[发明专利]含光稳定UV－A滤光剂的化妆品制剂

权利要求书

1.结构式为I的化合物的应用

式中R¹，R²和R³是氢原子或脂肪族或环脂肪族基团，每种基团都至多含18个碳原子，对于R¹，R²和R³基团的任何两个都可能一起形成一个有5或6个原子的环，R³和R⁵是具有5到12个环上原子的未取代或取代的芳香基或杂环芳香基基团，另外R⁵也可以是氢原子，用做化妆品制剂中的UV-A滤光剂，它可以单独使用或者与吸收紫外区域射线的化妆品制剂中已知的化合物结合使用，从而保护人体皮肤免受太阳光线的侵害。

2.权利要求1中的结构式为I的化合物的应用，式中R⁵是氢原子，R¹，R²和R³是低分子量的烷基基团。

3.权利要求1中的结构式为I的化合物的应用，式中R⁵是氢原子，R¹，R²和R³是低分子量的烷基基团，R⁴是未取代或取代的噻吩基。

4.权利要求1中的结构式为I的化合物的应用，式中R¹，R²和R³是低分子量的烷基基团，R⁵是氢原子，R⁴是未取代或取代的4-羟基-或4-烷氧基苯基基团。

5.一种化妆品制剂，它包含用来防止人体表皮免受范围在280到400纳米的紫外线侵害的防晒剂，该防晒剂包含在适用于化妆品的载体上的作为光稳定UV-A滤光剂的有效量的式I化合物，或者还含有在适用于化妆品的载体上的吸收UV射线的化妆品制剂中已知的化合物。

式中R¹，R²和R³是氢原子或脂肪族或环脂肪族基团，每种基团都至多含18个碳原子，对于R¹，R²和R³基团的任何两个都可能一起形成一个有5或6个原子的环，R⁴和R⁵是具有5到12个环上原子的未取代或取代的芳香基或杂环芳香基基团，另外R⁵也可以是氢原子。

6.权利要求5的化妆品制剂，含有结构式为I的化合物作为UV-A滤光剂，式中R⁵是氢原子，R¹，R²和R³是低分子量的烷基基团。

7.权利要求5的化妆品制剂，含有结构式为I的化合物作为UV-A滤光剂，式中R⁵是氢原子，R¹，R²和R³是低分子量的烷基基团，R⁴是未取代或取代的噻吩基。

8.权利要求5的化妆品制剂，含有结构式为I的化合物作为UV-A滤光剂，式中R¹，R²和R³是低分子量的烷基基团，R⁵是氢原子，R⁴是未取代或取代的4-羟基-或4-烷氧基苯基基团。

9.权利要求5的化妆品制剂，其中适用于化妆品的载体包含至少一个油相。