[发明专利]核径迹防伪膜的制造方法有效
| 申请号： | 97120352.0 | 申请日： | 1997-12-12 |
| 公开（公告）号： | CN1067786C | 公开（公告）日： | 2001-06-27 |
| 发明（设计）人： | 严玉顺;何向明;张泉荣;万春荣;姜长印;王守忠 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | G09F3/00 | 分类号： | G09F3/00 |
| 代理公司： | 清华大学专利事务所 | 代理人： | 罗文群 |
| 地址： | 10008*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种核径迹防伪膜的制造方法，包括下列各步骤选用透明塑料薄膜为原料，用反应堆产生的中子轰击铀－２３５产生的裂变碎片幅照塑料薄膜，再利用紫外线通过成像底片或模板对辐照后的塑料薄膜成像，最后用化学试剂对塑料薄膜进行选择性部分蚀刻，或利用印刷机把抗蚀刻的物质按图案要求印刷在塑料薄膜上，再用化学试剂对塑料薄膜进行选择性蚀刻，即为本发明的产品。本发明具有设备简单、易于实现规模生产，成品率高等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 径迹 防伪 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种核径迹防伪膜的制造方法，包括下列步骤：(1)、选用厚度为5-25μm的透明塑料薄膜为原材料，利用核反应堆产生的中子轰击铀-235放出的裂变碎片辐照塑料薄膜，反应堆功率为1-5000千瓦，辐照时间为0.1-300秒，或利用高能离子加速器产生的重离子来辐照塑料薄膜，辐照时间为0.5-200秒；(2)、利用紫外线通过成象底片或模板对辐照后的塑料薄膜成象，紫外线灯功率为500-2000瓦，灯与薄膜的距离为0.1-50cm，成象时间为10秒-180分钟；(3)、用化学试剂对上述成象后的塑料薄膜进行选择性部分蚀刻，即被紫外线照射的地方被蚀刻出微孔，形成乳白色图案，蚀刻剂为NaOH、KOH或H2SO4溶液，蚀刻时间为1-180分钟，蚀刻出清晰的图案后，洗涤晾干。
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