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[发明专利]一种空间凹面光栅固定装置、固定方法以及装调方法-CN202211581656.8在审
发明人：李炳强;李博;林冠宇;杨小虎 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2022-12-09 - 公布日： 2023-05-26 - 主分类号： G02B7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种空间凹面光栅固定装置、固定方法以及装调方法，其包括：凹面光栅、光栅套和光栅壳，所述凹面光栅的一侧面为内凹面，该内凹面为光栅刻划面，所述凹面光栅的另一侧面具有圆柱凸起，该圆柱凸起远离凹面光栅的端面为反射面；所述光栅套套设于凹面光栅的圆柱凸起上，所述光栅套上远离凹面光栅的侧面上且靠近边缘处均匀设置有三个凸台；所述光栅套安装于光栅壳内，所述光栅壳上靠近光栅套的侧面上与凸台对应的位置开设有长圆孔，所述光栅壳与光栅套通过穿过长圆孔和对应凸台的螺钉连接本发明固定更为牢靠、装调更加快速便利；对光栅在整个光学系统下进行精细调节，同时能保证在复杂环境下仍能保持光学位置满足精度要求。
一种空间凹面光栅固定装置方法以及

[发明专利]闪耀凹面全息光栅分区反应离子束的刻蚀方法-CN201310011776.9无效
发明人：谭鑫;吴娜;巴音贺希格;齐向东;李文昊;孔鹏 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2013-01-11 - 公布日： 2013-05-15 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：闪耀凹面全息光栅分区反应离子束的刻蚀方法，涉及光谱技术领域解决采用现有方法刻蚀凹面光栅获得的闪耀角不同，同时由于闪耀角差异影响闪耀凹面光栅的衍射效率的问题，本发明的刻蚀步骤为：凹面光栅掩模基片的放置；选取离子束入射角；凹面光栅基底分区；制作刻蚀狭缝；狭缝的放置；刻蚀凹面光栅。本发明对槽形为正弦型或类矩形的凹面光栅掩模基片进行分区反应离子束刻蚀，使得刻蚀后的闪耀凹面全息光栅的闪耀角一致性高，对制作出高衍射效率的闪耀凹面全息光栅有直接的重要意义。
闪耀凹面全息光栅分区反应离子束刻蚀方法

[发明专利]一种凹面光栅衍射效率的测试方法-CN201010277313.3无效
发明人：巴音贺希格;寇婕婷;吴娜;于宏柱;唐玉国;齐向东 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2010-09-10 - 公布日： 2011-01-26 - 主分类号： G01M11/02 文献下载
摘要：一种凹面光栅衍射效率测试方法，属于光谱技术领域中涉及的一种光栅衍射效率测试方法。要解决的技术问题是：提供一种凹面光栅衍射效率测试方法。解决技术问题的技术方案是：包括步骤一，配备一套可进行凹面光栅衍射效率测量的装置和测量控制系统；步骤二，准备被测凹面光栅和标准凹面反射镜；步骤三，测量标准凹面反射镜的反射光通量；步骤四，测量被测凹面光栅的衍射光通量；步骤五，按光栅衍射效率的定义计算被测凹面光栅的衍射效率；该方法操作简单，测量结果稳定可靠。
一种凹面光栅衍射效率测试方法

[发明专利]闪耀凹面光栅制作装置及制作方法-CN201410026216.5有效
发明人：周倩;倪凯;逄锦超;田瑞;许明飞;董昊;张锦超 -专利权人：清华大学深圳研究生院
申请日： 2014-01-20 - 公布日： 2014-04-23 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种闪耀凹面光栅制作装置，包括凸面闪耀母光栅，所述凸面闪耀母光栅包括按不同的角度紧密拼合在一起的可分离的多个拼接块，所述多个拼接块拼合在一起形成的凸面的曲率半径与待制作的闪耀凹面光栅的曲率半径一致本发明还公开了一种相应的闪耀凹面光栅制作方法。本发明的闪耀凹面光栅制作装置及制作方法能避免闪耀凹面光栅从母光栅上拔取时造成槽型的破坏，有效解决复制闪耀凹面光栅槽型误差大的问题。
闪耀凹面光栅制作装置制作方法

[发明专利]全息凹面光栅负一级光刻胶监测系统-CN201010138150.0无效
发明人：黄元申;皮道锐;田鑫;张大伟;倪争技;庄松林 -专利权人：上海理工大学
申请日： 2010-04-01 - 公布日： 2010-08-18 - 主分类号： G03F7/26 文献下载
摘要：本发明的全息凹面光栅负一级光刻胶监测系统，包括：监测激光源、凸透镜、光功率计、以及处理器，其中，监测激光源相对于全息凹面光栅中心设置，而且其与所述全息凹面光栅中心的连线与水平面平行，凸透镜设置在所述监测激光源和全息凹面光栅中心的连线上，用于将所述监测激光源发出的激光扩束，使扩束后的光覆盖所述全息凹面光栅的曝光面，而光功率计相对于所述全息凹面光栅负一级衍射聚焦点设置，以便其接收面能接收激光光源经所述全息凹面光栅的曝光面所形成的衍射光，处理器将所述光功率计接收到的光信号进行处理后即可获得衍射效率的变化曲线，由此实现对全息凹面光栅曝光过程的实时监控。
全息凹面光栅一级光刻监测系统

