[发明专利]构成薄膜致动的反射镜阵列的方法无效
| 申请号: | 96102420.8 | 申请日: | 1996-02-17 |
| 公开(公告)号: | CN1153311A | 公开(公告)日: | 1997-07-02 |
| 发明(设计)人: | 具明権;郑在爀 | 申请(专利权)人: | 大宇电子株式会社 |
| 主分类号: | G02F1/00 | 分类号: | G02F1/00;G09F9/00;G03B21/00 |
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 蹇炜 |
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 一种制造供在光学投影系统中使用的M×N个薄膜致动的反射镜的阵列的方法,包括下述步骤提供一有源矩阵;淀积一薄膜弹性层;在薄膜待除层中形成一空腔阵列;淀积一弹性层并在其中形成一导管阵列;相继淀积一第二薄膜层、一薄膜电致移位层及一第一薄膜层并将它们制成图案,构成一致动的反射镜结构阵列;形成完全覆盖该阵列的一薄膜保护层;去除薄膜待除层;冲洗掉浸蚀剂;去除冲洗剂及薄膜保护层,而构成M×N个薄膜反射镜的阵列。 | ||
| 搜索关键词: | 构成 薄膜 反射 阵列 方法 | ||
【主权项】:
1、一种制造供在光学投影系统中使用的M×N个薄膜致动的反射镜的阵列的方法,其中M与N为整数,该方法包括下述步骤:提供一个有源矩阵,包含一块基板、M×N个连接端的一个阵列及M×N个晶体管的一个阵列,其中各该连接端是电连接在晶体管阵列中的一个对应的晶体管上的;在有源矩阵的顶部淀积一个薄膜待除层;在薄膜待除层中形成M×N对空腔的一个阵列,各对中的空腔之一包围连接端之一;在包含空腔的薄膜待除层的顶部淀积一个用绝缘材料制成的弹性层;在弹性层中形成M×N个导管的一个阵列,各该导管从弹性层的顶部延伸到一个对应的连接端的顶部;相继地在弹性层的顶部淀积一个第二薄膜层、一个薄膜电致移位层及一个第一薄膜层,其中该第二薄膜层是用导电材料制成,及该第一薄膜层是用导电与反光材料制成的;分别将第一薄膜层、薄膜电致移位层、第二薄膜层及弹性层制成M×N个第一薄膜电极的一个阵列、M×N个薄膜电致移位件的一个阵列、M×N个第二薄膜电极的一个阵列及M×N个弹性件的一个阵列的图案,直到暴露薄膜待除层为止,借此构成M×N个致动的反射镜结构的一个阵列,各该致动的反射镜结构具有一个顶部表面与侧面,并包含第一薄膜电极、薄膜电致移位件、第二薄膜电极及弹性件;形成一个完全覆盖各致动反射镜结构的顶部表面与侧面的薄膜保护层;用一种浸蚀剂去除薄膜待除层;用一种第一冲洗剂冲洗掉浸蚀剂;去除第一冲洗剂;以及去除薄膜保护层,借此构成M×N个薄膜致动的反射镜的阵列。
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