[发明专利]螺旋波等离子处理方法及装置无效
| 申请号： | 95104699.3 | 申请日： | 1995-05-04 |
| 公开（公告）号： | CN1121303A | 公开（公告）日： | 1996-04-24 |
| 发明（设计）人： | 奥村智洋;中山一郎 | 申请（专利权）人： | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号： | H05H1/46 | 分类号： | H05H1/46 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 孙敬国 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种螺旋波等离子处理方法和装置，它在真空容器内设置装载基板的电极，在与真空容器的基板对置的壁面上配置多个放电管，各放电管的周围设有螺旋天线及产生静磁场用线圈。另外还设有使直流电流流入产生磁场用各线圈的天线用高频电源，使得多个产生静磁场用线圈中至少一个线圈产生的静磁场的方向与其它线圈产生的静磁场方向相反，上述方法和装置能在较高真空下产生高密度等离子体，具有成品率高、小型化，适合于大型基板处理等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 螺旋 等离子 处理 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种螺旋波等离子处理方法，其特征在于，将基板装载于真空容器内的电极上，在与真空容器内的基板对置的壁面附近形成封闭静磁场状态下施加高频电磁场产生等离子体，对基板进行处理。
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