的沉积提供进均匀进气匀气的一种用于等离子体增强化学气相沉积的进气电极板。是由下述结构构成：等离子体输出板、电极腔体，在电极腔体内设有匀气障板和电极匀气板，匀气障板设在电极腔体上的出气口处，出气口与进气管连接，射频电缆设在进气管上，电极匀气板将电极腔体隔离成第一匀气腔和第二匀气腔本实用新型的优点效果：匀气障板缓冲了出气口的气体，使在第一匀气腔内产生均匀气场和高密度均匀等离子体，结构简单、便于批量生产和维护，提高了可靠性，降低了成本。
一种用于等离子体增强化学沉积进气电极板

[实用新型]半导体二极管生产用扩散炉匀气板-CN202021712787.1有效
发明人：魏兴政;李浩 -专利权人：济南兰星电子有限公司
申请日： 2020-08-17 - 公布日： 2021-01-26 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型属于半导体二极管加工应用设备领域，涉及扩散炉，尤其涉及一种半导体二极管生产用扩散炉匀气板。包括用于设置在扩散炉炉管内的匀气板本体，所述匀气板本体呈圆盘状设置，所述匀气板本体的一侧设置有底座，所述底座呈弧形板状设置，所述底座与扩散炉炉管的内壁贴合设置，所述匀气板上设置有匀气孔，所述匀气孔均匀的分布在匀气板上本实用新型通过提供一种半导体二极管生产用扩散炉匀气板，利用匀气板本体的设置，有效实现了对高压小截面气流的阻挡，通过匀气孔的设置，使气流得到均匀的分散，进而提高扩散气氛均匀性，达到改善产品均匀性及质量的提升的目的
半导体二极管生产扩散炉匀气板

[发明专利]进气装置及半导体处理设备-CN201911200973.9有效
发明人：李一吾 -专利权人：北京北方华创微电子装备有限公司
申请日： 2019-11-29 - 公布日： 2021-01-29 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种进气装置及半导体处理设备，进气装置用于半导体处理设备，进气装置包括：进气模块以及匀流板，匀流板位于进气模块的进气端，该进气装置还包括：固定结构，设置在匀流板的远离进气模块的一侧，固定结构能够在所处环境的温度上升时发生形变，以向匀流板施加使之固定在进气模块上的推力。通过本发明，避免了使用螺钉等固定方式对匀流板的损坏，也避免了匀流板与进气模块之间的安装不匹配问题，提高了机台工艺的一致性。
装置半导体处理设备

[实用新型]一种冷凝器分气板-CN03216925.6无效
发明人：于志强;高维丽;杜英芬;陈金花;徐树伍;罗琼香;赵英 -专利权人：烟台冰轮股份有限公司
申请日： 2003-04-30 - 公布日： 2004-07-07 - 主分类号： F28F9/22 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种冷凝器分气板，其特点是包括匀气底板(1)，匀气底板(1)的两端分别连接有匀气侧板(2)，每个匀气侧板(2)的两端均设有板开孔(3)，本实用新型结构简单，可使冷凝器进气分配均匀，换热效率提高
一种冷凝器分气板

[实用新型]一种匀气装置-CN202320993773.9有效
发明人：苗江涛;张凯敏;陈乾 -专利权人：江苏先导微电子科技有限公司
申请日： 2023-04-27 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：本申请涉及真空镀膜技术领域，具体公开了一种匀气装置，包括：进料管、第一加热器、匀气板、壳体与第二加热器；所述壳体内部设置有真空腔；所述进料管的出料端连通所述匀气板的进气端；所述匀气板的出气端连通所述真空腔本方案中，进料管可以用于流通高分子材料；匀气板作为匀气装置，配合第一加热器和第二加热器可以使气体匀气扩散并进行二次气化，从而使高分子材料气化扩散更加均匀，有效解决现有的高分子材料匀气装置的匀气效果不佳的问题
一种装置

[发明专利]匀气结构及等离子体系统-CN201410032672.0在审
发明人：李广 -专利权人：北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司
申请日： 2014-01-23 - 公布日： 2015-07-29 - 主分类号： H01L21/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种匀气结构及等离子体系统，所述匀气结构包括匀气板与进气板；所述匀气板上设置通孔；所述进气板覆盖在所述匀气板的通孔上，所述进气板上设置喷气孔。所述等离子体系统包括腔体、介质窗、喷嘴与所述的匀气结构；所述介质窗置于所述腔体的开口上；所述介质窗的中部设置安装孔，所述喷嘴插入所述安装孔中；所述匀气板置于所述喷嘴的下方，并安装于所述介质窗上；气体从所述喷嘴中流入
结构等离子体系统

