[发明专利]核径迹防伪膜的制造方法

说明书

本发明涉及一种核径迹防伪膜的制造方法，特别是涉及核技术、材料技术和化学化工技术的综合性技术来制造核径迹微孔防伪膜的方法。

在商品经济活动中，时常出现假冒的商品和票据，因而人们纷纷采用各种防伪膜。以往的防伪膜，一般采用特殊纸张、特殊油墨印刷防伪图案，或者采用热敏等特殊材料制作图案，或者采用激光全息照相技术制作防伪图案。这些技术所需材料和设备易于得到，有制备能力的单位和个人很多，因此伪造容易，难于确实起到防伪作用。

申请号为94104555.2和申请号为93106945.9的中国发明专利，公开了一种核径迹膜防伪标记的制造方法，防伪图案的形成是在辐照时，在辐照源与塑料薄膜之间放置一块图案镂空的模板，塑料薄膜被辐照源局部辐照，然后把塑料薄膜蚀刻，形成图案。受镂空模板的限制，这项技术的特点是图案不够精细，且制造过程复杂。由于成象工序是在人不能靠近的环境下进行，因此自动化辐照成象设备非常复杂，图案有时模糊，因而成品率低。

本申请人曾经提出过名称为：“一种防伪标志的制备方法”，申请号为：96120701.9的专利申请，该技术利用镂空模板进行辐照成像制备核径迹防伪膜。在该技术中，辐照时，要求模板与塑料薄膜贴得很紧，且必须相对静止不动，稍有距离变化或相对移动，都会引起图像模糊，因此该技术的成品率很低。而且，在辐照条件下成像，难以人工控制，使产品成品率很低，用模板成像，由于支撑原因，使图案不能连续，而且产生的图案不精细，不利于大规模生产。

本发明的目的是设计一种制造核径迹防伪膜的方法，其成象过程用紫外线完成，与照相原理一样，图案可以任意设计，或者局部蚀刻成象。成象工艺过程在非辐照的环境下进行，不受空间的限制和环境的限制。使设备相对简单，易于实现规模化生产，成品率高。

本发明设计的核径迹防伪膜的制造方法，包括下列各步骤：

1、选用厚度为5-25μm的透明塑料薄膜(聚丙烯、聚酯或聚碳酸酯)为原材料，利用核反应堆产生的中子轰击铀-235放出的裂变碎片辐照塑料薄膜，反应堆功率为1-5000千瓦，辐照时间为0.1-300秒。或者，利用高能离子加速器产生的重离子来辐照塑料薄膜，辐照时间为0.5-200秒。

2、利用紫外线通过成象底片或模板对辐照后的塑料薄膜成象，紫外线灯功率为500-2000瓦，灯与薄膜的距离为0.1-50cm，成象时间为10秒-180分钟。成象原理见图1。

3、然后用化学试剂对塑料薄膜进行选择性部分蚀刻，蚀刻剂为NaOH、KOH或H₂SO₄溶液，蚀刻时间为1-180分钟，蚀刻出清晰的图案后，洗涤晾干，即为本发明的核径迹膜。所谓选择性蚀刻是指被紫外线照射的地方被蚀刻出微孔，形成乳白色图案。

本发明设计的核径迹防伪膜，还可以采用另一种制造方法，包括下列步骤：

1、选用厚度为5-25μm的透明塑料薄膜(聚丙烯、聚酯或聚碳酸酯)为原材料，利用核反应堆产生的中子轰击铀-235使其放出裂变碎片，利用裂变碎片来辐照塑料薄膜，反应堆功率为1-5000千瓦，辐照时间为0.1-300秒。或者，利用高能离子加速器产生的重离子来辐照塑料薄膜，辐照时间为0.5-200秒。

2、利用紫外灯对辐照后的塑料薄膜照射，紫外线灯功率为50-2000瓦，灯与薄膜的距离为0.1-50cm，成象时间为10秒-180分钟。成象原理见图1。

3、利用印刷机把抗蚀刻的物质按图案要求印刷在塑料薄膜上，使印刷上抗蚀刻物质的部分不被蚀刻。抗蚀刻物质为聚丙烯、聚酯或聚碳酸酯树脂溶液，或者其它抗NaOH、KOH或H₂SO₄溶液腐蚀的可印刷的材料。

4、然后用化学试剂对塑料薄膜进行选择性部分蚀刻，蚀刻剂为NaOH、KOH或H₂SO₄溶液，蚀刻时间为1-180分钟，蚀刻出清晰的图案后，洗涤晾干，即为本发明的核径迹膜。所谓选择性蚀刻是指没有印刷上抗蚀刻物质的部分被蚀刻出微孔，形成乳白色图案。

上述制备方法中，蚀刻的温度可以为50℃、60℃、70℃或80℃。

在上述第一种方法中，成象底片可以是局部透明的模板，也可以是局部镂空的模板。紫外线通过透明或镂空部分照射在辐照后的塑料薄膜上，蚀刻时，没有被紫外线照射的部分不被蚀刻，维持原来的透明特性，而被紫外线照射的部分被蚀刻成乳白色，形成防伪图案。在上述第二种方法中的印刷机必须是塑料薄膜印刷机、柔版印刷机或其它可印刷塑料薄膜的印刷设备。

附图说明：