[发明专利]用于铜膜化学汽相沉积的新型有机亚铜前体

摘要

本发明的一种通式(Ⅰ)的有机亚铜化合物可以方便地在低温CVD方法中用于大量生产无污染物的具有良好热稳定性的铜膜,其中R1,R2和R3各自独立地为C1－8烷基、C1－8烷氧基、芳基或芳氧基,R4和R5各自独立地为氢、氟、CnF2n+1或CnH2n+1基团,n是1到6的整数,R6是氢、氟或C1－4烷基,并且m是1或2,当m是1时,C=C代表C≡C,而当m是2时,C=C代表C=C。

主权项

1．一种通式(Ⅰ)的有机亚铜化合物其中：R1，R2和R3各自独立地为C1-8烷基、C1-8烷氧基、芳基或芳氧基，R4和R5各自独立地为氢、氟、CnF2n+1或CnH2n+1基团，n是1到6的整数，R6是氢、氟或C1-4烷基，并且m是1或2，当m是1时，代表C≡C，而当m是2时，C代表C=C。