专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]冰粒喷射装置-CN201110079498.1有效
  • 那须贵树;高木宁伴;渡边博伸 - 昭和炭酸株式会社
  • 2011-03-23 - 2011-10-05 - B05B1/26
  • 本发明提供一种干冰粒喷射装置,其能够由液态二氧化碳高效地形成比颗粒状干冰软而比雪状干冰硬的干冰粒,并且能够以不费功夫的状态将上述干冰粒喷射出来。该干冰粒喷射装置包括:液态二氧化碳供给源;气液二氧化碳供给流路;减压部;干冰粒生成部;以及干冰粒导入流路,干冰粒生成部具有干冰粒生成元件,该干冰粒生成元件无间隙地安装在气液二氧化碳供给流路中,该气液二氧化碳供给流路中流入有来自减压部的被减压到三相点压力以上、不到临界点压力的液态二氧化碳,该干冰粒生成元件具有至少一个通孔,该通孔的形状被调节成该干冰粒生成元件之前的压力为三相点压力以上、该干冰粒生成元件之后的压力为三相点压力以下
  • 干冰粒子喷射装置
  • [实用新型]一种PIV示踪冰粒生产系统-CN202223149195.5有效
  • 王蓉;魏文龙;王陈燕;曹海婷;陆帅;姚欣 - 江苏苏净集团有限公司;苏州苏净仪器自控设备有限公司
  • 2022-11-25 - 2023-04-25 - B01J2/02
  • 本实用新型公开了一种PIV示踪冰粒生产系统,该生产系统包括水粒子发生器、冰粒产生组件;其中,水粒子发生器包括罐体、进气管,该罐体包括用于储存水的容腔、与容腔的上部连通的水粒子出口,该进气管伸入容腔内,且该进气管的位于容腔内的部分设置有至少一个出气孔;冰粒产生组件包括混合腔、用于导入冷却流体的冷流导入管,水粒子出口、冷流导入管分别与混合腔连通,该生产系统生产的水粒子可以在冷却流体的作用下迅速冷却成冰粒,减少了水粒子发生团聚生产大小不一的示踪粒子的可能,而且水粒子可以更便于制备尺寸小的小冰珠作为冰粒示踪粒子,同时冰粒作为示踪粒子具有优异的环保性和实用性,对试验设备基本没有污染。
  • 一种piv示踪冰粒子生产系统
  • [发明专利]可控制干冰粒的干式清洗机-CN202010318334.9有效
  • 丁东燮 - 丁东燮
  • 2020-04-21 - 2023-01-13 - B08B7/00
  • 本发明涉及一种干冰粒调节装置及可控制干冰粒的干式清洗机,可以有选择地自由调节干冰的粒径,从而调整清洁力,目的在于将已调节粒径的干冰通过压缩空气以高速喷射,从而可以干净地清洗各种机械装置、设备物等。根据本发明的干冰粒调节装置,包括:本体部,其上侧形成有投入干冰的投入口,下侧形成有排出干冰的排出口;研磨部,其包括研磨机及支撑部,研磨机配置于本体部的内部空间并研磨干冰,支撑部与研磨机相对配置,支撑干冰根据本发明的可控制干冰粒的干式清洗机,包括:干冰粒调节装置,其调节干冰的粒子大小;喷射部,其设置于本体部,将在固定部件的收集槽收集的干冰向外部喷射。
  • 控制干冰粒子清洗
  • [发明专利]异物去除装置-CN201780049515.2有效
  • 中村智宣;尾又洋 - 株式会社新川
  • 2017-06-02 - 2023-07-04 - H01L21/304
  • 一种异物去除装置(100),其包括:喷嘴(31),使液体的二氧化碳的加压流膨胀,通过膨胀时的冷却,而在所述流中形成干冰粒;腔室(29),连接于喷嘴(31),且供固体的二氧化碳粒子流入;狭缝(23),连接于腔室(29),且使干冰粒朝向基板(13)的表面喷出;及抽吸口(24),与狭缝(23)邻接而配置;并且使喷嘴(31)与腔室(29)的间隔变化来调整自狭缝(23)喷出的干冰粒粒子径。
  • 异物去除装置
  • [发明专利]基片存放容器的干式清洗装置-CN200610101810.1无效
  • 金世镐;朴钟秀;尹哲男 - K.C.科技股份有限公司
  • 2006-07-11 - 2007-07-04 - B08B9/20
  • 本发明涉及一种基片存放容器的干式清洗装置,该干式清洗装置包含:装载部,以用于投入并移送基片存放容器;清洗部,以用于使用干冰粒清洗所述基片存放容器;卸载部,以用于搬出并移送在所述清洗部完成清洗的所述基片存放容器依据本发明,因为使用干冰粒清洗基片存放容器,所以没有被排出的废弃物而具有环保效果。并且,本发明因为使用干冰粒,所以可以进行微细的清洗并使基片存放容器的变形或破损最小,具有延长使用寿命的效果。
  • 存放容器清洗装置
  • [发明专利]基板处理装置及其处理方法-CN200510134615.4有效
  • 金世镐;朴钟秀;尹哲男 - K.C.科技株式会社
  • 2005-12-13 - 2006-07-05 - B08B7/00
  • 本发明涉及一种基板处理装置,其包括:装载部,用于装载形成有物质膜的基板;干冰供给部,供给干冰粒或二氧化碳;喷射处理部,包括一个以上的喷管,向上述基板上喷射由上述干冰供给部所提供的干冰粒,或将二氧化碳固化后喷射到基板上本发明使用不留残屑的干冰粒,对物质膜进行改质或部分去除,并通过清洗或蚀刻等表面处理,去除经改质的物质膜,以此可缩短物质膜去除所需工时。
  • 处理装置及其方法

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