专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]对象信息获得装置和对象信息获得方法-CN201310076893.3无效
  • 大石卓司 - 佳能株式会社
  • 2013-03-12 - 2013-09-18 - A61B8/00
  • 根据本发明的对象信息获得装置包括:第一光学特性值分布获得单元,其被配置为基于通过检测第一光声波而获得的第一检测信号来获得第一光学特性值分布,所述光声波通过将第一测量状态的光照射在对象上而产生;第二光学特性值分布获得单元,其被配置为基于通过检测第二光声波而获得的第二检测信号来获得第二光学特性值,所述第二光声波通过将第二测量状态的光照射在所述对象上而产生,所述第二测量状态不同于第一测量状态;以及数据处理单元,其被配置为基于第一光学特性值分布和第二光学特性值分布来获得相似度分布
  • 对象信息获得装置方法
  • [发明专利]光学辐射标定装置-CN201711308833.4在审
  • 雷正伟;吕艳梅;刘海涛;牛刚;张东;甄洪涛;夏明飞;郭晓冉 - 中国人民解放军63908部队
  • 2017-12-11 - 2018-04-13 - G01J1/04
  • 本发明公开了一种光学辐射标定装置,涉及光学辐射测量和标定的装置技术领域。所述标定装置包括光学辐射标准单元、光学辐射测量单元以及主控计算机,所述光学辐射标准单元和光学辐射测量单元受控于所述主控计算机,所述光学辐射标准单元用于在主控计算机的控制下输出标准的光学辐射量值,用于标定各类光电探测类仪器或模块的光电响应特性参数;所述光学辐射测量单元用于在主控计算机的控制下,对被检对象的光学输出量值和光谱特性进行测定;所述标定装置具备光学辐射标准输出标定和光学辐射测量功能,且体积小,测量精度高。
  • 光学辐射标定装置
  • [发明专利]一种基于滤光片阵列的海水固有光学特性测量系统及方法-CN202111311063.5在审
  • 门少杰;何家浩;刘兆军;刘博涵 - 山东大学
  • 2021-11-08 - 2022-01-28 - G01N21/01
  • 本发明属于海洋环境监测技术领域,具体涉及一种海水固有光学特性测量系统及方法。一种基于滤光片阵列的海水固有光学特性测量系统,包括出光单元、样品测量单元和探测单元;所述出光单元设置于所述样品测量单元的一端,用于向所述样品测量单元提供入射光源;所述探测单元设置于所述样品测量单元的另一端,用于探测所述样品测量单元输出的光信号;所述的样品测量单元包括两个测量管,其中一个测量管用于测量海水的衰减特性,另一个测量管用于测量海水的吸收特性。本发明提供的基于滤光片阵列的海水固有光学特性测量系统,系统结构简单,操作方便,不需要引入其他特殊光源和光谱探测仪器,显著降低了整个系统的复杂度和器件成本。
  • 一种基于滤光阵列海水固有光学特性测量系统方法
  • [发明专利]薄膜形成装置及光学元件制造方法-CN02825543.7有效
  • 秋山贵之 - 株式会社尼康
  • 2002-12-17 - 2005-04-13 - G02B5/28
  • 用于红外区域实际使用波段的光学元件有一个衬底11和一个由形成在衬底11上的多层组成的光学薄膜。薄膜形成装置包括:测量可见区域特定波段中光谱特性光学监视器4,测量红外区域特定波段中光谱特性光学监视器5,和测量实际使用波段光谱特性的实际使用波段光学监视器。根据任一监视器4或5测得的光谱特性确定形成的各个层的膜厚度,并且根据这些膜的厚度调节还没有形成的层的膜厚度设置值。由实际使用波段光学监视器测得的光学薄膜形成过程中以及随后的薄膜形成过程结束时的光谱特性被反映到在下一衬底11上形成下一光学薄膜的过程中。
  • 薄膜形成装置光学元件制造方法
  • [发明专利]曝光装置和物品的制造方法-CN202110037169.4在审
  • 井上充;伊藤敦史 - 佳能株式会社
  • 2021-01-12 - 2021-07-16 - G03F7/20
  • 提供一种有利于精度良好地测量投影光学系统的光学特性的技术。一种用于对基板进行曝光的曝光装置包括:投影光学系统,利用曝光的光将原版的图案像投影到所述基板;测量部,使用经由所述曝光的光要经由的所述投影光学系统的光学元件而从所述投影光学系统射出的测量光,测量所述投影光学系统的光学特性;以及控制部,基于所述测量部的测量结果,修正所述曝光的光在所述基板上的照射位置,所述测量部包括接受所述测量光的受光元件,所述受光元件被安装于所述投影光学系统。
  • 曝光装置物品制造方法

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