“产品良率”专利关键词查询_检索下载_查询列表_检索列表_行业专利分布_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果7185760个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]产品良率的评估方法-CN202211429789.3在审
发明人：王美玲;焦爽;毛贵蕴 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2022-11-15 - 公布日： 2023-02-24 - 主分类号： G06Q10/0631 文献下载
摘要：本发明提供了一种产品良率的评估方法，包括：从已经完成测试的产品中选出良率达标的产品，并提取产品各个参数的值，作为基准参数值，并制作成第一文件；从待分析良率的产品中提取各个参数的值，作为待评估参数值，并制作成第二文件；采用分析工具调用第一文件和第二文件，对待评估参数值和基准参数值进行比较，以形成良率评估报告，其中，选取单个待评估参数，将其与对应的基准参数值进行比较，以得到单个待评估参数的分析图。本发明提供的产品良率的评估方法代替了人工分析测试数据，减少了人力，提高了分析效率，同时，还能将多个参数的测试数据同时进行比较和分析。
产品评估方法

[发明专利]半导体产品的良率分析方法及良率分析系统-CN202011384551.4有效
发明人：祖文秀;孙姗姗 -专利权人：晶芯成（北京）科技有限公司
申请日： 2020-12-02 - 公布日： 2021-03-02 - 主分类号： G06Q10/06 文献下载
摘要：本发明提供一种半导体产品的良率分析方法及良率分析系统，包括对过站资料的良率数据进行差异性分析，对量测资料及炉管位置资料的良率数据进行相关性分析，得到各个制程站点过站资料、量测资料及炉管位置资料的指标，并采用信息熵对过站资料本发明可用于对影响半导体产品质量的根本原因从数据角度进行查找，使分析结果更加准确，提高了分析效率，并及时调整参数和实验，提高良率，降低成本。
半导体产品分析方法系统

[发明专利]产品良率分析系统及方法-CN200510130508.4有效
发明人：林宸霆;吴志宏;李美彦 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2005-12-13 - 公布日： 2006-06-21 - 主分类号： G06F17/00 文献下载
摘要：本发明提供一种产品良率分析系统及方法，所述产品良率分析系统，包括下述互相耦合的多个装置。其中一晶圆测试结果撷取装置撷取晶圆测试数据后，由一晶圆缺陷图产生装置据以产生晶圆缺陷图。再由一整合良率计算装置依据上述测试结果数据，计算整合良率值。再由一区域性系统良率计算装置及重复性系统良率计算装置依据上述测试结果数据及晶圆缺陷图，分别计算上述晶圆的区域性系统良率值及重复性系统良率值。最后由一随机良率计算装置依据上述产品整合良率值、上述区域性系统良率值计算重复性系统良率值。本发明能够依据其良率损失的原因的不同，进一步将上述系统良率值分析为区域性系统良率值及重复性系统良率值。
产品分析系统方法

[发明专利]产品良率监控方法、装置及计算机可读存储介质-CN201811379295.2有效
发明人：张德波 -专利权人：鸿富锦精密电子（成都）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
申请日： 2018-11-19 - 公布日： 2023-08-01 - 主分类号： G06Q10/0633 文献下载
摘要：本发明提供一种产品良率监控方法，其包括：获取产品的生产信息，所述生产信息包括各站点测试通过和未通过的产品数量和各项目测试通过和未通过的产品数量；依据所述生产信息计算产品的良率，所述良率包括各站点良率、产品总良率和项目良率中的一种或多种；将计算出的所述产品的良率与预设的良率管控目标相比对，判断所述产品的良率是否达标；当判断所述产品的良率未达标时，生成预警信息；依据所述生产信息、所述产品的良率及所述预警信息生成可视化报表，并控制显示单元显示所述可视化报表本发明同时提出一种产品良率监控装置及计算机可读存储介质。本发明取代了人工良率管控的作业方式，提升了良率管控的效率，降低了生产成本。
产品监控方法装置计算机可读存储介质

[发明专利]半导体产品良率上限分析方法-CN201811396608.5有效
发明人：陶颖卿;俞微 -专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日： 2018-11-22 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： G06F30/398 文献下载
摘要：本发明公开了一种半导体产品良率上限分析方法，包括选择产品良率分析工艺参数，建立各工艺参数对半导体产品良率的函数关系，选择与半导体产品良率相关性最强的自变量参数作为X1N(X1))]/N＝F(X1)，执行多元回归，建立粒子群算法模型，计算获得最优参数值和最高良率本发明能计算获得半导体产品良率上限。
半导体产品上限分析方法