[发明专利]一种闪耀凹面光栅制作方法-CN201310462037.1有效
发明人：周倩;倪凯;田瑞;李阳;许明飞;张锦超;逄锦超;董昊 -专利权人：清华大学深圳研究生院
申请日： 2013-09-29 - 公布日： 2014-01-08 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种闪耀凹面光栅制作方法，它可以解决现有闪耀凹面光栅复制方法误差大的问题。该方法为：通过复制工艺复制凹面闪耀光栅，复制完毕，保温、降温，然后分别将两块光栅以不同的拔取方式分离，最后将复制分离后的凹面光栅毛坯进行拼接，得到所需要的凹面闪耀光栅。
一种闪耀凹面光栅制作方法

[发明专利]一种在凸面基底上直接制作光刻胶母光栅的方法-CN200810102683.6无效
发明人：周倩;李立峰 -专利权人：清华大学
申请日： 2008-03-25 - 公布日： 2008-08-20 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：一种在凸面基底上直接制作光刻胶母光栅的方法，属于光栅制作技术领域。加工制作凹面光栅基底；加工制作凸面母光栅基底；在凸面母光栅基底的工作面上旋涂感光材料；采用全息法曝光得到凸面光刻胶掩模光栅；显影，得到凸面光刻胶掩模光栅，即为光刻胶母光栅。对光刻胶母光栅进行光栅的复制；或对显影后得到的光刻胶凸面光栅进行离子束刻蚀，复制；制作出与此凸面母光栅相对应的凹面光栅。本发明避免了直接在凹面基底上进行离子束刻蚀的难题，在保证良好的成像质量的前提下，可以实现对最终产品凹面光栅槽型的精确控制。同时，凸面母光栅可以大量复制制作子代凹面光栅，非常适合于工业化生产。
一种凸面基底直接制作光刻光栅方法

[其他]I型凹面光栅分度误差的检验方法-CN86107454无效
发明人：吴振华 -专利权人：北京光学仪器厂
申请日： 1986-11-07 - 公布日： 1988-05-18 - 主分类号： G01M11/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种能定量检验I型凹面光栅分度误差的方法。它通过检验I型凹面光栅正负极光谱的衍射光束形成的干涉条纹，确定I型凹面光栅分度误差。
凹面光栅分度误差检验方法

[实用新型]全息凹面光栅曝光衍射效率实时监测系统-CN200920068533.8无效
发明人：皮道锐;黄元申;张大伟;夏俊;倪争技;夏纪朝;庄松林 -专利权人：上海理工大学
申请日： 2009-03-06 - 公布日： 2009-12-16 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种全息凹面光栅曝光衍射效率实时监测系统包括He-Ne激光器、全息凹面光栅、凸透镜、带串口连接的光功率计、计算机、He-Cd激光，通过实时监测全息凹面光栅曝光时的负一级的衍射光光强来控制全息凹面光栅制作过程中曝光的最佳曝光量，达到制作完成后的全息凹面光栅具有最佳负一级衍射效率的目的。
全息凹面光栅曝光衍射效率实时监测系统

[发明专利]一种平像场凸面光栅分光系统-CN201210175025.6无效
发明人：李柏承;黄元申;张大伟;倪争技;夏俊;庄松林 -专利权人：上海理工大学
申请日： 2012-05-31 - 公布日： 2012-09-12 - 主分类号： G01J3/18 文献下载
摘要：一种平像场凸面光栅分光系统，包括光源、聚光镜、入射狭缝、大凹面反射镜、凸面光栅和面阵检测器，凸面光栅和大凹面反射镜的球心位于同一点上，且光轴重合，入射狭缝放置在过凸面光栅和大凹面反射镜公共球心并垂直于公共光轴的平面内，方向与光栅刻槽方向平行，面阵检测器放置在过凸面光栅和大凹面反射镜公共球心并垂直于公共光轴的平面内，与入射狭缝分布在光轴的两侧，光源发出的白光经聚焦镜、入射狭缝辐射到大凹面反射镜上，经大凹面反射镜反射辐射到凸面光栅上，经过凸面光栅衍射的衍射波再辐射到大凹面反射镜上，最后经大凹面反射镜汇聚到面阵检测器上。
一种平像场凸面光栅分光系统

