[发明专利]用于抗光蚀剂的新的单体,单体聚合物及其抗光蚀剂组合物无效
| 申请号： | 99118358.4 | 申请日： | 1999-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN1159319C | 公开（公告）日： | 2004-07-28 |
| 发明（设计）人： | 郑载昌;卢致亨;郑旼镐;孔根圭;李根守;白基镐 | 申请（专利权）人： | 现代电子产业株式会社 |
| 主分类号： | C07D495/08 | 分类号： | C07D495/08;C07D493/08;C07D495/22;C07D493/22;C08F234/00;G03F7/039;G03F7/00;H01L21/02;H01L21/31;//;333∶00;333∶00) |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王达佐;王维玉 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及用于制备抗光蚀剂聚合物的新的单体，抗光蚀剂聚合物及其抗光蚀剂组合物。本发明的单体由下列化学式1所表示。∴ | ||
| 搜索关键词： | 用于 抗光蚀剂 单体 聚合物 及其 组合 | ||
【主权项】：
1.一种下列化学式1表示的抗光蚀剂单体：![]()
化学式1其中，X和Y各自代表氧，硫或CH2；n代表1～5的整数；R1、R2和R3各自代表氢；R4代表-COO-R′-OH，其中R′为C1～C5亚烷基。
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