[发明专利]产品良率预测方法、装置、计算机装置及存储介质-CN201911149655.4在审
发明人：张德波 -专利权人：鸿富锦精密电子（成都）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
申请日： 2019-11-21 - 公布日： 2021-05-21 - 主分类号： G06Q10/04 文献下载
摘要：本发明提供一种产品良率预测方法、产品良率预测装置、计算机装置及存储介质，所述方法包括：获取历史生产记录中产品的质量数据信息，根据所述质量数据信息计算产品良率数据信息；将所述产品的良率数据信息输入至少一个分析模型，计算每个所述分析模型对应的不良因子对所述产品良率的影响比例；根据设定条件判断是否能够通过预设方法减小至少一个所述不良因子对产品良率的影响比例；若能够减小，则根据所述预设方法调整所述不良因子对产品良率的影响比例，再根据调整后的所述影响比例计算计划生产所述产品的第一预测良率。通过所述方法可以实现实时追踪产线良率、预测未来良率，并对未来良率的提升提出改善方法。
产品预测方法装置计算机存储介质

[发明专利]任务清单的处理方法及系统-CN201510528394.2在审
发明人：严昊;肖云霄 -专利权人：上海玑智自动化科技有限公司
申请日： 2015-08-25 - 公布日： 2017-03-08 - 主分类号： G06Q10/06 文献下载
摘要：根据所述处理方法，所述处理系统监测各工作站的产品良率，在监测到工作站的产品良率小于预设良率阈值期间，执行以下至少一个步骤、或同时执行以下多个步骤1)禁止生成申请位置信息、或目标位置信息为产品良率小于预设良率阈值的工作站的任务清单；2)将已生成的、目标位置信息和申请位置信息中的至少一个为产品良率小于预设良率阈值的工作站的任务清单进行变更、撤销、或予以保留。本发明在产品运输之前，实时监测各工作站的产品良率，并及时发现产品良率不达标的工作站，能够在产品被运输之前就确定产品良率不达标的工作站，有效避免了现有技术中依靠到货验收来确定产品良率是否达标。
任务清单处理方法系统

[发明专利]产品良率确定方法、装置、设备及存储介质-CN202111015610.5在审
发明人：李心成;金鑫;涂丹丹 -专利权人：华为云计算技术有限公司
申请日： 2021-08-31 - 公布日： 2023-03-03 - 主分类号： G05B19/418 文献下载
摘要：本申请公开了一种产品良率确定方法、装置、设备及存储介质。在该方法中，通过良率预测模型，结合第一产品对应于当前制造工序的第一工序特征和之前制造工序的历史工序特征，得到第一产品对应于当前制造工序的第一预测良率，从而确定第一产品是否存在良率异常，以便工作人员尽早排查存在良率异常的产品上述方法利用了产品对应于不同制造工序的多种数据的组合关系，来得到产品的预测良率，充分考虑了不同制造工序对产品良率的综合影响，因此得到的预测良率准确性较高，从而能够准确判定产品是否存在良率异常，提高产品生产效率
产品确定方法装置设备存储介质

[发明专利]一种工业制造生产产品的良率提升管理系统和方法-CN202010650554.1在审
发明人：王清杰 -专利权人：北京德风新征程科技有限公司
申请日： 2020-07-08 - 公布日： 2021-03-26 - 主分类号： G06Q50/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种工业制造生产产品的良率提升管理系统和方法，尤其是一种工业制造生产产品的良率提升管理系统，包括数据采集模块、数据处理模块、产品良率管理模块、数据存储模块、良率改进模块、制造执行模块和制造管理模块，所述数据采集模块、数据处理模块、产品良率管理模块、数据存储模块、良率改进模块、制造执行模块和制造管理模块依次连接，所述产品良率管理模块包括不良分析单元、失效分析单元和良率分析单元。本发明能够对工业制造产品进行分析，便于对制造过程进行优化，便于与制造过程进行测试、展示和反馈，同时，精确定位出产生不良的位置，能够对提高了良率分析的精确度。
一种工业制造生产产品提升管理系统方法