[发明专利]一种凹面光栅衍射效率测试仪的光路结构-CN201010277331.1无效
发明人：巴音贺希格;寇婕婷;吴娜;唐玉国;齐向东;于宏柱;朱文煜 -专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
申请日： 2010-09-10 - 公布日： 2011-03-30 - 主分类号： G01M11/02 文献下载
摘要：一种凹面光栅衍射效率测试仪的光路结构，属于光谱技术领域中涉及的一种凹面光栅衍射效率测试仪。要解决的技术问题是：提供一种凹面光栅衍射效率测试的光路结构。在前置单色仪的壳体外侧，光源外光路的光经聚光镜反射，在入射狭缝处聚焦并入射到前置单色仪中，出射光线通过光纤传入测量单色仪内，测量单色仪主要由入射光臂、出射光臂、光栅转台和光电倍增管组成，标准凹面反射镜和被测凹面光栅先后放在光栅转台上进行测量，由光电倍增管先后接收标准凹面反射镜的反射光通量和被测凹面光栅的衍射光通量，以此完成凹面光栅的衍射效率测量。
一种凹面光栅衍射效率测试仪结构

[实用新型]一种便于安装的凹面光栅-CN201721810053.5有效
发明人：李金翰 -专利权人：长春市赛奥科技开发有限公司
申请日： 2017-12-19 - 公布日： 2018-08-31 - 主分类号： G02B5/18 文献下载
摘要：本实用新型涉及光栅设备技术领域，且公开了一种便于安装的凹面光栅，包括固定箱，固定箱内部的上表面设置有凹面光栅，凹面光栅的上表面设置有吸盘，吸盘的上表面固定安装有连接板，固定箱上设置有螺母方块，螺母方块的内部螺纹连接有螺纹杆该便于安装的凹面光栅，通过设置摇把、螺纹杆和滑槽，摇把带动螺纹杆进行运动，螺纹杆推动固定板运动，进而带动连接杆进行运动，对凹面光栅进行固定安装，安装起来更加方便，能够保证工作人员的使用效果，提高了该便于安装的凹面光栅的实用性
凹面光栅螺纹杆便于安装固定箱上表面摇把吸盘螺母方块固定板支撑板本实用新型固定板运动光栅设备内部螺纹连接板连接杆滑槽保证

[发明专利]超光谱凸面光栅成像光谱仪-CN201210298942.3无效
发明人：司福祺;江宇;相连钦;周海金;赵敏杰;刘文清 -专利权人：中国科学院安徽光学精密机械研究所
申请日： 2012-08-21 - 公布日： 2013-01-09 - 主分类号： G01J3/28 文献下载
摘要：本发明公开了一种超光谱凸面光栅成像光谱仪，包括有凸面光栅、凹面反射镜和探测器，所述的凸面光栅与凹面反射镜不同轴，将入射光经过一狭缝入射到所述的凹面反射镜上，经凹面反射镜汇集并反射到所述的凸面光栅上，凸面光栅将入射光色散后再次入到凹面反射镜上，凹面反射镜将色散后的光汇集到所述的探测器中，所述的探测器与狭缝同侧。
光谱凸面光栅成像光谱仪

[实用新型]一种多色仪用平场凹面光栅-CN201921691783.7有效
发明人：程英超 -专利权人：合肥赛洛测控科技有限公司
申请日： 2019-10-11 - 公布日： 2020-08-21 - 主分类号： G01N21/01 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种多色仪用平场凹面光栅，包括平场凹面光栅本体，所述平场凹面光栅本体的类型为正弦型齿形，所述平场凹面光栅本体的表面设有反射镀层，所述反射镀层采用铝制材料制成，所述平场凹面光栅本体的效率最大值可以在本实用新型自身具有校正像差功能，因此与传统的即可衍射光栅相比具有更高的分辨率，并可凑成紧凑的分光光学系统，同时采用全息曝光和离子刻蚀技术，可以达到低像差，低杂散光，衍射效率高的效果，可以提高检测器的集光效
一种多色仪用平场凹面光栅

[发明专利]自由曲面凹面光栅成像光谱仪的设计方法-CN202110163594.8在审
发明人：张本奇;朱钧;谭益林;金国藩;范守善 -专利权人：清华大学;鸿富锦精密工业（深圳）有限公司
申请日： 2021-02-05 - 公布日： 2022-08-09 - 主分类号： G01J3/18 文献下载
摘要：一种自由曲面凹面光栅成像光谱仪的设计方法，其包括以下步骤：S1，选取从狭缝不同位置入射的一系列光线作为特征光线；S2，计算所述特征光线和一自由曲面凹面光栅面交点处特征数据点的坐标和法向；S3，通过拟合得到所述自由曲面凹面光栅的自由曲面面形本发明还涉及一种利用所述自由曲面凹面光栅成像光谱仪的设计方法而得到的自由曲面凹面光栅成像光谱仪。
自由曲面凹面光栅成像光谱仪设计方法

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