专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]用于识别用于车辆的至少一个脉冲光源的方法和设备-CN201380047152.0有效
  • P·鲁瑙;L·贝尔根 - 罗伯特·博世有限公司
  • 2013-08-26 - 2018-10-23 - G06K9/00
  • 本发明涉及一种用于识别至少一个脉冲光源(120)的方法(200),其中通过探测单元(130)检测由所述脉冲光源(120)发射的光。所述方法包括在使用第一曝光时间的情况下检测所述光源(150)的光的第一图像参数(160)以及在使用至少第二曝光时间的情况下检测所述光源的光的至少一个第二图像参数(160)的步骤,其中所述第一曝光时间与所述至少第二曝光时间不同并且在检测所述第一图像参数(160)和检测所述至少第二图像参数(160)之间将所述探测单元(130)设置到一个预先确定的值上,其中所述第一图像参数(160)和所述至少第二图像参数(160)在时间上依次代表同一空间位置。所述方法还包括分析处理所述至少第二图像参数(160)的步骤,以便至少当所述至少第二图像参数(160)满足预先确定的标准时识别脉冲光源(120)。
  • 用于识别车辆至少一个脉冲光源方法设备
  • [发明专利]用于操作照明系统的系统和方法-CN201810632788.6有效
  • 梅拉妮·L·基姆西-林 - 波音公司
  • 2018-06-19 - 2022-03-18 - H05B41/36
  • 本申请公开了一种操作紫外光源的方法及照明控制系统。在一个实例中,一种操作紫外(UV)光源的方法包括,向UV光源提供供应功率,以及在一系列激活周期期间使用供应功率激活UV光源以发射UV光。该方法还包括,在该系列激活周期中的至少一个激活周期期间感测由UV光源发射的UV光以测量UV光的光学参数。光学参数与UV光的杀菌功效有关。该方法进一步包括,基于所测量的光学参数调整供应功率的电参数,以在该系列激活周期内维持UV光的目标杀菌功效。
  • 用于操作照明系统方法
  • [实用新型]光源交叉检测装置-CN201420312624.2有效
  • 盛阳;党小锋 - 苏州卫水环保科技有限公司
  • 2014-06-12 - 2014-11-19 - G01N21/01
  • 本实用新型公开了一种多光源交叉检测装置,其包括中空的固定座,所述固定座中设置一检测池,其特征在于:所述固定座上还设置有至少两个对准所述检测池的光源,每个所述光源对应设置一光检器,每个配对的光源和光检器所在的轴线重合本实用新型通过多个光源照射检测池,每个光源对应一个光检器。这样,即可通过不同波长光源照射检测池,从而实现不更换试剂即可实现多参数的检测,也可实现分次检测不同参数,大大节约了试剂、控制流程及检测时间。本实用新型的多光源交叉检测装置具有消耗试剂少,并且能够实现多参数检测,单台仪器多参数测量等优点,且不需要复杂的软件控制程序也不需要动力设备,因而不会有机械磨损带来的误差。
  • 光源交叉检测装置
  • [实用新型]一种物体光学特性测量装置-CN201520216703.8有效
  • 潘建根;黄英 - 杭州远方光电信息股份有限公司
  • 2015-04-13 - 2015-12-30 - G01N21/25
  • 本实用新型通过配置光源参数监测装置,监测在光源参数的波动情况,测试时,待光源稳定发光后选择合适的时间窗口开启光测量装置进行信号采集测量工作,并可利用监测结果修正光测量装置测得的数据;同时还可配合温度控制装置,通过温度控制装置与光源参数控制装置的反馈调节机制实现对光源的稳定输出,在降低成本的同时,提高了测试精确度,可广泛适用于测量各种物体光学特性,具有操作便捷、应用范围广、成本低、测量精度高等特点。
  • 一种物体光学特性测量装置
  • [发明专利]一种快速实现光刻系统精密校准的光学方法及装置-CN202111209569.5有效
  • 韩丹丹;韦亚一 - 中国科学院微电子研究所
  • 2021-10-18 - 2022-11-11 - G03F7/20
  • 快速实现光刻系统精密校准的光学方法包括:基于聚焦元件开口处的点光源场强分布数据,确定所述点光源的点宽拟合关系;基于所述点光源的点宽拟合关系,确定在光学显微镜下所述点光源的点宽与光刻胶的曝光参数之间的第一对应关系;基于所述光刻胶表面的点映射图形的光学显微图像,确定所述点光源的第一点宽数据集;基于所述点光源的第一点宽数据集,确定所述点光源的点宽与光刻胶的曝光参数之间的第二对应关系;当所述第一对应关系和所述第二对应关系满足预设条件时,利用所述第一对应关系确定所述光刻胶的曝光参数,可以快速的获取曝光参数,及时的对曝光参数进行测量。
  • 一种快速实现光刻系统精密校准光学方法装置

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