[发明专利]含光稳定UV－A滤光剂的化妆品制剂无效
| 申请号： | 97117653.1 | 申请日： | 1997-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN1082362C | 公开（公告）日： | 2002-04-10 |
| 发明（设计）人： | Ｔ·哈拜克;Ａ·奥穆勒;Ｖ·施尔曼;Ｈ·怀斯坦费尔德;Ｔ·伍恩施 | 申请（专利权）人： | 巴斯福股份公司 |
| 主分类号： | A61K7/42 | 分类号： | A61K7/42;A61P17/16 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 周中琦 |
| 地址： | 联邦德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种含防晒剂的化妆品制剂，防晒剂用来防止人体表皮受范围在280到400纳米的紫外线侵害，该防晒剂包括有效量的结构式为I的化合物作为光稳定的UV-A滤光剂，它可以单独或与对于化妆品制剂来说是已知的吸收紫外区域射线的化合物共同包含于适用于化妆品的载体中。式中R1，R2和R3是氢原子或脂肪族或环脂肪基团，每种基团都至多含18个碳原子，对于R1，R2和R3基团的任何两个都可能一起形成一个有5或6个原子的环，R4和R5是具有5到12个环上原子的未取代或取代的芳香基或杂环芳香基基团，另外R5也可以是氢原子。$#! | ||
| 搜索关键词： | 稳定 uv 滤光 化妆品 制剂 | ||
【主权项】：
1.结构式为I的化合物的应用式中R1，R2和R3是氢原子或脂肪族或环脂肪族基团，每种基团都至多含18个碳原子，对于R1，R2和R3基团的任何两个都可能一起形成一个有5或6个原子的环，R3和R5是具有5到12个环上原子的未取代或取代的芳香基或杂环芳香基基团，另外R5也可以是氢原子，用做化妆品制剂中的UV-A滤光剂，它可以单独使用或者与吸收紫外区域射线的化妆品制剂中已知的化合物结合使用，从而保护人体皮肤免受太阳光线的侵害。
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