[实用新型]一种光吸收性能好的单晶硅片有效

专利信息
申请号: 202320343893.4 申请日: 2023-02-28
公开(公告)号: CN219610450U 公开(公告)日: 2023-08-29
发明(设计)人: 张靖;方艺霖;何飞 申请(专利权)人: 扬州永翔新能源科技有限公司
主分类号: H01L31/054 分类号: H01L31/054;H01L31/0232;H02S40/22;G02B7/182;G02B1/11
代理公司: 深圳科湾知识产权代理事务所(普通合伙) 44585 代理人: 马垚
地址: 225000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 实用新型公开了单晶硅片技术领域的一种光吸收性能好的单晶硅片,包括,单晶硅片本体;防反射结构,所述防反射结构设置在单晶硅片本体上;两组结构相同的固定板,两组所述固定板分别设置在单晶硅片本体的两侧;两组结构相同的反射镜,两组所述反射镜均位于单晶硅片本体的上方;两组结构相同的角度调节组件,通过安装框带动反射器定期旋转,进而使得阳光在照射时尽可能地通过反射镜反射到高清玻璃层上,通过高清玻璃层,方便将光透到防反射层上,防反射层将光射下来,落到单晶硅片本体表面,通过防反射层可以减少光源损失,通过可调角度的反射镜,可以尽量将光反射到单晶硅片本体上,从而大大提高了单晶硅片本体的光吸收性能。
搜索关键词: 一种 光吸收 性能 单晶硅
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于扬州永翔新能源科技有限公司,未经扬州永翔新能源科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202320343893.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top