[发明专利]核径迹防伪膜的制造方法

权利要求书

1、一种核径迹防伪膜的制造方法，包括下列步骤：

(1)、选用厚度为5-25μm的透明塑料薄膜为原材料，利用核反应堆产生的中子轰击铀-235放出的裂变碎片辐照塑料薄膜，反应堆功率为1-5000千瓦，辐照时间为0.1-300秒，或利用高能离子加速器产生的重离子来辐照塑料薄膜，辐照时间为0.5-200秒；

(2)、利用紫外线通过成象底片或模板对辐照后的塑料薄膜成象，紫外线灯功率为500-2000瓦，灯与薄膜的距离为0.1-50cm，成象时间为10秒-180分钟；

(3)、用化学试剂对上述成象后的塑料薄膜进行选择性部分蚀刻，即被紫外线照射的地方被蚀刻出微孔，形成乳白色图案，蚀刻剂为NaOH、KOH或H₂SO₄溶液，蚀刻时间为1-180分钟，蚀刻出清晰的图案后，洗涤晾干。

2、如权利要求1所述的制造方法，其中所述的成像底片是局部透明的模板。

3、如权利要求1所述的制造方法，其中所述的成像底片是局部镂空的模板。

4、如权利要求1所述的制造方法，其中所述的透明塑料薄膜为聚丙稀、聚酯或聚碳酸酯中的任何一种。

5、一种核径迹防伪膜的制造方法，包括下列步骤：

(1)选用厚度为5-25μm的透明塑料薄膜为原材料，利用核反应堆产生的中子轰击铀-235放出的裂变碎片辐照塑料薄膜，反应堆功率为1-5000千瓦，辐照时间为0.1-300秒，或利用高能离子加速器产生的重离子来辐照塑料薄膜，辐照时间为0.5-200秒；

(2)、利用紫外线灯对辐照后的塑料薄膜照射，紫外线灯功率为50-2000瓦，灯与薄膜的距离为0.1-50cm，成象时间为10秒-180分钟；

(3)、利用印刷机把抗蚀刻的物质按图案要求印刷在塑料薄膜上，抗蚀刻物质为聚丙烯、聚酯或聚碳酸酯树脂溶液；

(4)、用化学试剂对上述第三步的塑料薄膜进行选择性部分蚀刻，即没有印刷上抗蚀刻物质的部分被蚀刻出微孔，形成乳白色图案，蚀刻剂为NaOH、KOH或H₂SO₄溶液，蚀刻时间为1-180分钟，蚀刻出清晰的图案后，洗涤晾干。

6、如权利要求3所述的制造方法，其中所述的透明塑料薄膜为聚丙烯、聚酯或聚碳酸酯中的任何一种。

7、如权利要求1或5所述的制造方法，其中所述的蚀刻温度为50℃。

8、如权利要求1或5所述的制造方法，其中所述的蚀刻温度为60℃。

9、如权利要求1或5所述的制造方法，其中所述的蚀刻温度为70℃。

10、如权利要求1或5所述的制造方法，其中所述的蚀刻温度为80℃。