[发明专利]方酸染料/碘鎓盐复合物及其用途无效
| 申请号： | 99107347.9 | 申请日： | 1999-05-19 |
| 公开（公告）号： | CN1107884C | 公开（公告）日： | 2003-05-07 |
| 发明（设计）人： | 何勇;李妙贞;王尔鉴;吴飞鹏 | 申请（专利权）人： | 中国科学院感光化学研究所 |
| 主分类号： | G03F7/029 | 分类号： | G03F7/029;G03F7/00 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 李柏 |
| 地址： | 100101 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明属于高分子化学和感光高分子材料领域，特别是涉及可见光/近红外光光敏聚合复合引发剂—方酸染料/碘翁盐复合物及其用途。复合物是由方酸染料和碘翁盐以碘翁盐的重量是方酸染料重量的1～10倍，在溶剂中通过静电相互作用和偶极相互作用形成的；方酸染料/碘翁盐复合物能作为烯类单体可见光/近红外光光聚合的引发剂或作为光固化涂层材料、光刻材料、光成像材料、全息记录材料、光学材料以及三维造型材料可见光/近红外光光固化的引发剂。 | ||
| 搜索关键词： | 染料 碘鎓盐 复合物 及其 用途 | ||
【主权项】：
1.一种方酸染料/碘鎓盐复合物的用途，其特征在于：方酸染料/碘鎓盐复合物能作为烯类单体可见光/近红外光光聚合的引发剂或作为光固化材料可见光/近红外光光固化时的引发剂，方酸染料用量为光反应体系总量的0.001-1wt％；其中复合物是由方酸染料和碘鎓盐以碘鎓盐的重量是方酸染料重量的1～10倍，在溶剂中通过静电相互作用和偶极相互作用形成的。
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- 2007-02-06 - 2009-03-11 - G03F7/029
- 负性工作辐射敏感性组合物包括聚合物粘结剂，该聚合物粘结剂包括聚合物主链和与该聚合物主链连接的由结构(I)表示的咔唑衍生物，其中Y是直接键或连接基，R1-R8独立地是氢，或烷基、烯基、芳基、卤素、氰基、烷氧基、酰基、酰氧基或羧酸酯基，或任何相邻的R1至R8基团可以一同形成碳环或杂环基团或稠合芳族环。该组合物能对最大波长为150-1500nm的辐射敏感，并且可以用来制备负性工作可成像元件，该可成像元件成像和显影为平版印刷板。
- 专利分类
