[发明专利]原子印章生产工艺及配套设备无效
| 申请号： | 93109177.2 | 申请日： | 1993-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN1098044A | 公开（公告）日： | 1995-02-01 |
| 发明（设计）人： | 周立军;翁志平 | 申请（专利权）人： | 周立军;翁志平 |
| 主分类号： | B41K1/00 | 分类号： | B41K1/00;B41C1/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 323000 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 一种涉及原子印章生产工艺及配套设备，其特征在于采用活字排版制凸模、采用单板加温印章成型和采用免压冷浇铸制凹模三种新工艺，优点是节约原材料，操作简便，产品质量好，大大降低成本，与其配套的设备采用组合式结构，结构紧凑，使用方便，减少了占地面积，降低设备成本，特别适合个体经营者使用。 | ||
| 搜索关键词： | 原子 印章 生产工艺 配套 设备 | ||
【主权项】：
1、一种原子印章生产工艺：电脑打字→照相→感光制字模→洗版→烘干→二次感光→剪裁→粘贴制凸模→石膏浇铸制凹模→印章成型→切边→上壳→上油→成品检验，其特征在于：a、采用活字排版制凸模；b、采用免压冷浇铸制凹模；c、采用单板加温印章成型。
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