[其他]新的头孢烯化合物及其制备方法无效
| 申请号: | 86107947 | 申请日: | 1986-11-22 |
| 公开(公告)号: | CN86107947A | 公开(公告)日: | 1987-05-27 |
| 发明(设计)人: | 高谷隆男;坂根和夫;宫井健二;川端浩二 | 申请(专利权)人: | 藤沢药品工业株式会社 |
| 主分类号: | C07D501/56 | 分类号: | C07D501/56 |
| 代理公司: | 中国专利代理有限公司 | 代理人: | 王巍,杨钢 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 本发明有关一个如化学式[I]的新型头孢烯化合物及其药物上可接受的盐。其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、X、n如说明书所述。该化合物及其盐是有高度活性的广谱抗菌剂。 | ||
| 搜索关键词: | 头孢 化合物 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种制备如下结构式的化合物或其盐的方法,式中R′是氨基或保护的氨基,R2是氢、羟基保护基、低级烷基、二囟代低级烷基、环(低级)链烯基、thietanyl、羧基(低级)烷基或保护的羧基(低级)烷基,R3是低级烷基,R4和R5各自是氢、低级烷基、羧基(低级)烷基、低级烷氧基、氨基或保护的氨基,R6是COO、羧基或保护的羧基,X是阴离子,和n是0或1,但须:(i)当R2是羧基(低级)烷基或保护的羧基(低级)烷基、那么R4是氢、R5是氨基,(ii)当R6是COO,那么n是0,以及(iii)当R6是羧基或保护的羧基,那么n是1,其特征包括:(1)使如下结构式的化合物或在氨基位的活性衍生物或其盐式中R1和R2各为如上所定义,或(2)使如下结构式的化合物或其盐在R1a位上进行氨基保护基的去除反应式中R2、R3、R4、R5、R6、X和n各为如上所定义,和P1a是保护的氨基,得到如下结构式的化合物或其盐,式中R2、R3、R4、R5、R6、X和n各为如上所定义。或(3)使如下结构式的化合物或其盐式中R1和R2各为如上所定义、R6a是羧基或保护的羧基、Y是离去基团与如下结构式的化合物或其盐反应式中R3、R4、R5各为如上所定义,得到如下结构式的化合物或其盐式中R1、R2、R3、R4、R5、R6、X和n各为如上所定义。或(4)使如下结构式的化合物或其盐在R6a位上进行羧脱基保护基反应式中R1、R2、R3、R4、R5、X和n各为如上所定义,R6b是保护的羧基,和n是1,得到如下结构式的化合物或其盐式中R1、R2、R3、R4、R5、X和n各为如上所定义,R6b是COO或羧基,但须:(i)R6c是COO,n是0(ii)R6c是羰基,n是1。或(5)使如下结构式的化合物或其盐在R2a位上进行脱羟基保护基反应式中R1、R3、R4、R5、R6、X和n各为如上所定义,和R2a是羟基保护基,得到如下结构式的化合物或其盐式中R1、R3、R4、R5、R6、X和n各为如上所定义。或(6)使如下结构式的化合物或其盐在R5a位上进行脱氨基保护基反应,式中R1、R2、R3、R4、R6、X和n各为如上所定义,且R5a是保护的氨基,得到如下结构式的化合物或其盐式中R1、R2、R3、R4、R6、X和n各为如上所定义。或(7)使如下结构式的化合物或其盐在R2b位上进行脱羧基保护基反应,式中R1、R3、R6、X和n各为如上所定义,且R2b是保护的羧基(低级)烷基。得到如下结构式的化合物或其盐式中R1、R3、R6、X和n各为如上所定义,且R2c是羧基(低级)烷基。或(8)使如下结构式的化合物或其盐式中R2、R3、R4、R5、R6、X和n各为如上所定义,且Z是酸根,与如下结构式的化合物反应式中R1如上所定义,得到如下结构式的化合物式中R1、R2、R3、R4、R5、R6、X和n各为如上所定义。或(9)使如下结构式的化合物或其盐还原,式中R1、R2、R3、R4、R5、R6、X和n各为如上所定义。
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