[发明专利]反应烧结陶瓷及其制备工艺无效
| 申请号： | 96117954.6 | 申请日： | 1996-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN1157276A | 公开（公告）日： | 1997-08-20 |
| 发明（设计）人： | 金井恒行;前田邦裕;千叶秋雄 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立制作所 |
| 主分类号： | C04B35/00 | 分类号： | C04B35/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 徐汝巽 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的是提供强度和断裂韧性都优异的致密碳化硅、氮化硅或氧化铝陶瓷以及提供制备这种陶瓷的工艺。发生化学反应的界面横截毛坯内部，使化学反应在局部区域内进行以制备相对密度至少为95％的致密陶瓷，该陶瓷中形成基体的金属元素的残余含量小于1vol％。 | ||
| 搜索关键词： | 反应 烧结 陶瓷 及其 制备 工艺 | ||
【主权项】：
1.一种含有不同于起始原料并在烧结过程中由起始原料通过化学反应所生成的化合物的反应烧结陶瓷，其中所说陶瓷的组成晶粒在一定的结晶学方向上取向，取向程度以F值表示通过极图法测定至少为0.5；所说陶瓷的相对密度至少为95％；制成毛坯时组成中所包含的起始原料在所说陶瓷中的残余含量小于1vol％。
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