[发明专利]螺旋波等离子处理方法及装置无效

专利信息
申请号: 95104699.3 申请日: 1995-05-04
公开(公告)号: CN1121303A 公开(公告)日: 1996-04-24
发明(设计)人: 奥村智洋;中山一郎 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: H05H1/46 分类号: H05H1/46
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 孙敬国
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 螺旋 等离子 处理 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种螺旋波等离子处理方法,其特征在于,将基板装载于真空容器内的电极上,在与真空容器内的基板对置的壁面附近形成封闭静磁场状态下施加高频电磁场产生等离子体,对基板进行处理。

2.一种螺旋波等离子处理方法,在将基板装载于真空容器内的电极上、用配置在真空容器上使得与基板对置的放电管和其周围的螺旋天线及产生静磁场用线圈、产生螺旋波等离子体对基板进行处理的螺旋波等离子处理方法中,其特征在于:

使用多个放电管和其周围的螺旋天线及产生静磁场用线圈;多个产生静磁场用线圈中至少有一个线圈所产生的静磁场的方向与其它线圈产生的静磁场方向相反。

3.一种螺旋波等离子处理装置,其特征在于,在真空容器内设置装载基板用的电极,在与真空容器的基板相对置的壁面上配设多个放电管,各放电管的周围设有螺旋天线及产生静磁场用线圈,多个产生静磁场用线圈内至少有一个线圈产生的静磁场的方向与其它线圈产生的静磁场方向相反。

4.如权利要求3所述的装置,其特征在于,可进一步设置对载置基板的电极施加高频电压的高频电压手段。

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