[发明专利]一种回气奶瓶-CN200810029474.3有效
发明人：王柱锦 -专利权人：东莞市银燕塑料容器有限公司
申请日： 2008-07-11 - 公布日： 2008-12-31 - 主分类号： A61J9/04 文献下载
摘要：一种回气奶瓶，包括瓶身、奶嘴及压盖，还包括进气板及其配环，进气板为环状，其上开设贯穿的透气孔和透气槽，所述配环为环状，其外环部具有封闭盖，还具有开着匀气孔的匀气环，所述进气板透气槽和奶嘴接触面结合形成单向进气通道，所述进气板和配环套在一起，使所述封闭盖覆盖透气孔形成封闭的回气空间，所述匀气环与封闭盖以及瓶身形成匀气空间；在婴儿吸奶时，瓶外空气通过透气槽、透气孔和回气空间，经过匀气空间和匀气孔均匀回气到瓶内，不吸奶时封闭盖保证奶液不渗漏；本发明能够自动回气，起回气作用的进气板和配环拆卸后容易清洗，而且匀气孔使奶水更加均匀，避免奶水因静止而产生奶、水分离，导致婴儿没有吸收足够的营养。
一种奶瓶

[实用新型]一种回气奶瓶-CN200820050713.9无效
发明人：王柱锦 -专利权人：东莞市银燕塑料容器有限公司
申请日： 2008-07-11 - 公布日： 2009-04-22 - 主分类号： A61J9/04 文献下载
摘要：一种回气奶瓶，包括瓶身、奶嘴及压盖，还包括进气板及其配环，进气板为环状，其上开设贯穿的透气孔和透气槽，所述配环为环状，其外环部具有封闭盖，还具有开着匀气孔的匀气环，所述进气板透气槽和奶嘴接触面结合形成单向进气通道，所述进气板和配环套在一起，使所述封闭盖覆盖透气孔形成封闭的回气空间，所述匀气环与封闭盖以及瓶身形成匀气空间；在婴儿吸奶时，瓶外空气通过透气槽、透气孔和回气空间，经过匀气空间和匀气孔均匀回气到瓶内，不吸奶时封闭盖保证奶液不渗漏；本实用新型能够自动回气，起回气作用的进气板和配环拆卸后容易清洗，而且匀气孔使奶水更加均匀，避免奶水因静止而产生奶、水分离，导致婴儿没有吸收足够的营养。
一种奶瓶

[发明专利]薄膜沉积装置及其布气机构-CN202210325415.0在审
发明人：朱双双;刘强;吴兴华;黎微明 -专利权人：江苏微导纳米科技股份有限公司
申请日： 2022-03-29 - 公布日： 2022-08-09 - 主分类号： C23C16/50 文献下载
摘要：本申请公开了一种薄膜沉积装置及其布气机构，布气机构包括沿第一方向依次设置的喷淋背板、均气板、匀流板和喷淋板；其中，喷淋背板和喷淋板共同形成喷淋头，均气板和匀流板位于喷淋头内，匀流板和喷淋背板之间形成第一均气腔，匀流板和喷淋板之间形成第二均气腔，均气板设于第一均气腔内；喷淋背板在面对均气板的位置设有第一通孔；均气板设有贯通的均气孔；匀流板设有贯通的匀流孔，匀流孔用于使工艺气体从第一均气腔进入第二均气腔；喷淋板设有贯通的喷淋孔本申请提供的薄膜沉积装置及其布气机构，能够提高布气均匀性，从而提高薄膜沉积均匀性。
薄膜沉积装置及其机构

[发明专利]一种匀气机构及镀铝机-CN202110626276.0在审
发明人：钱昌旺 -专利权人：广东铭丰包装材料有限公司
申请日： 2021-06-04 - 公布日： 2021-10-08 - 主分类号： C23C14/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种匀气机构及镀铝机，所述匀气机构包括匀气板、设置在所述匀气板其中一侧壁上的进气口、与所述进气口相对的所述匀气板的另一侧壁上设置有安装槽以及设置在所述安装槽内的出气管；所述匀气板内设置有相互连通的第一气体腔室和第二气体腔室；所述第一气体腔室的进气端与所述进气口的出气端连通，所述第二气体腔室的出气端与所述出气管的进气端连通，所述出气管远离所述匀气板的侧壁上设置有若干个排气口；所述镀铝机包括所述的匀气机构；通过上述设置，使混合气体经过二次匀气后对薄膜进行均匀供气
一种机构镀铝

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