[实用新型]一种光吸收性能好的单晶硅片有效

专利信息
申请号: 202320343893.4 申请日: 2023-02-28
公开(公告)号: CN219610450U 公开(公告)日: 2023-08-29
发明(设计)人: 张靖;方艺霖;何飞 申请(专利权)人: 扬州永翔新能源科技有限公司
主分类号: H01L31/054 分类号: H01L31/054;H01L31/0232;H02S40/22;G02B7/182;G02B1/11
代理公司: 深圳科湾知识产权代理事务所(普通合伙) 44585 代理人: 马垚
地址: 225000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 光吸收 性能 单晶硅
【说明书】:

实用新型公开了单晶硅片技术领域的一种光吸收性能好的单晶硅片,包括,单晶硅片本体;防反射结构,所述防反射结构设置在单晶硅片本体上;两组结构相同的固定板,两组所述固定板分别设置在单晶硅片本体的两侧;两组结构相同的反射镜,两组所述反射镜均位于单晶硅片本体的上方;两组结构相同的角度调节组件,通过安装框带动反射器定期旋转,进而使得阳光在照射时尽可能地通过反射镜反射到高清玻璃层上,通过高清玻璃层,方便将光透到防反射层上,防反射层将光射下来,落到单晶硅片本体表面,通过防反射层可以减少光源损失,通过可调角度的反射镜,可以尽量将光反射到单晶硅片本体上,从而大大提高了单晶硅片本体的光吸收性能。

技术领域

本实用新型涉及单晶硅片技术领域,具体为一种光吸收性能好的单晶硅片。

背景技术

单晶硅作为一种比较活泼的非金属元素晶体,是晶体材料的重要组成部分,处于新材料发展的前沿。单晶硅材料制造要经过如下过程:石英砂-冶金级硅-提纯和精炼-沉积多晶硅锭-单晶硅-硅片切割。其主要用途是用作半导体材料和利用太阳能光伏发电、供热等。

目前的单晶硅片不具备对光照吸收的加强结构,导致光学损失较大,为此,我们提出一种光吸收性能好的单晶硅片。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种光吸收性能好的单晶硅片,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种光吸收性能好的单晶硅片,包括,单晶硅片本体;防反射结构,所述防反射结构设置在单晶硅片本体上;两组结构相同的固定板,两组所述固定板分别设置在单晶硅片本体的两侧;两组结构相同的反射镜,两组所述反射镜均位于单晶硅片本体的上方;两组结构相同的角度调节组件,两组所述反射镜分别与两组所述角度调节组件连接。

作为本实用新型所述一种光吸收性能好的单晶硅片的一种优选方案,其中:所述防反射结构包括设置在单晶硅片本体上的防反射层,所述防反射层上设置有高清玻璃层。

作为本实用新型所述一种光吸收性能好的单晶硅片的一种优选方案,其中:所述防反射层和高清玻璃层的两侧分别与两组所述固定板连接。

作为本实用新型所述一种光吸收性能好的单晶硅片的一种优选方案,其中:所述角度调节组件包括两组结构相同的安装框,两组所述反射镜分别与两组所述安装框连接,两组所述固定板的顶部均设置有电机,两组所述电机的输出轴分别与两组所述安装框连接,两组所述安装框上均设置有位于反射镜上方的挡框。

作为本实用新型所述一种光吸收性能好的单晶硅片的一种优选方案,其中:两组所述固定板上均设置有控制器,且两组所述控制器分别与两组所述电机电性连接。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:通过控制器控制电机定期工作,使得安装框带动反射器定期旋转,进而使得阳光在照射时尽可能地通过反射镜反射到高清玻璃层上,通过高清玻璃层,方便将光透到防反射层上,防反射层将光射下来,落到单晶硅片本体表面,通过防反射层可以减少光源损失,通过可调角度的反射镜,可以尽量将光反射到单晶硅片本体上,从而大大提高了单晶硅片本体的光吸收性能。

附图说明

图1为本实用新型一种光吸收性能好的单晶硅片的整体结构示意图;

图2为本实用新型一种光吸收性能好的单晶硅片的整体结构平面示意图。

图中:1、单晶硅片本体;2、防反射层;3、高清玻璃层;4、固定板;5、电机;6、安装框;7、反射镜;8、挡框;9、控制器。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于扬州永翔新能源科技有限公司,未经扬州永翔新能源科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202320343893.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top