[发明专利]一种提高产品良率的方法及系统-CN201410713121.0有效
发明人：郭腾冲;徐梅 -专利权人：中芯国际集成电路制造（天津）有限公司;中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
申请日： 2014-11-28 - 公布日： 2018-09-07 - 主分类号： G05B19/418 文献下载
摘要：本发明提供了一种提高产品良率的方法及系统，利用ESB总线实现机台恢复系统、数据库(存储有影响产品良率的案件)以及良率分析系统数据的集成，并将数据通过一数据转换系统传达至MES系统，进而准确的知道每个案件对良率的最终影响，为提升良率提供了依据；同时可对连续出现的潜在影响产品良率的案件进行重点追踪和控制，进而更加有效的提升产品良率及生产效率。
一种提高产品方法系统

[发明专利]一种集成电路晶圆制造中的良率预测方法-CN202010491650.6有效
发明人：师伟堂;王文瑞;曾子明;曹玥 -专利权人：上海哥瑞利软件股份有限公司
申请日： 2020-06-02 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： G06Q10/04 文献下载
摘要：本发明提出一种集成电路晶圆制造中的良率预测方法，包括以下步骤：备选参考产品模型获取；备选参考产品参数获取；备选参考产品函数获取；备选参考产品预测；最终参考产品选择；新产品预测模型获取；新产品良率预测。本发明提供的集成电路晶圆制造中的良率预测方法，基于晶圆制造中的随机缺陷密度与良率的函数关系，参考生产线上已有成熟产品的良率数据，通过数据模型建立及回归分析，能达到一个比较精确的新产品良率预测值，给半导体集成电路晶圆制造提供一种新产品良率预测的方法
一种集成电路制造中的预测方法

[发明专利]制造管理系统及方法-CN200410101793.2无效
发明人：邱文仁;萧维勤;陈正哲 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2004-12-23 - 公布日： 2005-12-14 - 主分类号： G06F17/60 文献下载
摘要：监控模块接收一生产在线正在处理的产品的实时良率信息。计划模块依据实时良率信息动态地管理产品的制造排程。当良率信息大于一目标良率时，相应产品的批货被保留，以避免进行处理，而当良率信息小于目标良率时，释放相应产品的额外批货，以在生产在线进行处理。
制造管理系统方法

[发明专利]提高晶圆边缘产品良率的方法-CN202210170196.3在审
发明人：许亮;李孝慈;陈宏璘;龙吟;王恺 -专利权人：上海华力集成电路制造有限公司
申请日： 2022-02-24 - 公布日： 2022-07-01 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明提供一种提高晶圆边缘产品良率的方法，提供衬底，衬底上形成有浅沟槽，之后在衬底上形成覆盖浅沟槽的第一氧化层；在第一氧化层上形成第二氧化层；研磨第二氧化层以及其下方的第一氧化层，使得衬底边缘的第一氧化层的厚度为第一厚度本发明对晶圆边缘缺陷清洁并且晶圆边缘良率得到改善；保留部分氧化物在晶圆上，晶圆薄膜应力降低。
提高边缘产品方法

[发明专利]提高产品良率的光源喷粉方法-CN202211337399.3在审
发明人：杨帆;刘建强;宋浪;李伟伟;陈永华;陶洪波 -专利权人：深圳市同一方光电技术有限公司
申请日： 2022-10-28 - 公布日： 2023-01-06 - 主分类号： H01L33/00 文献下载
摘要：本发明涉及光源的技术领域，公开了提高产品良率的光源喷粉方法，包括以下提供基板，基板具有发光区域，在发光区域固晶，形成多个暖白发光芯片以及正白发光芯片；提供模板，模板中具有多个镂空槽，镂空槽上下贯穿模板；镂空槽与暖白发光芯片上下对齐布置，四个外凸槽分别与暖白发光芯片的四个端角位对齐，再将第一荧光胶层喷涂在发光芯片上，这样既满足暖白发光芯片间存在一定的空间间距，也保证了整个暖白发光芯片被第一荧光胶层均匀覆盖，提升了成品良率
提高产品光源方法

[发明专利]一种LED产品良率优化方法-CN201810283561.5有效
发明人：钱家乐;顾铠;张智 -专利权人：浙江云科智造科技有限公司
申请日： 2018-04-02 - 公布日： 2020-06-12 - 主分类号： H01L33/50 文献下载
摘要：本发明涉及一种LED产品良率优化方法，包括：获取第一产品预设需求；通过材料推荐模型和所述第一产品预设需求选取原始材料；其中，所述材料推荐模型用于表征材料与第一产品参数的对应关系；根据所述原始材料得到LED产品。
一种 led 产品优化方法

1
2
3
4
5
6
7
8
9
10
11
12
13
14
15
16
17
18
19
20
下一页»
尾页
共 100000 条